公开(公告)号：US08098364B2

公开(公告)日：2012-01-17

申请号：US11875471

申请日：2007-10-19

申请人： Vinvent Yu ,  Hsien-Cheng Wang ,  Hung-Chang Hsieh

发明人： Vinvent Yu ,  Hsien-Cheng Wang ,  Hung-Chang Hsieh

IPC分类号： G02F1/29 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70833 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70858

摘要： Provided is an exposure apparatus including a variable focusing device. The variable focusing device may include a transparent membrane that may be deformed in the presence of an electric field. The deformation of the transparent membrane may allow the focus length of a radiation beam to be modified. In an embodiment, the variable focusing device may be modulated such that a radiation beam having a first focus length is provided for a first position on an exposure target and a radiation beam having a second focus length is provided for a second position on the exposure target. A method and computer-readable medium are also provided.

摘要翻译： 提供一种包括可变聚焦装置的曝光装置。 可变聚焦装置可以包括可能在存在电场的情况下变形的透明膜。 透明膜的变形可以允许改变辐射束的聚焦长度。 在一个实施例中，可调制可变聚焦装置，使得具有第一聚焦长度的辐射束用于曝光目标上的第一位置，并且为曝光目标上的第二位置提供具有第二焦距的辐射束 。 还提供了一种方法和计算机可读介质。