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    Multiple degree of freedom actuator
    4.
    发明授权
    Multiple degree of freedom actuator 有权
    多自由度执行机构

    公开(公告)号：US08768157B2

    公开(公告)日：2014-07-01

    申请号：US13247898

    申请日：2011-09-28

    申请人： Roman C. Gutierrez ,  Robert J. Calvet ,  Ankur Jain

    发明人： Roman C. Gutierrez ,  Robert J. Calvet ,  Ankur Jain

    IPC分类号： G03B17/00

    CPC分类号： H02N1/006 ,  G02B26/0875 ,  G02B27/646 ,  G03B3/10 ,  G03B2205/0015 ,  G03B2205/0046 ,  G03B2205/0053 ,  H04N5/23287

    摘要： A multiple degree of freedom actuator can have at least one first MEMS actuator configured to move a platform in translation and at least one second MEMS actuator configured to move the platform in a different direction, e.g., tangentially. The first MEMS actuator(s) can facilitate autofocus and/or zoom, for example. The second MEMS actuator(s) can facilitate optical image stabilization (OIS), for example.

    摘要翻译： 多自由度致动器可以具有至少一个第一MEMS致动器，其被配置为移动平移平台并且至少一个第二MEMS致动器被配置成沿着不同的方向（例如切向地）移动平台。 例如，第一MEMS致动器可以促进自动对焦和/或变焦。 例如，第二MEMS致动器可以促进光学图像稳定（OIS）。

    ROTATIONALLY DEPLOYED ACTUATORS
    5.
    发明申请
    ROTATIONALLY DEPLOYED ACTUATORS 有权
    旋转执行器

    公开(公告)号：US20120120262A1

    公开(公告)日：2012-05-17

    申请号：US12946646

    申请日：2010-11-15

    申请人： Roman C. Gutierrez ,  Guiqin Wang ,  Xiaolei Liu ,  Robert J. Calvet ,  Ankur Jain

    发明人： Roman C. Gutierrez ,  Guiqin Wang ,  Xiaolei Liu ,  Robert J. Calvet ,  Ankur Jain

    IPC分类号： H04N5/225 ,  C23F1/00 ,  B23K26/00 ,  H02N11/00 ,  B23P11/00

    CPC分类号： H04N5/2254 ,  G03B3/10 ,  G03B2205/0007 ,  G03B2205/0046 ,  G03B2205/0069 ,  H02N1/008 ,  H04N5/2257 ,  Y10T29/49826

    摘要： A method for making an actuator includes forming, e.g., using photolithography techniques, a substantially planar actuator device of an electrically conductive material, e.g., a semiconductor, to include an outer frame, a fixed frame coupled to the outer frame for rotational movement relative thereto, a moveable frame coupled to the outer frame for rotational movement relative thereto, and an actuator incorporating a plurality of interdigitated teeth, a fixed portion of which is attached to the fixed frame and a moving portion of which is attached to the moveable frame. The fixed frame is then rotated to a deployed position relative to the outer frame such that the fixed portion of the actuator teeth is disposed at a selected angle relative to the moving portion of the actuator teeth, and the position of the fixed frame relative to the outer frame is then fixed at the deployed position.

    摘要翻译： 制造致动器的方法包括例如使用光刻技术形成例如半导体的导电材料的基本上平面的致动器装置，以包括外框架，联接到外框架的固定框架，用于相对于外框架的旋转运动 ，联接到所述外框架以用于相对于所述外框架旋转运动的可移动框架，以及包括多个交叉齿的致动器，其固定部分附接到所述固定框架，并且其移动部分附接到所述可移动框架。 然后，固定框架相对于外框架旋转到展开位置，使得致动器齿的固定部分相对于致动器齿的移动部分以选定的角度设置，并且固定框架相对于 外框然后固定在展开位置。

    Actuator motion control features
    7.
    发明授权
    Actuator motion control features 有权
    执行器运动控制功能

    公开(公告)号：US09061883B2

    公开(公告)日：2015-06-23

    申请号：US12946624

    申请日：2010-11-15

    申请人： Roman C. Gutierrez ,  Robert J. Calvet ,  Xiaolei Liu ,  Guiqin Wang ,  Ankur Jain

    发明人： Roman C. Gutierrez ,  Robert J. Calvet ,  Xiaolei Liu ,  Guiqin Wang ,  Ankur Jain

    IPC分类号： G02B7/04 ,  G03B13/34 ,  B81B7/00

    CPC分类号： B81B7/00 ,  B81B7/0016 ,  B81B2201/047 ,  Y10T29/49002

    摘要： A method for making a motion control feature for an actuator device of a type that has a moveable component coupled to an opposing fixed component for out-of-plane rotational movement relative thereto includes forming first and second flaps respectively extending from the moveable and fixed components and toward the opposing component and operable to effect one or more of damping movement of the moveable component relative to the fixed component and/or restraining movement of the moveable component relative to the fixed component in a direction substantially perpendicular to the actuator device.

