公开(公告)号：WO2015146103A1

公开(公告)日：2015-10-01

申请号：PCT/JP2015/001570

申请日：2015-03-20

Applicant: 日本曹達株式会社

Inventor： 肥高　友也 ,  島田　幹也

IPC: C07F7/10 ,  B05D7/24 ,  C09D183/14 ,  C09D185/00

CPC classification number: C07F7/10 ,  C08G77/26 ,  C09D183/08

Abstract: 　速やかに成膜でき、しかも不純物が少なく、緻密な無色透明な有機薄膜を、煩雑な管理をすることなく製造できる方法を提供することを目的とする。　式（Ｉ）　 Ｒ １ ｎ ＭＸ ｍ－ｎ 　（Ｉ） （式（Ｉ）中、 Ｒ １ は置換基又は連結基を有していてもよい炭素数１４～３０の脂肪族炭化水素基、置換基又は連結基を有していてもよい炭素数１４～３０のハロゲン化脂肪族炭化水素基を表し、 Ｍは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、チタン原子、及びジルコニウム原子からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属原子を表し、 Ｘは、水酸基又は－ＮＲ ２ ２ 基を表し、Ｘのうち少なくとも２つは、－ＮＲ ２ ２ 基を表し、Ｒ ２ は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアルキル基、又は、置換基を有していてもよいフェニル基を表し、Ｒ ２ 同士は、同一でも相異なっていてもよく、ｍはＭの原子価を表す。 ｎは、１から（ｍ－２）のいずれかの正の整数を表し、ｎが２以上の場合、Ｒ １ は、同一でも相異なっていてもよい。） で表される有機金属化合物を含有する有機薄膜形成用溶液を用いて有機薄膜を形成する。

Abstract translation: 本发明的目的是提供能够快速成膜的方法，并且可以生产具有很少杂质的致密无色透明有机薄膜，而无需复杂的控制。 使用用于形成有机薄膜的溶液形成有机薄膜，该溶液含有由式（I）表示的有机金属化合物R1nMXm-n（I）（在式（I）中，R 1表示C 14 -C 30脂族烃 任选具有取代基或连接基团的基团，或任选具有取代基或连接基团的卤代C 14 -C 30脂族烃基; M表示选自硅原子，锗原子，锡原子中的至少一种金属原子 ，钛原子和锆原子; X表示羟基或-NR2 2基团，X表示-NR22基团中的至少两个; R2表示氢原子，可以具有取代基的C1-C10烷基，或 任选取代的苯基; R 2可以彼此相同或不同; m表示M的化合价.n表示1至（m-2）中的任何正整数，当n为2或更高时，R 1可以是 相同或不同）。

公开(公告)号：WO2013187450A1

公开(公告)日：2013-12-19

申请号：PCT/JP2013/066269

申请日：2013-06-12

Applicant: 日産化学工業株式会社

Inventor： 江口　和輝 ,  村梶　慶太 ,  元山　賢一

IPC: C09D185/00 ,  C09D183/04

CPC classification number: C09D183/04 ,  C08G77/58 ,  C09D183/14 ,  C08K5/098 ,  C08K3/28

Abstract: 　ＩＴＯなどの透明電極の保護に充分な硬度及び良好な成膜性を有し、かつ、フォトリソグラフィーによりパターニング可能な被膜を形成する金属酸化物被膜用塗布液を提供する。　式（Ｉ）で示される金属アルコキシドと、式（ＩＩＡ）又は式（ＩＩＢ）で示される有機すず化合物とを、式（ＩＩＩ）で示される金属塩の存在下に有機溶媒中で加水分解・縮合し、さらに析出防止剤を添加して得られる金属酸化物被膜用塗布液。　Ｍ １ （ＯＲ １ ） ｎ 　（Ｉ）　（Ｍ １ はＳｉ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｂ、Ｉｎ、Ｂｉ又はＮｂ。Ｒ １ は炭素数１～５のアルキル基。ｎは２～５の整数）。　Ｓｎ（ＯＯＣＲ ２ ） ２ 　（ＩＩＡ）　（Ｒ ２ はフッ素原子で置換されてもよく、またヘテロ原子を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基）　Ｓｎ（Ｒ ３ ＣＯＣＨＣＯＲ ４ ） ２ 　（ＩＩＢ）　（Ｒ ３ 、Ｒ ４ はフッ素原子で置換されてもよく、またヘテロ原子を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基）　Ｍ ３ （Ｘ） ｋ 　（ＩＩＩ）　（Ｍ ３ はＡｌ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｔａ、Ｙ又はＣｅ。Ｘは塩素、硝酸、硫酸、酢酸、蓚酸、スファミン酸、スルホン酸、アセト酢酸、アセチルアセトナート又はこれらの塩基性塩。ｋはＭ ３ の価数）

