公开(公告)号：US06902871B2

公开(公告)日：2005-06-07

申请号：US10264461

申请日：2002-10-03

申请人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach ,  Louis J. Bintz

发明人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach ,  Louis J. Bintz

IPC分类号： G02B6/12 ,  G02B6/136 ,  G02B6/138 ,  G02F1/065 ,  G03F7/09

CPC分类号： G02B6/138 ,  G02B6/136 ,  G02B2006/12097 ,  G02B2006/121 ,  G02F1/065

摘要： A microfabrication process for preparing articles in which a precursor article that includes (a) a substrate, (b) a first polymer layer overlying the substrate, (c) a second polymer layer overlying the first polymer layer, (d) a metal hardmask layer overlying the second polymer layer, and (e) a photodefinable layer overlying the metal hardmask layer is subjected to photolithographic imaging, developing, and plasma etching steps to form an article that includes the substrate and portions of the first polymer layer arranged in a pattern corresponding to the pattern of the photomask used for photolithographic imaging.

摘要翻译： 一种用于制备制品的微加工方法，其中包括（a）基材，（b）覆盖所述基材的第一聚合物层，（c）覆盖所述第一聚合物层的第二聚合物层，（d）金属硬掩模层 覆盖第二聚合物层，和（e）覆盖在金属硬掩模层上的可光限定层进行光刻成像，显影和等离子体蚀刻步骤，以形成包括基板的第一聚合物层的部分和以对应的图案排列的第一聚合物层的部分 涉及用于光刻成像的光掩模的图案。

公开(公告)号：US07250712B2

公开(公告)日：2007-07-31

申请号：US10761742

申请日：2004-01-21

申请人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach

发明人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach

IPC分类号： H01J1/00

CPC分类号： G02F1/065 ,  G02F1/3558 ,  H01L21/76885 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L29/45 ,  H01L51/0021 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2924/0001 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/0101 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01027 ,  H01L2924/01061 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/00

摘要： In one aspect, a microelectrode comprising an upper surface, two walls, and a polymer core is described, wherein each of the two walls forms an angle with a lower surface, and the upper surface and each of the two walls comprises a metal thin film in contact with the polymer core. The lower surface, however, lacks a continuous metal thin film.In another aspect, a microelectrode comprising a metal thin film is described in which the metal thin film has a thickness and a plane bisects the thickness. The plane forms an angle with a lower surface that lacks a contiuous metal thin film. The metal thin film is in contact with a supporting polymer having an upper surface that also lacks a continuous metal thin film.

摘要翻译： 一方面，描述了包括上表面，两个壁和聚合物芯的微电极，其中两个壁中的每一个与下表面形成一角度，并且两个壁的上表面和每一个包括金属薄膜 与聚合物芯接触。 然而，下表面缺少连续的金属薄膜。 在另一方面，描述了包括金属薄膜的微电极，其中金属薄膜具有将厚度平分的厚度和平面。 平面与缺少连续金属薄膜的下表面形成一个角度。 金属薄膜与具有上表面的支撑聚合物接触，上表面也缺少连续的金属薄膜。

公开(公告)号：US06852563B1

公开(公告)日：2005-02-08

申请号：US10762030

申请日：2004-01-21

申请人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach ,  Dan L. Jin

发明人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach ,  Dan L. Jin

IPC分类号： G02F1/065 ,  H01L21/00 ,  G02F1/35 ,  G03C5/00

CPC分类号： G02F1/065 ,  G02F2201/12

摘要： A process for fabricating an electro-optic device is decribed that includes: a) providing a substrate comprising at least two polymer micro-ridges, where each polymer micro-ridge comprises an upper surface and two walls, and the two walls form an angle with a lower surface; b) depositing a metal thin film on the upper surface, the two walls, and the lower surface; c) etching a predetermined amount of the deposited metal thin film on the lower surface, thereby forming two electrodes separated by a gap; d) depositing a nonlinear optical polymer in the gap between the two electrodes; and e) poling the nonlinear optical polymer to induce electro-optic activity.

摘要翻译： 描述了一种用于制造电光器件的方法，其包括：a）提供包含至少两个聚合物微脊的基底，其中每个聚合物微脊包括上表面和两个壁，并且两个壁与 下表面 b）在上表面，两个壁和下表面上沉积金属薄膜; c）在下表面上蚀刻预定量的沉积金属薄膜，从而形成由间隙分开的两个电极; d）在两个电极之间的间隙中沉积非线性光学聚合物; 和e）极化非线性光学聚合物以诱导电光活性。

公开(公告)号：US07241394B2

公开(公告)日：2007-07-10

申请号：US10761902

申请日：2004-01-21

申请人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach

发明人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach

IPC分类号： H01B13/00 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L24/13 ,  H01L21/76885 ,  H01L24/11 ,  H01L51/0021 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2924/0001 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/0101 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01027 ,  H01L2924/01061 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/00

摘要： A process for fabricating a microelectrode is described that includes: a) providing a substrate comprising at least one polymer micro-ridge, where the polymer micro-ridge comprises an upper surface and two walls, and the two walls form an angle with a lower surface; b) depositing a metal thin film on the upper surface, the two walls, and the lower surface; and c) etching a predetermined amount of the deposited metal thin film on the lower surface to form the microelectrode.

摘要翻译： 描述了一种制造微电极的方法，包括：a）提供包含至少一个聚合物微脊的基底，其中聚合物微脊包括上表面和两个壁，并且两个壁与下表面形成一角度 ; b）在上表面，两个壁和下表面上沉积金属薄膜; 和c）在下表面上蚀刻预定量的沉积的金属薄膜以形成微电极。