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    Positive resist composition and pattern forming method
    1.
    发明授权
    Positive resist composition and pattern forming method 有权
    正抗蚀剂组成和图案形成方法

    公开(公告)号：US08034537B2

    公开(公告)日：2011-10-11

    申请号：US12593353

    申请日：2008-03-27

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive photosensitive composition comprises: (A) a resin that has an acid decomposable repeating unit represented by formula (I) and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid; (B) a compound that generates an acid in irradiation with actinic light or radiation; (C) a resin that has: at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and a group selected from the group consisting of groups (x) to (z); and (D) a solvent: (x) an alkali soluble group, (y) a group which decomposes by action of an alkali developer and increases a solubility of the resin (C) in an alkali developer, and (z) a group which decomposes by action of an acid, wherein, Xa1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cyano group or a halogen atom, Ry1 to Ry3 each independently represents an alkyl group or a cycloalkyl group, and at least two of Ry1 to Ry3 may be coupled to form a ring structure, and Z represents a divalent linking group.

    摘要翻译： 正型光敏组合物包含：（A）具有由式（I）表示的可酸分解重复单元并通过酸的作用增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）在光化或辐射照射下产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和选自基团（x）〜（z））的基团。 和（D）溶剂：（x）碱溶性基团，（y）通过碱显影剂的作用分解并增加树脂（C）在碱性显影剂中的溶解度的基团，和（z） 通过酸的作用分解，其中，Xa1表示氢原子，烷基，氰基或卤素原子，Ry1〜Ry3各自独立地表示烷基或环烷基，Ry1〜Ry3中的至少两个可以 偶联形成环结构，Z表示二价连接基团。

    Positive resist composition and pattern making method using the same
    2.
    发明授权
    Positive resist composition and pattern making method using the same 有权
    正抗蚀剂组合物和使用其的图案制造方法

    公开(公告)号：US07790351B2

    公开(公告)日：2010-09-07

    申请号：US12363303

    申请日：2009-01-30

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/146

    摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin showing an increase in the solubility in an alkali developer by the action of an acid; (B) a compound being capable of generating an acid when irradiated with an actinic ray or a radiation; (C) a resin having a silicon-containing repeating unit of a specific structure and being stable to acids but insoluble in an alkali developer; and (D) a solvent; and a pattern making method using the same.

    摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用显示在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有特定结构的含硅重复单元并且对酸稳定但不溶于碱显影剂的树脂; 和（D）溶剂; 和使用该图案的图案制作方法。

    Positive resist composition and pattern forming method
    3.
    发明授权
    Positive resist composition and pattern forming method 有权
    正抗蚀剂组成和图案形成方法

    公开(公告)号：US07666574B2

    公开(公告)日：2010-02-23

    申请号：US12058327

    申请日：2008-03-28

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive photosensitive composition comprises (A) a resin that has an acid decomposable repeating unit represented by formula (I) and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid; (B) a compound generating an acid in irradiation with actinic light or radiation; (C) a resin that contains neither fluorine nor silicon and has a repeating unit having the predetermined structure; and (D) a solvent, wherein each symbol represents a predetermined group.

    摘要翻译： 正型光敏组合物包含（A）具有由式（I）表示的可酸分解重复单元并通过酸作用增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）在光化或辐射照射下产生酸的化合物; （C）既不含氟也不含硅且具有预定结构的重复单元的树脂; 和（D）溶剂，其中每个符号表示预定的基团。

    Positive resist composition and pattern making method using the same
    4.
    发明申请
    Positive resist composition and pattern making method using the same 失效
    正抗蚀剂组合物和使用其的图案制造方法

    公开(公告)号：US20070134590A1

    公开(公告)日：2007-06-14

    申请号：US11636633

    申请日：2006-12-11

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/146

    摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin showing an increase in the solubility in an alkali developer by the action of an acid; (B) a compound being capable of generating an acid when irradiated with an actinic ray or a radiation; (C) a resin having a silicon-containing repeating unit of a specific structure and being stable to acids but insoluble in an alkali developer; and (D) a solvent; and a pattern making method using the same.

    摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用显示在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有特定结构的含硅重复单元并且对酸稳定但不溶于碱显影剂的树脂; 和（D）溶剂; 和使用该图案的图案制作方法。

    Positive resist composition and pattern forming method
    5.
    发明授权
    Positive resist composition and pattern forming method 有权
    正抗蚀剂组成和图案形成方法

    公开(公告)号：US07635554B2

    公开(公告)日：2009-12-22

    申请号：US12058222

    申请日：2008-03-28

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： A positive photosensitive composition comprises: (A) a resin that has an acid decomposable repeating unit represented by formula (I) and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid: (B) a compound generating an acid upon irradiation with actinic light or radiation; (C) a hydrophobic resin insoluble in an alkali developer and having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent, wherein in the formula (I), Xa1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cyano group or a halogen atom, Ry1 to Ry3 each independently represents an alkyl group or a cycloalkyl group, and at least two of Ry1 to Ry3 may be coupled to form a ring structure, and Z represents a divalent linking group.