Abstract translation: 本发明提供一种用于金属氧化物涂膜的涂布液，其具有良好的成膜性能和足够的硬度，用于保护ITO和其它透明电极，并且形成可以使用光刻法进行图案化的涂膜。 用于金属氧化物涂膜的涂布液是通过在有机溶剂存在下，在有机溶剂中水解/缩合由式（I）表示的金属醇盐和由式（IIA）或式（IIB）表示的有机锡化合物 由式（III）表示的金属盐; 然后加入沉淀抑制剂。 M1（OR1）n。 （I）（M1表示Si，Mg，Zn，Ti，Ta，Zr，B，In，Bi或Nb，R1表示C1-5烷基，n表示2-5的整数）Sn（OOCR2） 2（IIA）（R2表示可以被氟原子取代并可以具有杂原子的C 1-20烷基）Sn（R 3 COCHCOR 4）2（IIB）（R 3和R 4表示可以是 M3（X）k（III）（M3表示Al，In，Zn，Zr，Bi，La，Ta，Y或Ce，X表示氯，硝酸， 乙酸，草酸，氨基磺酸，磺酸，乙酰乙酸或其碱式盐，k为M3的化合价。

公开(公告)号：WO2013115333A1

公开(公告)日：2013-08-08

申请号：PCT/JP2013/052254

申请日：2013-01-31

Applicant: 日産化学工業株式会社

Inventor： 村梶　慶太 ,  江口　和輝 ,  元山　賢一

IPC: C23C18/12 ,  C09D183/00 ,  C09D185/00

CPC classification number: C23C18/1212 ,  C08G77/20 ,  C09D183/06 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/122

Abstract: 　式（Ⅰ）、及び式（Ⅱ）で示される金属アルコキシドを、式（Ⅲ）で示される金属塩又は式（Ⅲ）で用いられる金属の蓚酸塩の存在下に、有機溶媒中で加水分解・重縮合し、さらに析出防止剤を添加して得られる金属酸化物被膜用塗布液。 Ｍ １ （ＯＲ １ ） ｎ （Ⅰ） （Ｍ １ は、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｎ又はＺｎ。Ｒ １ は炭素数１～５のアルキル基。ｎはＭ １ の価数）、 Ｒ ２ ｌ Ｍ ２ （ＯＲ ３ ） ４－ｌ （Ⅱ） （Ｍ ２ はＳｉ。Ｒ２は、Ｈ又はＦで置換されてもよく、且つ、ハロゲン、ビニル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、スチリル基、フェニル基、又はシクロヘキシル基などで置換されていてもよく、且つ、ヘテロ原子を有していてもよい炭素数１～２０の炭化水素基。Ｒ ３ は、炭素数１～５のアルキル基。ｌは１～３の整数） Ｍ ３ （Ｘ） ｍ （Ⅲ） （Ｍ ３ は金属。Ｘは塩素、硝酸、硫酸、酢酸、スファミン酸、スルホン酸、アセト酢酸、アセチルアセトナート又はこれらの塩基性塩。ｍはＭ ３ の価数）

Abstract translation: 通过在式（I）和（II）表示的金属盐的存在下，在有机溶剂中水解和缩聚由式（I）和（II）表示的金属盐或金属盐的草酸盐表示的金属氧化物膜的涂覆溶液， 通过式（III），并进一步加入沉淀抑制剂。 式（I）：M1（OR1）n，其中M1是Si，Ti，Ta，Zr，B，Al，Mg，Sn或Zn; R1是具有1至5个碳原子的烷基; 而n是M1的化合价。 式（II）：R 2 1 M 2（OR 3）4-l，其中M 2是Si; R2是可被H或F取代的碳原子数1〜20的烃基，可以被卤素，乙烯基，甲基丙烯酰氧基，丙烯酰氧基，苯乙烯基，苯基或环己基 基团等，并且可以具有杂原子; R3是具有1至5个碳原子的烷基; 式（III）：M3（X）m，其中M3是金属; X是氯，硝酸，硫酸，乙酸，氨基磺酸，磺酸，乙酰乙酸，乙酰丙酮酸盐或其碱式盐; m是M3的化合价。

公开(公告)号：WO2012099253A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：PCT/JP2012/051251

申请日：2012-01-20

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  江口 和輝 ,  村梶 慶太 ,  元山 賢一

Inventor： 江口　和輝 ,  村梶　慶太 ,  元山　賢一

IPC: G06F3/041 ,  C09D183/00 ,  C09D185/00 ,  G06F3/044

CPC classification number: G06F3/044 ,  C08G77/58 ,  C09D183/14 ,  G06F2203/04103 ,  G06F2203/04112

