公开(公告)号：US20140349889A1

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：US14364589

申请日：2012-12-11

申请人： Wayne State University

发明人： Guangzhao Mao ,  Daniel J. Sobczynski ,  Sunxi Wang ,  Juxhin Xhahysa ,  Pedram Jahanian

IPC分类号： B01J19/00 ,  C23C16/04

CPC分类号： B01J19/0046 ,  B01J2219/00313 ,  B01J2219/00331 ,  B05D1/00 ,  B05D1/32 ,  B05D1/60 ,  B81C1/00031 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C16/04 ,  C23C16/042

摘要： The present disclosure discloses a method to prepare a supra-monolayer nanopattern and its uses.

摘要翻译： 本公开公开了制备超单层纳米图案的方法及其用途。