公开(公告)号：US20070254235A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：US11380731

申请日：2006-04-28

申请人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  CARL LARSON ,  DANIEL SANDERS ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG ,  HOA TRUONG ,  GREGORY WALLRAFF

发明人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  CARL LARSON ,  DANIEL SANDERS ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG ,  HOA TRUONG ,  GREGORY WALLRAFF

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757

摘要： Resist compositions that can be used in immersion lithography without the use of an additional topcoat are disclosed. The resist compositions comprise a photoresist polymer, at least one photoacid generator, a solvent; and a self-topcoating resist additive. A method of forming a patterned material layer on a substrate using the resist composition is also disclosed.

摘要翻译： 公开了可用于浸没式光刻中而不使用另外的顶涂层的抗蚀剂组合物。 抗蚀剂组合物包含光致抗蚀剂聚合物，至少一种光致酸产生剂，溶剂; 和自 - 面漆抗蚀剂添加剂。 还公开了使用抗蚀剂组合物在衬底上形成图案化材料层的方法。

公开(公告)号：US20070254236A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：US11380744

申请日：2006-04-28

申请人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  CARL LARSON ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG ,  HOA TRUONG

发明人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  CARL LARSON ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG ,  HOA TRUONG

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A topcoat material for application on top of a photoresist material is disclosed. The topcoat material comprises an acid-inert compound. The topcoat material also comprises a polymer or an oligomer or a cage structure which shows negligible intermixing with the imaging layer and is soluble in aqueous base developer. A method of forming a patterned material layer on a substrate and a coated substrate comprising the topcoat material is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种用于施加在光致抗蚀剂材料上的面漆材料。 面漆材料包含酸惰性化合物。 面漆材料还包括聚合物或低聚物或保持架结构，其与成像层混合可忽略，并且可溶于碱性显影液。 还公开了在基材上形成图案化材料层的方法和包含面漆材料的涂布基材。

公开(公告)号：US20070254237A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：US11380782

申请日：2006-04-28

申请人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  SEAN BURNS ,  DARIO GOLDFARB ,  DAVID MEDEIROS ,  DIRK PFEIFFER ,  MATT PINNOW ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG

发明人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  SEAN BURNS ,  DARIO GOLDFARB ,  DAVID MEDEIROS ,  DIRK PFEIFFER ,  MATT PINNOW ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a topcoat composition comprising a polymer having a dissolution rate of at least 1500 Å/second in an aqueous alkaline developer, and at least one solvent. The topcoat composition can be used to coat a photoresist layer on a material layer on a substrate, for example, a semiconductor chip. Also disclosed is a method of forming a pattern in the material layer of the coated substrate.

摘要翻译： 公开了一种面漆组合物，其包含在含水碱性显影剂中溶解速率至少为1500埃的聚合物和至少一种溶剂。 面漆组合物可用于在基板上的材料层上涂覆光致抗蚀剂层，例如半导体芯片。 还公开了在涂覆的基材的材料层中形成图案的方法。

公开(公告)号：US20130344441A1

公开(公告)日：2013-12-26

申请号：US13530004

申请日：2012-06-21

申请人： RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA K. SUNDBERG ,  ANKIT VORA

发明人： RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA K. SUNDBERG ,  ANKIT VORA

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F228/04

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758

摘要： Provided is a hydrophobic negative tone developable (NTD) resist composition comprising (a) a hydrophobic polymer having (i) at least one nonpolar acid-stable group; and (ii) at least one nonpolar acid-labile group, and (b) a photoacid generator (PAG) that may or may not be bound to the polymer, wherein a nonpolar aromatic or aliphatic organic hydrocarbon solvent is used to develop the unexposed regions of the NTD resist film and the resist film is not developable in an aqueous base developer, such as 0.26 N TMAH.

摘要翻译： 本发明提供一种疏水性阴离子可显影（NTD）抗蚀剂组合物，其包含（a）疏水性聚合物，其具有（i）至少一种非极性酸稳定基团; 和（ii）至少一个非极性酸不稳定基团，和（b）可以或不结合聚合物的光酸产生剂（PAG），其中使用非极性芳族或脂族有机烃溶剂来显影未曝光区域 的NTD抗蚀剂膜和抗蚀剂膜不能在碱性显影液中显影，例如0.26N TMAH。