公开(公告)号：US20100159123A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12338541

申请日：2008-12-18

申请人： Stefan Bangert ,  Frank Mattern ,  Florian Ries ,  Elisabeth Sommer ,  Juergen Roth

发明人： Stefan Bangert ,  Frank Mattern ,  Florian Ries ,  Elisabeth Sommer ,  Juergen Roth

IPC分类号： B05D5/12 ,  C23C16/54

CPC分类号： C23C14/243 ,  H01L51/0008 ,  H01L51/56

摘要： The invention refers to an evaporation source for depositing of thin layers on substrates, the evaporation source comprising a vapor distribution system having an evaporation pipe made of inorganic non metallic material, with the evaporation pipe having at least one nozzle, wherein the nozzle is disposed in a nozzle element which is made as a separate component being arranged in a nozzle element opening of the evaporation pipe.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于在基板上沉积薄层的蒸发源，该蒸发源包括一蒸气分配系统，该蒸汽分配系统具有由无机非金属材料制成的蒸发管，蒸发管具有至少一个喷嘴，其中喷嘴设置在 作为分离部件制成的喷嘴元件布置在蒸发管的喷嘴元件开口中。

公开(公告)号：US20100316788A1

公开(公告)日：2010-12-16

申请号：US12486584

申请日：2009-06-17

申请人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Florian Ries ,  Frank Mattern

发明人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Florian Ries ,  Frank Mattern

IPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/00 ,  G01F1/00

CPC分类号： C23C14/546 ,  C23C14/12 ,  G01B7/066

摘要： A deposition rate monitor device for monitoring the deposition rate of a vapor on a substrate is provided, including: a piezoelectric crystal monitor device including a piezoelectric crystal monitor provided in a housing, wherein the housing includes a vapor inlet aperture, and at least one elongated shielding device having a first end and a second end, the first end encompassing the vapor inlet aperture.

摘要翻译： 提供了一种用于监测基板上的蒸气的沉积速率的沉积速率监测装置，包括：压电晶体监测装置，其包括设置在壳体中的压电晶体监视器，其中壳体包括蒸气入口孔，以及至少一个细长的 屏蔽装置具有第一端和第二端，第一端包围蒸气入口孔。