公开(公告)号：USD382111S

公开(公告)日：1997-08-12

申请号：US47704

申请日：1995-12-11

申请人： Steven L. Bardus ,  Thomas J. Ashbrook ,  Timothy A. Friar

设计人： Steven L. Bardus ,  Thomas J. Ashbrook ,  Timothy A. Friar

公开(公告)号：US06419806B1

公开(公告)日：2002-07-16

申请号：US09807261

申请日：2001-04-09

申请人： Melvin K. Holcomb ,  William E. Barnes ,  Steven L. Bardus

发明人： Melvin K. Holcomb ,  William E. Barnes ,  Steven L. Bardus

IPC分类号： B23K2000

CPC分类号： H01J37/342 ,  B23K20/021 ,  B23K2101/04 ,  B23K2103/16 ,  C23C14/34 ,  C23C14/3407 ,  Y10T428/12639 ,  Y10T428/12646 ,  Y10T428/12653 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/1275 ,  Y10T428/12771 ,  Y10T428/12792 ,  Y10T428/12986

摘要： Method of forming a two-piece hollow cathode sputter target assembly and the assembly formed thereby. The sputter target assembly includes an outer shell having a substantially cylindrical side wall and is composed of a relatively low purity metallic material. A sputtering insert includes a substantially cylindrical side wall and is concentrically received within, and bonded to, the outer shell. The sputtering insert is composed of a relatively high purity metallic material as used for depositing a thin layer or film onto a desired substrate.

摘要翻译： 形成两件式中空阴极溅射靶组件的方法和由此形成的组件。 溅射靶组件包括具有大致圆柱形侧壁并由相对低纯度的金属材料构成的外壳。 溅射插入件包括基本上圆柱形的侧壁并且同心地容纳在外壳内并结合到外壳上。 溅射插入物由用于将薄层或膜沉积到所需衬底上的相对高纯度的金属材料组成。

公开(公告)号：US06183686B2

公开(公告)日：2001-02-06

申请号：US09365919

申请日：1999-08-03

申请人： Steven L. Bardus ,  Sohail S. Qamar ,  Anurag Bansal

发明人： Steven L. Bardus ,  Sohail S. Qamar ,  Anurag Bansal

IPC分类号： B22F314

CPC分类号： H01J37/3426 ,  B22F7/08 ,  C23C14/3414

摘要： A method of producing a sputter target assembly including a metal target attached to a metal-matrix-composite backing plate and sputter target assemblies made thereby. The method includes hot isostatically pressing a silicon carbide-aluminum powder composition to form a backing plate while simultaneously bonding the powder composition to a metal target to form a diffusion-type bond between the target and the backing plate such that the target assembly possesses extremely high resistance to warpage at high operating temperatures. A second embodiment of the sputter target assembly includes an annular sealing member of machined aluminum disposed in the backing plate around the target.

摘要翻译： 一种制造溅射靶组件的方法，该溅射靶组件包括连接到金属基复合材料背板的金属靶和由此制成的溅射靶组件。 该方法包括热等静压碳化硅 - 铝粉末组合物以形成背板，同时将粉末组合物粘合到金属靶上，以在靶和背板之间形成扩散型结合，使得目标组件具有非常高的 在高工作温度下耐翘曲。 溅射靶组件的第二实施例包括设置在围绕靶的背板中的加工铝的环形密封构件。