公开(公告)号：WO2005000909A3

公开(公告)日：2005-03-31

申请号：PCT/US0330281

申请日：2003-09-26

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

Inventor： ARNEY DAVID S ,  LEATHERDALE CATHERINE A ,  NIRMAL MANOJ

IPC: C08F2/00 ,  C08F2/50 ,  G03F7/029 ,  G03F7/20

CPC classification number: C08F2/50 ,  B33Y70/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  G03F7/029 ,  G03F7/2053 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/116 ,  Y10S430/117

Abstract: A photoreactive composition comprises (a) at least one reactive species that is capable of undergoing an acid- or radical-initiated chemical reaction; and (b) a photoinitiator system comprising photochemically-effective amounts of (1) at least one type of semiconductor nanoparticle quantum dot that has at least one electronic excited state that is accessible by absorption of two or more photons, and (2) a composition, different from said reactive species, that is capable of interacting with the excited state of the semiconductor nanoparticle quantum dot to form at least one reaction-initiating species.

Abstract translation: 光反应性组合物包含（a）能够经历酸或自由基引发的化学反应的至少一种反应性物质; 和（b）包含光化学有效量的（1）至少一种类型的半导体纳米粒子量子点的光引发剂体系，其具有至少一个可通过吸收两个或更多个光子获得的电子激发态，和（2）组成 与所述反应性物质不同，其能够与半导体纳米颗粒量子点的激发态相互作用以形成至少一种反应引发物质。

公开(公告)号：WO2004031866A1

公开(公告)日：2004-04-15

申请号：PCT/JP2003/012344

申请日：2003-09-26

Applicant: 独立行政法人科学技術振興機構 ,  三澤 弘明 ,  ヨードカジス サウリウス ,  松尾 繁樹 ,  近藤 敏明

Inventor： 三澤 弘明 ,  ヨードカジス サウリウス ,  松尾 繁樹 ,  近藤 敏明

IPC: G03H1/04

CPC classification number: G02B27/144 ,  G02B27/1093 ,  G03F7/2053 ,  G03H1/04 ,  G03H2222/33

Abstract: フェムト秒レーザパルスを回折ビームスプリッタ(3)で複数本の光束に分割させ、分割したレーザのうちの4光束を集光させて多光子露光が可能な感光性材料からなる試料(7)に照射し、4光束を干渉露光して試料(7)の多光子吸収を誘起し、試料(7)の照射部位にブラッグ回折格子を記録させ、極めて単純な光学系を用いた、フェムト秒レーザパルスによる多光子露光が可能な感光性材料への三次元ホログラフィック記録方法とする。

Abstract translation: 一种通过使用非常简单的光学系统和通过毫微微秒激光脉冲在能够进行多光子曝光的光敏材料上的三维全息记录的方法，其中，毫微微秒级激光脉冲被分成多个 通过衍射分束器（3）的光束，分离的激光器中的四个光束被冷凝并施加到由能够进行多光子曝光的感光材料构成的样品（7），四个光束被干涉地暴露以诱导 在样品（7）的照射部分上记录样品（7）的多光子吸收和布拉格衍射晶格。

公开(公告)号：WO0196952A3

公开(公告)日：2002-05-10

申请号：PCT/US0140981

申请日：2001-06-14

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES CO ,  DEVOE ROBERT J ,  DEMASTER ROBERT D ,  DUERR BROOK F ,  KITCHIN JON P ,  VOGEL DENNIS E

Inventor： DEVOE ROBERT J ,  DEMASTER ROBERT D ,  DUERR BROOK F ,  KITCHIN JON P ,  VOGEL DENNIS E

IPC: G03C1/72 ,  G03C7/04 ,  G03C7/46 ,  G03F3/10 ,  G03F7/20 ,  G03F1/10

CPC classification number: G03C1/73 ,  G03C7/04 ,  G03C7/46 ,  G03F3/10 ,  G03F7/2053

Abstract: A multilayer imageable article with at least two layers including a multiphoton imageable composition. The composition includes a multiphoton-sensitive photoactive system and at least one of a dye and a dye precursor. The photoactive system includes a multiphoton sensitizer capable of simultaneously absorbing at least two photons, an electron acceptor capable of transformation to a dye-activating species upon interaction with the multiphoton sensitizer subsequent to absorption of at least two photons, and optionally an electron donor.

