公开(公告)号：WO2018160881A1

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：PCT/US2018/020518

申请日：2018-03-01

Applicant: PHASE SENSITIVE INNOVATIONS, INC.

Inventor： SHI, Shouyuan ,  PRATHER, Dennis ,  YAO, Peng ,  MURAKOWSKI, Janusz

IPC: H01Q21/22 ,  H01Q15/14 ,  H01Q9/44 ,  H01Q9/28

CPC classification number: G03F7/0005 ,  G03F7/16 ,  H01Q1/2283 ,  H01Q1/38 ,  H01Q3/2676 ,  H01Q21/062 ,  H01Q21/065

Abstract: This disclosure is directed to two-dimensional conformal optically-fed phased arrays and methods for manufacturing the same. The method includes providing a wafer substrate, depositing a first cladding layer on the wafer substrate, and depositing a core layer on the first cladding layer. The method further includes photolithographically patterning the core layer to provide a plurality of optical waveguide cores, and depositing a second cladding layer on the core layer to cover the plurality of optical waveguide cores to provide a plurality of optical waveguides. In addition, the method includes forming a plurality of antennas on the second cladding layer, each antenna of the plurality of antennas located near a termination of a corresponding optical waveguide of the plurality of optical waveguides, and providing a plurality of photodiodes on the second cladding layer, each photodiode of the plurality of photodiodes connected to a corresponding antenna.

公开(公告)号：WO2016150453A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：PCT/EP2015/000632

申请日：2015-03-24

Applicant: MAX-PLANCK-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER WISSENSCHAFTEN E. V.

Inventor： DIRKS, Jan-Henning ,  CHEN, Wenwen ,  SPATZ, Joachim P. ,  BRUNNER, Robert ,  KRAUS, Matthias

IPC: C03C17/34 ,  C08J7/00

CPC classification number: C03C17/34 ,  B82Y20/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C17/3435 ,  C03C2217/73 ,  C03C2217/734 ,  C03C2217/77 ,  C03C2217/91 ,  C03C2218/33 ,  C03C2218/34 ,  C08J7/00 ,  C23C16/0245 ,  G02B1/11 ,  G02B1/118 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/001

Abstract: The present invention relates to a method for creating nanostructures in and on organic or inorganic substrates comprising at least the following steps: a) providing a primary substrate having a predetermined refractive index; b) coating the primary substrate with one or more mediating layers each having a predetermined refractive index different from that of the primary substrate, wherein the sequence of the layers is arranged so that a predetermined gradient of the refractive index is generated between the primary substrate and the uppermost layer of the one or more mediating layers; c) optionally coating the uppermost layer of the one or more mediating layers with an additional top layer; d) depositing a nanostructured etching mask onto the uppermost layer of the composite substrate obtained after steps a)-b) or a) -c); e) generating protruding structures, in particular conical or pillar structures, or recessed structures, in particular holes, in at least the uppermost layer of the composite substrate by means of reactive ion etching. A further aspect of the invention relates to a composite substrate with a nanostructured surface obtainable by said method.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在有机或无机基材中形成纳米结构的方法，该方法至少包括以下步骤：a）提供具有预定折射率的初级基底; b）用一个或多个介质层涂覆初级衬底，每个介质层具有与初级衬底的预定折射率不同的预定折射率，其中层的顺序被布置成使得在初级衬底和第一衬底之间产生预定的折射率梯度 一个或多个中间层的最上层; c）任选地用一个额外的顶层涂覆一个或多个介质层的最上层; d）在步骤a）-b）或a）-c）之后获得的复合衬底的最上层上沉积纳米结构化蚀刻掩模; e）通过反应离子蚀刻在复合衬底的至少最上层中产生突出结构，特别是锥形或柱状结构或凹陷结构，特别是孔。 本发明的另一方面涉及具有可通过所述方法获得的纳米结构表面的复合衬底。

公开(公告)号：WO2016107081A1

公开(公告)日：2016-07-07

申请号：PCT/CN2015/081028

申请日：2015-06-09

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 李文波

IPC: G02B5/30

CPC classification number: G02B5/3016 ,  B29D11/00644 ,  B29D11/00865 ,  G02B5/305 ,  G02B5/3058 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/20

Abstract: 一种圆偏振片及其制备方法、以及一种显示面板。该圆偏振片包括：基板（1）、以及位于基板（1）一侧上的线型光栅结构层（3）和四分之一波片（5）。其中，所述四分之一波片（5）为通过光聚合液晶材料形成的四分之一波片（5）。上述圆偏振片可以直接集成于显示面板的上基板或/和下基板上，因此可以简化显示面板的结构。

