公开(公告)号：US07776685B2

公开(公告)日：2010-08-17

申请号：US12379348

申请日：2009-02-19

申请人： Sun-Yul Ahn ,  Kyong-Rim Kang ,  Tae-Sung Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jung-Hoon Lee

发明人： Sun-Yul Ahn ,  Kyong-Rim Kang ,  Tae-Sung Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jung-Hoon Lee

IPC分类号： H01L21/8242

CPC分类号： H01L21/32139 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  H01L28/91

摘要： The invention is directed to particular polymer compositions that may be generally characterized by the formula: wherein the variables L, M and N represent the relative molar fractions of the monomers and satisfy the expressions 0

摘要翻译： 本发明涉及特定的聚合物组合物，其通常可以由下式表征：其中变量L，M和N表示单体的相对摩尔分数，并满足表达式0

公开(公告)号：US07514319B2

公开(公告)日：2009-04-07

申请号：US11447120

申请日：2006-06-06

申请人： Sun-Yul Ahn ,  Kyong-Rim Kang ,  Tae-Sung Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jung-Hoon Lee

发明人： Sun-Yul Ahn ,  Kyong-Rim Kang ,  Tae-Sung Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jung-Hoon Lee

IPC分类号： H01L21/8242

CPC分类号： H01L21/32139 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  H01L28/91

摘要： The invention is directed to particular polymer compositions that may be generally characterized by the formula: wherein the variables L, M and N represent the relative molar fractions of the monomers and satisfy the expressions 0

摘要翻译： 本发明涉及特定的聚合物组合物，其通常可以由下式表征：其中变量L，M和N表示单体的相对摩尔分数，并满足表达式0

公开(公告)号：US20070042604A1

公开(公告)日：2007-02-22

申请号：US11447120

申请日：2006-06-06

申请人： Sun-Yul Ahn ,  Kyong-Rim Kang ,  Tae-Sung Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jung-Hoon Lee

发明人： Sun-Yul Ahn ,  Kyong-Rim Kang ,  Tae-Sung Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jung-Hoon Lee

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： H01L21/32139 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  H01L28/91

摘要： The invention is directed to particular polymer compositions that may be generally characterized by the formula: wherein the variables L, M and N represent the relative molar fractions of the monomers and satisfy the expressions 0

摘要翻译： 本发明涉及特定的聚合物组合物，其通常可以由下式表征：其中变量L，M和N表示单体的相对摩尔分数，并满足表达式0

公开(公告)号：US20070249117A1

公开(公告)日：2007-10-25

申请号：US11730323

申请日：2007-03-30

申请人： Kyong-Rim Kang ,  Sun-Yul Ahn ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Joo-Hyung Yang ,  Tae-Sung Kim

发明人： Kyong-Rim Kang ,  Sun-Yul Ahn ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Joo-Hyung Yang ,  Tae-Sung Kim

IPC分类号： H01L21/8242 ,  C08G69/44 ,  H01L21/31

CPC分类号： H01L21/32139 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  H01L27/10814 ,  H01L27/10852 ,  H01L27/10894 ,  H01L27/10897

摘要： A polymer resin composition, a method for forming a pattern using the polymer resin composition, and a method for fabricating a capacitor using the polymer resin composition are disclosed. The polymer resin composition includes about 75 to 93 percent by weight of a copolymer prepared from benzyl methacrylate, methacrylic acid, and hydroxyethyl methacrylate; about 1 to 7 percent by weight of a cross-linking agent; about 0.01 to 0.5 percent by weight of a thermal acid generator; about 0.01 to 1 percent by weight of a photoacid generator; about 0.00001 to 0.001 percent by weight of an organic base; and a solvent.