Abstract: 　高い信頼性、屈折率の制御されたコート膜を形成できるコーティング組成物、該組成物から形成されるコート膜、該コート膜を電極上に有するタッチパネルを提供する。　下記一般式（Ｉ）で示される第１の金属アルコキシドと、下記一般式（ＩＩ）で示される第２の金属アルコキシドと、下記一般式（ＩＩＩ）で示される金属塩と、有機溶媒と、水と、析出防止剤と、を含有することを特徴とするタッチパネル用コーティング組成物。 Ｍ １ （ＯＲ １ ） ｎ 　（Ｉ） Ｒ ２ ｌ Ｍ ２ （ＯＲ ３ ） ｍ－ｌ 　（ＩＩ） Ｍ ３ （Ｘ） ｋ 　（ＩＩＩ）

Abstract translation: 提供：能够形成具有高可靠性和受控折射率的涂膜的涂料组合物; 由该组合物形成的涂膜; 以及在电极上具有涂膜的触摸面板。 一种用于触摸面板的涂料组合物，其特征在于含有：由通式（I）表示的第一金属醇盐; 由通式（II）表示的第二种金属醇盐; 由通式（III）表示的金属盐; 有机溶剂; 水; 和降水抑制剂。 M1（OR1）n（I）R2 1M2（OR3）m-1（II）M3（X）k（III）

公开(公告)号：WO2012008427A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：PCT/JP2011/065840

申请日：2011-07-12

Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  杉本 敏明 ,  高信 尚史 ,  原 育成

Inventor： 杉本　敏明 ,  高信　尚史 ,  原　育成

IPC: C03C17/25 ,  C09D1/00 ,  C09D7/12 ,  C09D185/00 ,  H01L31/042

CPC classification number: C03C17/007 ,  C03C2217/45 ,  C03C2217/465 ,  C03C2217/478 ,  C03C2217/732 ,  C09D1/02 ,  C09D5/16 ,  C09D7/42 ,  H01L31/02168 ,  Y02E10/50

Abstract: 【課題】 透明基体上に形成する低反射膜およびその形成方法に関し、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。 【解決手段】 シリカ微粒子と、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、酸化クロム、酸化セリウム、酸化モリブデンおよび酸化ランタンからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物をシリカ微粒子に対し５質量％以上、４０質量％以下、バインダーとして含有してなり、屈折率１．２０以上、１．４０以下であることを特徴とする低反射膜およびその形成方法。

Abstract translation: 提供一种要形成在透明基材上的低反射膜和形成低反射膜的方法。 具体地说，为了提供一种低分辨率的低反射膜，当以单层膜的形式制备时可以具有低折射率和低反射率，并且可以以更简单的方式形成为具有大的表面积， 用于形成低反射膜，以及配备有低反射膜的低反射部件。 解决方案低反射膜和低反射膜的制造方法，所述低反射膜的特征在于包括二氧化硅微粒和至少一种选自氧化钨，氧化铌，氧化钽， 氧化钛，氧化锆，氧化锡，氧化铝，氧化铪，氧化铬，氧化铈，氧化钼和氧化镧作为粘合剂，相对于二氧化硅微粒的量为5〜40质量％ 折射率为1.20〜1.40（含）。

公开(公告)号：WO2011142130A1

公开(公告)日：2011-11-17

申请号：PCT/JP2011/002629

申请日：2011-05-11

Applicant: 株式会社KRI ,  佐藤 正洋 ,  北島 さつき ,  荘所 大策

Inventor： 佐藤　正洋 ,  北島　さつき ,  荘所　大策

IPC: C07F7/08 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/08 ,  C09D185/00 ,  C09K3/00

CPC classification number: C07F7/0856 ,  C07F7/1836 ,  C08G77/58 ,  C09D1/00 ,  C09K3/1463

Abstract: 親水化効果及び帯電防止効果が大きく、低コストで製造でき、コーティング可能な修飾金属酸化物ゾルを提供する。本発明は、下記式（１）で表される官能基で金属酸化物ゾル１ｇあたり０．５５～５．５ｍｍｏｌ修飾されたことを特徴とする修飾金属酸化物ゾルである。 ＭＯＳ（＝Ｏ） ２ －Ｒ １ －Ｓｉ（ＣＨ ３ ） ｎ （－Ｏ－） ３－ｎ　 （１） ｛式中Ｍは水素イオン、炭素数１～４のアルキル基、金属イオン又はアンモニウム（ＮＲ ２ ４ ）基、Ｒ １ は炭素数１～１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、Ｒ ２ は同一或いは異なってもよい炭素数１～５のアルキル基又は水素原子であり、ｎは０又は１を表す。}