公开(公告)号：WO2015087859A1

公开(公告)日：2015-06-18

申请号：PCT/JP2014/082513

申请日：2014-12-09

Applicant: 東レ株式会社

Inventor： 田辺美晴 ,  田中明彦

IPC: G06F3/041

CPC classification number: G06F3/047 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2045 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  G06F3/041 ,  G06F3/0416 ,  G06F3/0418 ,  G06F3/044 ,  G06F2203/04103

Abstract: 本発明は、ＩＴＯの代替として機能し、検出電極の骨見えや光反射といった問題を伴うことがなく、かつ、導電配線との間の断線や導通不良を抑止した微細なパターンが形成された、タッチセンサー用部材及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明は、表示領域と、加飾領域と、に区分される基板において、上記表示領域上及び上記加飾領域上に感光性導電ペーストを塗布して導電塗布膜を得る、導電塗布膜形成工程と、上記表示領域上の上記導電塗布膜と、上記加飾領域上の上記導電塗布膜と、を一括して露光及び現像し、さらに１００～２５０℃で加熱又はキセノンフラッシュランプの光を照射して導電パターンを得る、導電パターン形成工程と、を備え、上記表示領域上の上記導電パターンの線幅が、２～６μｍであり、上記加飾領域上の上記導電パターンの線幅が、７～１００μｍである、タッチセンサー用部材の製造方法を提供する。

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种用作ITO的替代物的触摸传感器部件，并且在其上形成抑制导线之间的不良传导或断开的微小图案，而不会引起与检测电极的光反射和可见性有关的问题 。 本发明的另一个目的是提供一种用于制造上述触摸传感器部件的方法。 本发明提供了一种触摸传感器部件的制造方法，其特征在于，包括：通过用感光性导电膏涂布基板的显示区域和设计区域来获得导电性涂膜的导电性涂膜形成工序; 以及导电图案形成步骤，用于通过在显示区域上的导电涂膜和设计区域上的导电涂膜一次曝光和显影来获得导电图案，然后通过将导电涂膜加热至100-250℃或通过 与来自氙闪光灯的光照射相同。 上述显示区域上的导电图案的线宽为2〜6μm，上述设计区域的导体图案的线宽为7〜100μm。

公开(公告)号：WO2014152435A1

公开(公告)日：2014-09-25

申请号：PCT/US2014/027338

申请日：2014-03-14

Applicant: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY

Inventor： SAKDINAWAT, Anne, Eugenie ,  CHANG, Chieh

IPC: C23F1/00 ,  C23F1/44

CPC classification number: C23F1/02 ,  B81B2201/047 ,  B81C1/00619 ,  B81C2201/0133 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1857 ,  G03F7/0005 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067

Abstract: A method of ultra-high aspect ratio high resolution vertical directionality controlled metal- assisted chemical etching, V-MACE, is provided that includes forming a pattern on a substrate surface, using a lithographic or non-lithographic process, forming hole concentration balancing structures on the substrate, using a lithographic process or non- lithographic process, where the concentration balancing structures are proximal to the pattern, forming mechanical anchors internal or external to the patterned structures, forming pathways for etchant and byproducts to diffuse, and etching vertical features from the substrate surface into the substrate, using metal-assisted chemical etching, MACE, where the vertical features are confined to a vertical direction by the concentration balancing structures.

Abstract translation: 提供了一种超高纵横比高分辨率垂直方向性控制的金属辅助化学蚀刻V-MACE的方法，其包括使用光刻或非平版印刷工艺在基板表面上形成图案，形成孔浓度平衡结构 基板，其使用光刻工艺或非平版印刷工艺，其中浓度平衡结构靠近图案，在图案化结构的内部或外部形成机械锚，形成用于蚀刻剂和副产物扩散的途径，并从垂直特征 衬底表面进入衬底，使用金属辅助化学蚀刻MACE，其中垂直特征通过浓度平衡结构限制在垂直方向。

公开(公告)号：WO2014129167A1

公开(公告)日：2014-08-28

申请号：PCT/JP2014/000792

申请日：2014-02-17

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 久保　祐治

IPC: H05B33/10 ,  H01L51/50

CPC classification number: B08B3/12 ,  B08B3/024 ,  B08B3/10 ,  B08B5/02 ,  B08B5/026 ,  B32B38/10 ,  G03F7/0005 ,  H01L51/0004 ,  H01L51/0005 ,  H01L51/56