    摘要翻译： 正型光敏组合物包括：（A）具有由式（I）表示的可酸分解重复单元并通过酸作用增加其在碱显影剂中的溶解度的树脂：（B）在光化反应下产生酸的化合物 光或辐射; （C）不溶于碱性显影剂并且具有氟原子和硅原子中的至少一个的疏水性树脂; 和（D）溶剂，其中在式（I）中，Xa1表示氢原子，烷基，氰基或卤素原子，Ry1〜Ry3各自独立地表示烷基或环烷基，至少 Ry1〜Ry3中的两个可以被偶联以形成环结构，Z表示二价连接基团。

    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
    6.
    发明申请
    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD 有权
    积极抵抗组成和图案形成方法

    公开(公告)号：US20100112477A1

    公开(公告)日：2010-05-06

    申请号：US12593353

    申请日：2008-03-27

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive photosensitive composition comprises: (A) a resin that has an acid decomposable repeating unit represented by formula (I) and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid; (B) a compound that generates an acid in irradiation with actinic light or radiation; (C) a resin that has: at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and a group selected from the group consisting of groups (x) to (z); and (D) a solvent: (x) an alkali soluble group, (y) a group which decomposes by action of an alkali developer and increases a solubility of the resin (C) in an alkali developer, and (z) a group which decomposes by action of an acid, wherein, Xa1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cyano group or a halogen atom, Ry1 to Ry3 each independently represents an alkyl group or a cycloalkyl group, and at least two of Ry1 to Ry3 may be coupled to form a ring structure, and Z represents a divalent linking group.

    摘要翻译： 正型光敏组合物包含：（A）具有由式（I）表示的可酸分解重复单元并通过酸的作用增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）在光化或辐射照射下产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和选自基团（x）〜（z））的基团。 和（D）溶剂：（x）碱溶性基团，（y）通过碱显影剂的作用分解并增加树脂（C）在碱性显影剂中的溶解度的基团，和（z） 通过酸的作用分解，其中，Xa1表示氢原子，烷基，氰基或卤素原子，Ry1〜Ry3各自独立地表示烷基或环烷基，Ry1〜Ry3中的至少两个可以 偶联形成环结构，Z表示二价连接基团。

    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN MAKING METHOD USING THE SAME
    7.
    发明申请
    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN MAKING METHOD USING THE SAME 有权
    正极性组合物和使用其的图案制作方法

    公开(公告)号：US20090136870A1

    公开(公告)日：2009-05-28

    申请号：US12363303

    申请日：2009-01-30

    申请人： Toshiaki FUKUHARA ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    发明人： Toshiaki FUKUHARA ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/146

    摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin showing an increase in the solubility in an alkali developer by the action of an acid; (B) a compound being capable of generating an acid when irradiated with an actinic ray or a radiation; (C) a resin having a silicon-containing repeating unit of a specific structure and being stable to acids but insoluble in an alkali developer; and (D) a solvent; and a pattern making method using the same.

    摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用显示在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有特定结构的含硅重复单元并且对酸稳定但不溶于碱显影剂的树脂; 和（D）溶剂; 和使用该图案的图案制作方法。

    Positive resist composition and pattern making method using the same
    8.
    发明授权
    Positive resist composition and pattern making method using the same 失效
    正抗蚀剂组合物和使用其的图案制造方法

    公开(公告)号：US07504194B2

    公开(公告)日：2009-03-17

    申请号：US11636633

    申请日：2006-12-11

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/146

    摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin showing an increase in the solubility in an alkali developer by the action of an acid; (B) a compound being capable of generating an acid when irradiated with an actinic ray or a radiation; (C) a resin having a silicon-containing repeating unit of a specific structure and being stable to acids but insoluble in an alkali developer; and (D) a solvent; and a pattern making method using the same.

    摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用显示在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有特定结构的含硅重复单元并且对酸稳定但不溶于碱显影剂的树脂; 和（D）溶剂; 和使用该图案的图案制作方法。

    Positive resist composition and pattern forming method
    9.
    发明授权
    Positive resist composition and pattern forming method 有权
    正抗蚀剂组成和图案形成方法

    公开(公告)号：US08343708B2

    公开(公告)日：2013-01-01

    申请号：US13228836

    申请日：2011-09-09

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive photosensitive composition includes: (A) a resin that has an acid decomposable repeating unit of formula (I) and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid; (B) a compound that generates an acid upon irradiation; (C) a resin that has: a fluorine atom and/or a silicon atom; and a group selected from groups (x) to (z); and (D) a solvent: (x) an alkali soluble group, (y) a group which decomposes by action of an alkali developer and increases a solubility of the resin (C) in an alkali developer, and (z) a group which decomposes by action of an acid, wherein, Xa1 represents hydrogen, alkyl, cyano or halogen, Ry1 to Ry3 each independently represents alkyl or cycloalkyl, and at least two of Ry1 to Ry3 may be coupled to form a ring, and Z represents a divalent linking group.

    摘要翻译： 正型光敏组合物包括：（A）具有式（I）的酸可分解重复单元并通过酸的作用增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）照射时产生酸的化合物; （C）具有氟原子和/或硅原子的树脂; 和选自（x）〜（z）组的基团; 和（D）溶剂：（x）碱溶性基团，（y）通过碱显影剂的作用分解并增加树脂（C）在碱性显影剂中的溶解度的基团，和（z） 通过酸的作用分解，其中，Xa1表示氢，烷基，氰基或卤素，Ry1至Ry3各自独立地表示烷基或环烷基，并且Ry1至Ry3中的至少两个可以偶合形成环，Z表示二价 连接组。