公开(公告)号：US20100316788A1

公开(公告)日：2010-12-16

申请号：US12486584

申请日：2009-06-17

申请人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Florian Ries ,  Frank Mattern

发明人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Florian Ries ,  Frank Mattern

IPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/00 ,  G01F1/00

CPC分类号： C23C14/546 ,  C23C14/12 ,  G01B7/066

摘要： A deposition rate monitor device for monitoring the deposition rate of a vapor on a substrate is provided, including: a piezoelectric crystal monitor device including a piezoelectric crystal monitor provided in a housing, wherein the housing includes a vapor inlet aperture, and at least one elongated shielding device having a first end and a second end, the first end encompassing the vapor inlet aperture.

摘要翻译： 提供了一种用于监测基板上的蒸气的沉积速率的沉积速率监测装置，包括：压电晶体监测装置，其包括设置在壳体中的压电晶体监视器，其中壳体包括蒸气入口孔，以及至少一个细长的 屏蔽装置具有第一端和第二端，第一端包围蒸气入口孔。

公开(公告)号：US20100098852A1

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：US12256413

申请日：2008-10-22

申请人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Marcel Martini ,  Florian Ries

发明人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Marcel Martini ,  Florian Ries

IPC分类号： C23C16/52

CPC分类号： C23C14/54 ,  C03C17/002 ,  C23C14/243

摘要： An arrangement for the regulation of a gas stream or the like is provided, which comprises at least one vaporizer crucible for the vaporization of a material or at least one supply container with material vapor. The vaporized material or the material vapor is conducted via a vapor conduit to a substrate. The at least one vaporizer crucible or the at least one supply container is connected via a dosing pipe with the vapor conduit. A tappet projects into the dosing pipe. By means of a regulator the position of the tappet in the dosing pipe is regulated as a function of a measured variable.

摘要翻译： 提供了一种用于调节气流等的装置，其包括至少一个用于使物料蒸发的蒸发器坩埚或具有材料蒸气的至少一个供应容器。 蒸发的材料或材料蒸汽通过蒸汽导管传导到基底。 至少一个蒸发器坩埚或至少一个供应容器经由计量管与蒸气导管相连接。 挺杆投入到配料管中。 通过调节器，定量管中挺杆的位置作为测量变量的函数进行调节。

公开(公告)号：US20100159123A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12338541

申请日：2008-12-18

申请人： Stefan Bangert ,  Frank Mattern ,  Florian Ries ,  Elisabeth Sommer ,  Juergen Roth

发明人： Stefan Bangert ,  Frank Mattern ,  Florian Ries ,  Elisabeth Sommer ,  Juergen Roth

IPC分类号： B05D5/12 ,  C23C16/54

CPC分类号： C23C14/243 ,  H01L51/0008 ,  H01L51/56

摘要： The invention refers to an evaporation source for depositing of thin layers on substrates, the evaporation source comprising a vapor distribution system having an evaporation pipe made of inorganic non metallic material, with the evaporation pipe having at least one nozzle, wherein the nozzle is disposed in a nozzle element which is made as a separate component being arranged in a nozzle element opening of the evaporation pipe.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于在基板上沉积薄层的蒸发源，该蒸发源包括一蒸气分配系统，该蒸汽分配系统具有由无机非金属材料制成的蒸发管，蒸发管具有至少一个喷嘴，其中喷嘴设置在 作为分离部件制成的喷嘴元件布置在蒸发管的喷嘴元件开口中。

公开(公告)号：US20120152727A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13301718

申请日：2011-11-21

申请人： Byung Sung Kwak ,  Stefan Bangert ,  Michael Koenig ,  Florian Ries ,  Ralf Hofmann

发明人： Byung Sung Kwak ,  Stefan Bangert ,  Michael Koenig ,  Florian Ries ,  Ralf Hofmann

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/564 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3426

摘要： A deposition system for alkali and alkaline earth metals may include a metal sputter target including cooling channels, a substrate holder configured to hold a substrate facing and parallel to the metal sputter target, and multiple power sources configured to apply energy to a plasma ignited between the substrate and the metal sputter target. The target may have a cover configured to fit over the target material, the cover may include a handle for automated removal and replacement of the cover within the deposition system, and a valve for providing access to the volume between the target material and the cover for pumping, purging or pressurizing the gas within the volume. Sputter gas may include noble gas with an atomic weight less than that of the metal target.

摘要翻译： 用于碱金属和碱土金属的沉积系统可以包括包括冷却通道的金属溅射靶，被配置为保持面向并平行于金属溅射靶的衬底的衬底保持器，以及被配置为将能量施加到在 基板和金属溅射靶。 目标物可以具有被配置成装配在目标材料上的盖，盖可以包括用于在沉积系统内自动移除和更换盖的手柄，以及用于提供对目标材料和盖之间的体积的通路的阀，用于 泵送，清洗或加压体积内的气体。 溅射气体可以包括原子量小于金属靶的原子量的惰性气体。