Abstract translation: 具有至少两层的多层可成像制品，包括多光子可成像组合物。 该组合物包括多光子敏感光活性体系和染料和染料前体中的至少一种。 光活性系统包括能够同时吸收至少两个光子的多光子敏化剂，在吸收至少两个光子之后与多光子敏化剂相互作用并且任选地是电子给体，能够转变成染料活化物质的电子受体。

公开(公告)号：WO0196917A3

公开(公告)日：2002-05-10

申请号：PCT/US0119243

申请日：2001-06-14

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES CO ,  DEVOE ROBERT J ,  LEATHERDALE CATHERINE ANNE ,  FLORCZAK JEFFREY M ,  FLEMING PATRICK R ,  POTTS JOHN E

Inventor： DEVOE ROBERT J ,  LEATHERDALE CATHERINE ANNE ,  FLORCZAK JEFFREY M ,  FLEMING PATRICK R ,  POTTS JOHN E

IPC: B29C67/00 ,  B29L11/00 ,  C08F291/00 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G02B6/12 ,  G02B6/122 ,  G02B6/13 ,  G02B6/138 ,  G03F7/00 ,  G03F7/031 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B6/10 ,  B33Y80/00 ,  G02B6/1221 ,  G02B6/13 ,  G02B6/138 ,  G02B2006/121 ,  G02B2006/12102 ,  G02B2006/12107 ,  G02B2006/12147 ,  G02B2006/1215 ,  G03C5/00 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/031 ,  G03F7/2053 ,  G03H2001/0484 ,  Y10S430/146 ,  Y10T428/31667

Abstract: Methods of fabricating optical elements that are encapsulated in monolithic matrices. The present invention is based, at least in one aspect, upon the concept of using multiphoton, multi-step photocuring to fabricate encapsulated optical element(s) within a body of a photopolymerizable composition. Imagewise, multi-photon polymerization techniques are used to form the optical element. The body surrounding the optical element is also photohardened by blanket irradiation and/or thermal curing to help form an encapsulating structure. In addition, the composition also incorporates one or more other, non-diffusing binder components that may be thermosetting or thermoplastic. The end result is an encapsulated structure with good hardness, durability, dimensional stability, resilience, and toughness.

Abstract translation: 制造封装在单片矩阵中的光学元件的方法。 本发明至少在一个方面基于使用多光子，多步光固化来制造可光聚合组合物的体内的封装光学元件的概念。 使用成像方式，使用多光子聚合技术来形成光学元件。 围绕光学元件的主体还通过毯式照射和/或热固化来光固化以帮助形成封装结构。 此外，该组合物还包含一种或多种可以是热固性或热塑性的其它非扩散性粘合剂组分。 最终结果是具有良好的硬度，耐久性，尺寸稳定性，回弹性和韧性的封装结构。

公开(公告)号：WO01096961A2

公开(公告)日：2001-12-20

申请号：PCT/US2001/019125

申请日：2001-06-14

IPC: G03F7/028 ,  B29C67/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/038 ,  B33Y30/00 ,  G03F7/2053

Abstract: A method of increasing the efficiency of a multiphoton absorption process and apparatus. The method includes: providing a photoreactive composition; providing a source of sufficient light for simultaneous absorption of at least two photons; exposing the photoreactive composition to at least one transit of light from the light source; and directing at least a portion of the first transit of the light back into the photoreactive composition using at least one optical element, wherein a plurality of photons not absorbed in at least one transit are used to expose the photoreactive composition in a subsequent transit.

Abstract translation: 提高多光子吸收过程和设备效率的方法。 该方法包括：提供光反应性组合物; 提供足够的光源以同时吸收至少两个光子; 将光反应性组合物暴露于来自光源的光的至少一个转运; 以及使用至少一个光学元件将所述光的第一转运的至少一部分引导回到所述光反应性组合物中，其中使用在至少一个转运中未被吸收的多个光子在随后的转运中暴露所述光反应性组合物。