Abstract: 　基板に塗布された塗布膜の一部を、容易且つ的確に除去することが可能な塗布膜除去装置を提供することを目的とする。基板（１）上の塗布膜（２）を選択的に除去する。そのために、成膜不要領域（ｅ１）の塗布膜（２）を除去するための除去液（７）を吐出する除去液供給手段（４）と、除去液（７）を回収する除去液回収手段（５）と、を設け、除去液供給手段（４）の除去液（７）の吐出口（４ａ）および除去液回収手段（５）の除去液（７）の回収口（５ａ）を成膜不要領域（ｅ１）に対向させた状態で、成膜不要領域（ｅ１）にのみ除去液供給手段（４）から所定量の除去液（７）を吐出させ、その後、除去液（７）を除去液回収手段（５）で回収する。

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够容易且精确地除去涂敷在基板上的涂膜的一部分的涂膜除去装置。 为了选择性地除去施加在基板（1）上的涂膜（2），该涂膜除去装置设置有：去除液体供应装置（4），其排出用于除去涂膜的去除液体（7） 2）应用于成膜不需要区域（e1）; 以及回收除去溶液（7）的除去液回收装置（5）。 在除去液体（7）的排出口（4a），排出口位于除去液体供给单元（4）和除去液体（7）的回收口（5a））的状态下，所述回收口 在除去液体回收装置（5）中，面向成膜不需要区域（e1），预定量的除去液体（7）仅从除去液体供给装置（e1）排出到成膜不需要区域（e1） （4），然后通过除去液体回收装置（5）回收除去液体（7）。

公开(公告)号：WO2013051516A1

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：PCT/JP2012/075421

申请日：2012-10-01

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 山崎　宏 ,  五十嵐　由三

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/11

CPC classification number: G06F3/041 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/027 ,  G03F7/09 ,  G03F7/092 ,  G03F7/095 ,  G03F7/0952 ,  G03F7/0955 ,  G03F7/2022 ,  G06F3/044 ,  G06F2203/04112 ,  H05K1/0274 ,  H05K1/0313 ,  H05K1/036 ,  H05K1/09 ,  H05K3/06 ,  H05K2201/0275 ,  Y10T428/24802

Abstract: 　本発明の導電パターンの形成方法は、基板上に設けられた感光性樹脂層と、感光性樹脂層の基板とは反対側の面に設けられた導電膜とを含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する第一の露光工程と、酸素存在下で、感光層の少なくとも第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、第二の露光工程の後に感光層を現像することにより、導電パターンを形成する現像工程と、を備える。

Abstract translation: 形成导电图案的方法包括：第一曝光步骤，其中包含设置在基板上的感光性树脂层的感光层和布置在感光层的表面上的导电膜，所述表面在反向 基板侧表面的侧面以图案的活性光线照射; 第二曝光步骤，其中在氧气存在下用活性光线照射感光层的未曝光区域的部分或全部，所述区域未在第一曝光步骤中曝光; 以及显影步骤，其中通过在第二曝光步骤之后使感光层显影而形成导电图案。

公开(公告)号：WO2013047860A1

公开(公告)日：2013-04-04

申请号：PCT/JP2012/075282

申请日：2012-09-24

Applicant: FUJIFILM CORPORATION ,  HITOMI, Seiichi ,  NAGATA, Yuzo ,  IDEI, Hiroaki ,  OOTA, Kazuya ,  MURAKAMI, Yousuke

Inventor： HITOMI, Seiichi ,  NAGATA, Yuzo ,  IDEI, Hiroaki ,  OOTA, Kazuya ,  MURAKAMI, Yousuke

IPC: C09B67/20 ,  C09B69/10 ,  G02B5/20 ,  H01L27/14

CPC classification number: G03F7/038 ,  C09B69/101 ,  C09B69/108 ,  C09B69/109 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0005

Abstract: To provide a coloring composition which suppresses color loss of the colored pattern to be formed, and may form a colored pattern which has excellent develop ability and heat resistance. A colored cured film which suppresses color loss of the colored pattern to be formed, and may form a colored pattern which has excellent develop ability and heat resistance, a color filter which is provided with the colored pattern, and a manufacturing method thereof are provided. A solid state imaging device which has excellent color loss resistance and heat resistance is provided. A coloring composition of the present invention includes a resin (A) having a dye structure in which a peak area occupied by a component having a molecular weight of 2000 or less is below 10% in respect to a peak area of a total molecular weight distribution of the resin (A) which is measured using gel permeation chromatography.

