公开(公告)号：US09069133B2

公开(公告)日：2015-06-30

申请号：US10495686

申请日：2002-11-12

申请人： Teresa Baldwin ,  Joseph Kennedy ,  Nancy Iwamoto ,  Tadashi Nakano ,  William Bedwell ,  Jason Stuck ,  Arlene Suedemeyer ,  Mello Hebert

发明人： Teresa Baldwin ,  Joseph Kennedy ,  Nancy Iwamoto ,  Tadashi Nakano ,  William Bedwell ,  Jason Stuck ,  Arlene Suedemeyer ,  Mello Hebert

IPC分类号： C08G77/26 ,  G02B5/23 ,  C03C17/00 ,  C03C17/30 ,  C08G77/04 ,  C08G77/12 ,  C08K5/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027

CPC分类号： G02B5/23 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08G77/04 ,  C08G77/12 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

摘要： Anti-reflective coating materials for ultraviolet photolithography include at least one absorbing compound and at least one material modification agent, such as at least one porogen, at least one high-boiling solvent, at least one capping agent, at least one leveling agent, at least one catalyst, at least one replacement solvent, at least one pH tuning agent, and/or a combination thereof that are incorporated into inorganic-based materials or inorganic compositions and/or compounds. Suitable absorbing compounds are those that absorb around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, 193 nm and 157 nm that may be used in photolithography.

摘要翻译： 用于紫外光刻的抗反射涂层材料包括至少一种吸收化合物和至少一种材料改性剂，例如至少一种致孔剂，至少一种高沸点溶剂，至少一种封端剂，至少一种流平剂， 至少一种催化剂，至少一种替代溶剂，至少一种pH调节剂和/或其组合，其掺入无机基材料或无机组合物和/或化合物中。 合适的吸收化合物是可以在光刻中使用的波长如365nm，248nm，193nm和157nm的那些吸收化合物。