摘要翻译： 公开了一种聚合物树脂组合物，使用该聚合物树脂组合物形成图案的方法，以及使用该聚合物树脂组合物制造电容器的方法。 聚合物树脂组合物包含约75至93重量％的由甲基丙烯酸苄酯，甲基丙烯酸和甲基丙烯酸羟乙酯制备的共聚物; 约1至7重量％的交联剂; 约0.01〜0.5重量％的热酸发生剂; 约0.01至1重量％的光酸产生剂; 约0.00001至0.001重量％的有机碱; 和溶剂。

公开(公告)号：US07781153B2

公开(公告)日：2010-08-24

申请号：US11730323

申请日：2007-03-30

申请人： Kyong-Rim Kang ,  Sun-Yul Ahn ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Joo-Hyung Yang ,  Tae-Sung Kim

发明人： Kyong-Rim Kang ,  Sun-Yul Ahn ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Joo-Hyung Yang ,  Tae-Sung Kim

IPC分类号： G03F7/30

CPC分类号： H01L21/32139 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  H01L27/10814 ,  H01L27/10852 ,  H01L27/10894 ,  H01L27/10897

摘要： A polymer resin composition, a method for forming a pattern using the polymer resin composition, and a method for fabricating a capacitor using the polymer resin composition are disclosed. The polymer resin composition includes about 75 to 93 percent by weight of a copolymer prepared from benzyl methacrylate, methacrylic acid, and hydroxyethyl methacrylate; about 1 to 7 percent by weight of a cross-linking agent; about 0.01 to 0.5 percent by weight of a thermal acid generator; about 0.01 to 1 percent by weight of a photoacid generator; about 0.00001 to 0.001 percent by weight of an organic base; and a solvent.

摘要翻译： 公开了一种聚合物树脂组合物，使用该聚合物树脂组合物形成图案的方法，以及使用该聚合物树脂组合物制造电容器的方法。 聚合物树脂组合物包含约75至93重量％的由甲基丙烯酸苄酯，甲基丙烯酸和甲基丙烯酸羟乙酯制备的共聚物; 约1至7重量％的交联剂; 约0.01〜0.5重量％的热酸发生剂; 约0.01至1重量％的光酸产生剂; 约0.00001至0.001重量％的有机碱; 和溶剂。

公开(公告)号：US20090162986A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12379348

申请日：2009-02-19

申请人： Sun-YuI Ahn ,  Kyong-Rim Kang ,  Tae-Sung Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jung-Hoon Lee

发明人： Sun-YuI Ahn ,  Kyong-Rim Kang ,  Tae-Sung Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jung-Hoon Lee

IPC分类号： H01L21/71

CPC分类号： H01L21/32139 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  H01L28/91

摘要： The invention is directed to particular polymer compositions that may be generally characterized by the formula: wherein the variables L, M and N represent the relative molar fractions of the monomers and satisfy the expressions 0

摘要翻译： 本发明涉及特定的聚合物组合物，其通常可以由下式表征：其中变量L，M和N表示单体的相对摩尔分数，并满足表达式0

公开(公告)号：US20090092931A1

公开(公告)日：2009-04-09

申请号：US12222573

申请日：2008-08-12

申请人： Kyong-Rim Kang ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Sun-Yul Ahn ,  Nam-Uk Choi

发明人： Kyong-Rim Kang ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Sun-Yul Ahn ,  Nam-Uk Choi

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/70425

摘要： A method of forming a blocking pattern includes forming a preliminary blocking layer on first and second regions of a substrate, the preliminary blocking layer being formed of a photosensitive composition including a siloxane polymer, a cross-linking agent, a photoacid generator, and a thermal acid generator, selectively exposing to light a first portion of the preliminary blocking layer, the first portion of the preliminary blocking layer being formed on the first region of the substrate, such that a cross-linked pattern is formed on the first region of the substrate, and removing a second portion of the preliminary blocking layer, the second portion of the preliminary blocking layer being formed on the second region of the substrate.

摘要翻译： 形成阻挡图案的方法包括在基板的第一和第二区域上形成预防止层，所述预阻挡层由包含硅氧烷聚合物，交联剂，光致酸发生剂和热的 酸性发生器，选择性地暴露预备阻挡层的第一部分的光，预先阻挡层的第一部分形成在衬底的第一区域上，使得在衬底的第一区域上形成交联图案 并且去除所述预阻挡层的第二部分，所述预阻挡层的第二部分形成在所述基板的第二区域上。