Abstract translation: 提供一种着色组合物，其可抑制待形成的着色图案的色失，并且可以形成具有优异显影性和耐热性的着色图案。 一种着色固化膜，其抑制将要形成的着色图案的色彩损失，并且可以形成具有优异显影性和耐热性的着色图案，设有着色图案的滤色器及其制造方法。 提供了具有优异的耐色性和耐热性的固态成像装置。 本发明的着色组合物包括具有染料结构的树脂（A），其中分子量为2000以下的成分的峰面积相对于总分子量分布的峰面积低于10％ 使用凝胶渗透色谱法测定的树脂（A）。

公开(公告)号：WO2009145061A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：PCT/JP2009/058943

申请日：2009-05-13

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  川口 泰秀

Inventor： 川口　泰秀

IPC: C08F220/20 ,  B29C59/02 ,  C08J5/00 ,  H01L21/027 ,  B29K27/12 ,  B29L11/00

CPC classification number: G03F7/027 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F222/1006 ,  C08J3/28 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0046 ,  Y10T428/24802 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24

Abstract: 　離型性および高屈折率の両方を兼ね備えた硬化物を得ることができる光硬化性組成物、およびモールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有する、高屈折率の成形体を製造できる方法を提供する。 　硬化前の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５５以上の化合物であり、かつ（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する化合物（Ａ）の６１～９０質量％と、フッ素原子を有し、かつ炭素－炭素不飽和二重結合を１つ以上有する化合物（Ｂ）（ただし、化合物（Ａ）を除く。）の２～１５質量％と、（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する化合物（Ｃ）（ただし、化合物（Ｂ）を除く。）の５～３５質量％と、光重合開始剤（Ｄ）の１～１２質量％とを含む（ただし、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）＋（Ｄ）＝１００質量％である。）光硬化性組成物。

Abstract translation: 公开了可用于获得既可脱模又具有高折射率的固化物的可光固化组合物，以及能够制造具有高折射率的成型体的方法，并且在表面上形成精细图案 通过精确地传递模具的反向图案。 光固化性组合物在固化前含有61〜90重量％的波长589nm的折射率为1.55以上的化合物（A），具有2个以上的（甲基）丙烯酰氧基，2〜15重量％的 具有氟原子和一个或多个碳 - 碳不饱和双键的化合物（B）（不包括化合物（A）），5-35重量％的具有一个（甲基）丙烯酰氧基的化合物（C）（不包括化合物（B）） 和（D）（（A）+（B）+（C）+（D）= 100重量％）的光聚合引发剂（1〜12重量％）。

公开(公告)号：WO2009067160A1

公开(公告)日：2009-05-28

申请号：PCT/US2008/012713

申请日：2008-11-12

Applicant: EASTMAN KODAK COMPANY ,  IRVING, Lyn Marie ,  IRVING, Mark Edward ,  THAI, Lan Bach

Inventor： IRVING, Lyn Marie ,  IRVING, Mark Edward ,  THAI, Lan Bach

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/77

CPC classification number: H01L27/1288 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/2022 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/1225 ,  H01L29/66765 ,  H01L29/7869 ,  Y10T428/24802

Abstract: The invention relates to a process for forming a structure comprising: (a) providing a transparent support; (b) forming a color mask having a selected absorption spectral range wherein the color mask has an effectively transparent portion and a partially absorptive portion, wherein the partially absorptive portion includes at least two portions having different optical densities within the absorption spectral range; (c) coating a layer of a photopatternable material sensitive to visible light in the absorption spectral range; (d) exposing and developing the photopatternable material to form a photopattern corresponding to at least one of said two portions of the partially absorptive portion; and (e) depositing and patterning a layer of functional material such that a pattern of functional material results corresponding to the at least one of said two portions of the partially absorptive portion.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于形成结构的方法，包括：（a）提供透明支撑体; （b）形成具有选定的吸收光谱范围的彩色掩模，其中所述彩色掩模具有有效透明部分和部分吸收部分，其中所述部分吸收部分包括在所述吸收光谱范围内具有不同光密度的至少两个部分; （c）在吸收光谱范围内涂覆对可见光敏感的光致图案材料层; （d）曝光和显影所述光图案化材料以形成对应于所述部分吸收部分的所述两个部分中的至少一个的光图案; 和（e）沉积和图案化功能材料层，使得功能材料的图案对应于部分吸收部分的所述两个部分中的至少一个。