公开(公告)号：WO9954784A9

公开(公告)日：2000-07-06

申请号：PCT/US9908805

申请日：1999-04-21

Applicant: UNIV CONNECTICUT

Inventor： GOODMAN STEVEN L ,  CAMPAGNOLA PAUL

IPC: A61K9/00 ,  B29C67/00 ,  C07K1/06 ,  G01Q80/00 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03C5/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03G5/00 ,  A61K9/0097 ,  A61K47/6903 ,  A61K47/6927 ,  A61L27/3683 ,  A61L27/50 ,  A61L2400/12 ,  A61L2400/18 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  C07K14/75 ,  C07K14/765 ,  C07K17/04 ,  C12N11/04 ,  G01Q80/00 ,  G02B21/32 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/2053

Abstract: A method and apparatus wherein small, two- or three-dimensional structures are formed by multiple-photon-absorbed photopolymerization and/or cross-linking of a precursor composition, that is, photopolymerization using multi-photon excitation. Use of multi-photon excitation allows fabrication of structures and structural features having at least one dimension of less than about 1 micron, preferably less than about 500 nm, more preferably less than about 250 nm, and most preferably of less than about 100 nm, in bulk phase as well as in solution, and from a wide variety of organic and inorganic precursor subunits, including synthetic polymers and biological polymers such as proteins, lipids, oligonucleotides, and the like.

Abstract translation: 通过多光子吸收的前体组合物的光聚合和/或交联形成小的二维或三维结构的方法和装置，即使用多光子激发的光聚合。 多光子激发的使用允许制造具有小于约1微米，优选小于约500nm，更优选小于约250nm，最优选小于约100nm的至少一个维度的结构和结构特征， 包括合成聚合物和诸如蛋白质，脂质，寡核苷酸等生物聚合物的各种有机和无机前体亚单位。

公开(公告)号：WO2017076493A1

公开(公告)日：2017-05-11

申请号：PCT/EP2016/001798

申请日：2016-10-28

Applicant: EOS GMBH ELECTRO OPTICAL SYSTEMS

Inventor： PERRET, Hans ,  GRONENBORN, Stephan

IPC: G02B13/22 ,  B41J2/45

CPC classification number: G02B13/22 ,  B41J2/451 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/2055 ,  G03F7/70416

Abstract: Eine Belichteroptik (20) dient als Aus- und/oder Nachrüstoptik für eine Vorrichtung (1) zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes (2) durch selektives schichtweises Verfestigen von Aufbaumaterial (15) an dem Querschnitt des herzustellenden Objektes (2) in der jeweiligen Schicht entsprechenden Stellen mittels Einwirkung elektromagnetischer Strahlung (22). Die Vorrichtung umfasst eine Strahlungsquelle (21), welche in der Lage ist, eine elektromagnetische Strahlung (22) auszusenden, die geeignet ist, beim Auftreffen auf die dem Querschnitt des herzustellenden Objektes (2) entsprechenden Stellen einer in einer Arbeitsfläche (7) der Vorrichtung (1) aufgebrachten Schicht des Aufbaumaterials (15) die Verfestigung des Aufbaumaterials (15) an diesen Stellen zu bewirken. Die Belichteroptik (20) umfasst zumindest ein erstes objektseitiges Linsensystem (23) mit einer ersten Brennweite f 1 und ein zweites bildseitiges Linsensystem (24) mit einer zweiten Brennweite f 2 , welche in dem Strahlengang der von der Strahlungsquelle (21) ausgesandten Strahlung (22) anordbar sind. Die Brennebene des ersten Linsensystems (23) und die Brennebene des zweiten Linsensystems (24) fallen in einer Ebene zwischen den beiden Linsensystemen zusammen. Die Brennweite f 1 des ersten Linsensystems (23) ist gleich groß oder größer als die Brennweite f 2 des zweiten Linsensystems (24). Die Belichteroptik (20) ist so ausgebildet und anordbar, dass die elektromagnetische Strahlung (22) im Wesentlichen senkrecht auf die Arbeitsfläche (7) auftrifft.