    摘要翻译： 一种制造用于致动器装置的运动控制特征的方法，所述致动器装置具有联接到相对的固定部件的可移动部件，用于相对于其相对的固定部件进行平面外旋转运动，所述方法包括形成分别从可移动和固定部件延伸的第一和第二翼片 并且朝向相对的部件并且可操作以实现可移动部件相对于固定部件的阻尼运动和/或可移动部件相对于固定部件在大致垂直于致动器装置的方向上的约束运动中的一个或多个。

    MEMS actuator device deployment
    8.
    发明授权
    MEMS actuator device deployment 有权
    MEMS执行机构部署

    公开(公告)号：US08941192B2

    公开(公告)日：2015-01-27

    申请号：US13247888

    申请日：2011-09-28

    申请人： Robert J. Calvet ,  Xiaolei Liu ,  Ankur Jain ,  Lakshminarayan Hariharan ,  Roman C. Gutierrez

    发明人： Robert J. Calvet ,  Xiaolei Liu ,  Ankur Jain ,  Lakshminarayan Hariharan ,  Roman C. Gutierrez

    IPC分类号： H02N1/00 ,  G03B17/00 ,  G03B5/00 ,  B81B3/00 ,  G03B3/10

    CPC分类号： G03B5/00 ,  B81B3/0037 ,  B81B2201/033 ,  B81B2203/053 ,  G03B3/10 ,  G03B2205/0007 ,  G03B2205/0084 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T74/18992

    摘要： A method for making an actuator device includes forming a substantially planar structure having a stage resiliently supported for movement within a plane of the structure, an actuator coupled to an outer periphery of the stage and operable to apply a force acting in the plane and tangentially to the stage when actuated, the actuator comprising a fixed frame and a moving frame resiliently supported for reciprocal movement relative to the fixed frame by a motion control flexure, and an outer frame surrounding and supporting the stage and the actuator. The moving frame is moved to a deployed position that is coplanar with, parallel to and spaced apart from the fixed frame at a selected distance, and the moving frame is then fixed at the deployed position for substantially rectilinear, perpendicular movement relative to the fixed frame.

    摘要翻译： 一种用于制造致动器装置的方法包括形成基本平坦的结构，其具有弹性支撑以在所述结构的平面内移动的台阶;致动器，其联接到所述平台的外周边并且可操作以施加作用在所述平面中的切向和切向地 致动器包括固定框架和弹性支撑的运动框架，用于通过运动控制挠曲件相对于固定框架往复运动，以及围绕并支撑平台和致动器的外框架。 移动框架被移动到展开位置，该展开位置与固定框架平行并间隔开一定距离，然后移动框架固定在展开位置，以相对于固定框架基本上直线，垂直移动 。

    Guard trench
    9.
    发明授权
    Guard trench 有权
    守卫沟

    公开(公告)号：US08884381B2

    公开(公告)日：2014-11-11

    申请号：US12946495

    申请日：2010-11-15

    申请人： Ankur Jain ,  Robert J. Calvet ,  Roman C. Gutierrez

    发明人： Ankur Jain ,  Robert J. Calvet ,  Roman C. Gutierrez

    IPC分类号： H01L27/14

    CPC分类号： B81C1/00571 ,  B81B2203/033 ,  G03B3/10 ,  G03B2205/0061

    摘要： A device may comprise a substrate formed of a first semiconductor material, a first trench formed in the substrate, a second trench formed in the substrate proximate the first trench, an oxide layer formed in the first trench and the second trench, and a second semiconductor material formed upon the oxide layer. The oxide layer in the second trench may be adapted to mitigate undercut of the oxide layer in the first trench during an etching process.

    摘要翻译： 器件可以包括由第一半导体材料形成的衬底，在衬底中形成的第一沟槽，在第一沟槽附近形成在衬底中的第二沟槽，在第一沟槽和第二沟槽中形成的氧化物层，以及第二半导体 在氧化物层上形成的材料。 第二沟槽中的氧化物层可以适于在蚀刻过程期间减轻第一沟槽中的氧化物层的底切。