公开(公告)号：US20140374887A1

公开(公告)日：2014-12-25

申请号：US14374668

申请日：2013-02-08

申请人： NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

发明人： Mamoru Tamura ,  Hiroshi Ogino ,  Tomoyuki Enomoto

IPC分类号： H01L21/56 ,  C09D161/16 ,  H01L29/06 ,  C09D181/06 ,  H01L21/02 ,  C08G8/02 ,  C08G75/20

CPC分类号： C08G75/20 ,  C08G8/02 ,  C08G65/40 ,  C08G65/48 ,  C09D161/16 ,  C09D171/12 ,  C09D181/06 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02318 ,  H01L21/56 ,  H01L21/76898 ,  H01L23/293 ,  H01L23/3171 ,  H01L23/481 ,  H01L29/06 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： There is provided a composition for forming a passivation film that satisfies electric insulation, heat-tolerance, solvent-tolerance, and a dry etch back property at the same time. A composition for forming a passivation film, including: a polymer containing a unit structure of Formula (i): T0-O  Formula (i) (where T0 is a sulfonyl group, a fluoroalkylene group, a cycloalkylene group, or an arylene group having a substituent, or is a combination of an arylene group optionally having a substituent and a fluoroalkylene group or a cycloalkylene group), wherein the polymer has at least one of a group having a structure of Formula (2-A), a group having a structure of Formula (2-B), or a group having both of the structures, at an end, in a side chain, or in a main chain of the polymer: The polymer may contain a unit structure of Formula (1): L1-O-T1-O  Formula (1)

摘要翻译： 提供了一种用于形成钝化膜的组合物，其同时满足电绝缘性，耐热性，耐溶剂性和干蚀刻性能。 一种用于形成钝化膜的组合物，包括：含有式（ⅰ）单元结构的聚合物：式（ⅰ）（其中，T0是磺酰基，氟代亚烷基，亚环烷基或亚芳基 具有取代基的基团，或者是可以具有取代基的亚芳基和氟代亚烷基或亚环烷基的组合），其中所述聚合物具有式（2-A）结构的基团中的至少一个，基团 具有式（2-B）的结构或在聚合物的末端，侧链或主链中具有两个结构的基团：聚合物可以含有式（1）的单元结构， ：L1-O-T1-O式式（1）