Abstract translation:

甲Belichteroptik（20）用作训练和/或改装导航用途stoptik˚F导航用途R A装置（1）用于制造三维物体（2）由建筑物材料（15）上的选择性逐层固化 通过电磁辐射（22）的作用在各层中产生待制造物体（2）的对应点的横截面。 该装置包括一个辐射源（21），其能够发射电磁辐射（22），这是合适的，在撞击在物体的横截面的（2）对应的地方之一在Arbeitsfl BEAR表面将被制造（7） 设备（1）施加建筑材料（15）的层以引起建筑材料（15）在这些位置处的凝固。 所述Belichteroptik（20）包括至少具有第一焦距f的第一物体侧的透镜系统（23）<子> 1 以及具有第二焦距f <子> 2 ，第二图像侧透镜系统（24），其 在辐射源（21）的光束路径中可以布置发射的辐射（22）。 第一透镜系统（23）的焦平面和第二透镜系统（24）的焦平面在两个透镜系统之间的平面中重合。 第一透镜系统（23）的焦距f 1具有相同的尺寸。 或大于第二透镜系统（24）的焦距f 2。 曝光光学器件（20）被设计和布置成使得电磁辐射（22）基本上垂直地照射在工作表面（7）上。

公开(公告)号：WO2017008442A1

公开(公告)日：2017-01-19

申请号：PCT/CN2015/098245

申请日：2015-12-22

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 周婷婷 ,  张斌 ,  齐永莲

IPC: C09K11/02 ,  C09K11/88 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/038

CPC classification number: C09K11/883 ,  B82Y20/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C09K11/025 ,  G02F1/133514 ,  G02F1/133516 ,  G02F1/133617 ,  G02F1/133621 ,  G02F2001/133614 ,  G02F2202/36 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027 ,  G03F7/105 ,  G03F7/2053 ,  H01L27/322 ,  H01L2251/5369 ,  Y10S977/774 ,  Y10S977/824 ,  Y10S977/892 ,  Y10S977/896 ,  Y10S977/95

Abstract: 本发明实施例提供了一种发光复合物、发光材料、显示用基板及制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可提高量子点等发光颗粒在色阻主体材料中的分散度，解决包含发光颗粒的显示用基板发光不均匀、发光效率低等问题，进一步降低对背光亮度的损耗。该发光复合物包含发光颗粒；附着在发光颗粒表面的有机配体；有机配体结构式中的A基团为与发光颗粒相结合的结合基团；有机配体的结构式中与所述X 1 基团、所述X 2 基团和所述X 3 基团相连接的碳碳双键可与感光树脂在曝光条件下发生交联反应。本发明还提供了用于发光复合物，包括该发光复合物的发光材料以及包括该发光材料的显示用基板、显示装置的制备方法。

公开(公告)号：WO2016089308A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：PCT/SG2015/050482

申请日：2015-12-02

Applicant: AGENCY FOR SCIENCE,TECHNOLOGY AND RESEARCH

Inventor： KUZNETSOV, Arseniy ,  PAN, Zhenying

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/34 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/7035

Abstract: According to various embodiments, there is provided a photolithography method including providing a first nanostructure on a first substrate; arranging the first substrate over a second substrate; illuminating the first nanostructure to melt the first nanostructure; transferring the first nanostructure to the second substrate to form a second nanostructure on the second substrate; arranging the second substrate over a masking layer such that the masking layer is in the near-field enhancement region of the second nanostructure; and illuminating the second nanostructure to melt a localized part of the masking layer underneath the second nanostructure, to form a hole in the masking layer.

Abstract translation: 根据各种实施例，提供一种光刻方法，包括在第一基板上提供第一纳米结构; 将第一衬底布置在第二衬底上; 照亮第一纳米结构以熔化第一纳米结构; 将第一纳米结构转移到第二基底以在第二基底上形成第二纳米结构; 将第二衬底布置在掩模层上，使得掩模层位于第二纳米结构的近场增强区域中; 以及照射所述第二纳米结构以熔化位于所述第二纳米结构下方的所述掩蔽层的局部部分，以在所述掩蔽层中形成孔。

公开(公告)号：WO2015133225A1

公开(公告)日：2015-09-11

申请号：PCT/JP2015/053449

申请日：2015-02-09

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 後藤　研由 ,  小島　雅史 ,  白川　三千紘 ,  加藤　啓太

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/038 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/325

Abstract: 本発明は、フォーカス許容度が大きく、かつ、現像性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記組成物を用いたパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される基を有する繰り返し単位（ｉ）を含む樹脂（Ｐ）、及び、特定の式で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する。

Abstract translation: 本发明提供了具有大的焦点纬度和卓越显影性的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，以及图案形成方法，电子器件制造方法和使用该组合物的电子器件。 该光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有包含具有由通式（1）表示的基团的重复单元（i）的树脂（P），以及在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物， 该化合物由特定的式表示。