Abstract translation: 公开了具有大的亲水化效果和电荷防止效果的改性金属氧化物溶胶，可以低成本制造，能够进行涂布。 具体公开了一种改性金属氧化物溶胶，其特征在于用式（1）表示的官能团以每0.5克金属氧化物溶胶为0.55-5.5毫摩尔进行改性。 MOS（= 0）2-R1-Si（CH3）n（-O-）3-n（1）{式中，M为氢离子，C1-4烷基，金属离子或铵（NR2） 组; R1是C1-10亚烷基（主亚烷基链中可具有氨基甲酸酯键或脲键）; R2可以相同或不同，为C1-5烷基或氢原子; n表示0或1.}

公开(公告)号：WO2011102350A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：PCT/JP2011/053171

申请日：2011-02-15

Applicant: 住友金属鉱山株式会社 ,  行延 雅也 ,  永野 崇仁 ,  大塚 良広

Inventor： 行延　雅也 ,  永野　崇仁 ,  大塚　良広

IPC: H01B13/00 ,  B05D3/06 ,  B05D5/12 ,  C09D1/00 ,  C09D5/24 ,  C09D185/00 ,  H01B5/14

CPC classification number: C09D5/24 ,  C09D11/101 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1275 ,  C23C18/1279 ,  C23C18/1295 ,  C23C18/14 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02628 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/50

Abstract: 【課題】　低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって、特に３００℃未満の低温加熱で形成される優れた透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ膜強度に優れる透明導電膜、及びこの透明導電膜の製造方法を提供する。 【解決手段】　基板上に有機金属化合物を含む塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜から乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を加熱しながらエネルギー線照射して無機膜を形成する加熱エネルギー線照射工程、必要に応じて、加熱還元工程の各工程を経て形成される透明導電膜の製造方法であって、前記加熱エネルギー線照射工程が、乾燥塗布膜を露点温度－１０℃以下の酸素含有雰囲気下で、３００℃未満の加熱温度に加熱しながら、エネルギー線照射を行い、乾燥塗布膜に含まれる有機成分を除去することで金属酸化物を主成分とする導電性酸化物微粒子が緻密に充填した導電性酸化物微粒子層を形成する透明導電膜の製造方法である。

Abstract translation: 提供一种通过涂布液形成的透明导电膜，其是制造透明导电膜的廉价的简单方法，特别是通过低于300℃的低温加热，并且具有优异的透明性和高导电性并且具有优异的膜强度。 还提供了制造透明导电膜的方法。 该方法是通过以下步骤制造透明导电膜的方法：在基材上形成含有有机金属化合物的涂膜的涂布步骤，其中由涂膜形成干燥的涂膜的干燥步骤， 加热/能量射线照射步骤，其中干燥的涂膜被加热并同时用能量射线照射以形成无机膜，以及根据需要进行的加热/还原步骤。 在加热/能量射线照射步骤中，在露点为-10℃以下的氧气氛中，将干燥后的涂膜在300℃以下的温度下加热照射能量射线，除去干燥后的涂层中所含的有机成分 膜，从而形成导电氧化物微粒层，其中以包含金属氧化物为主要成分的细小导电氧化物颗粒已被密集地包覆的层。

公开(公告)号：WO2011067411A1

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：PCT/EP2010/068979

申请日：2010-12-06

Applicant: SPAWNT PRIVATE S.À.R.L. ,  AUNER, Norbert ,  BAUCH, Christian ,  HOLL, Sven ,  DELTSCHEW, Rumen ,  MOHSSENI-ALA, Seyed-Javad ,  LIPPOLD, Gerd ,  GEBEL, Thoralf

Inventor： AUNER, Norbert ,  BAUCH, Christian ,  HOLL, Sven ,  DELTSCHEW, Rumen ,  MOHSSENI-ALA, Seyed-Javad ,  LIPPOLD, Gerd ,  GEBEL, Thoralf

IPC: C08L85/00 ,  C23C20/06 ,  C01B6/06 ,  C09D185/00

CPC classification number: C08G77/60 ,  C01B33/04 ,  C01G17/00 ,  C08G79/14 ,  Y02P20/582

Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung von hydriertem Polygerman als reine Verbindung oder Gemisch von Verbindungen, bei dem halogeniertes Polygerman hydriert wird, angegeben. Weiterhin werden ein hydriertes Polygerman sowie eine aus dem hydrierten Polygerman hergestellte Germaniumschicht und ein Verfahren zu ihrer Herstellung angegeben.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于氢化聚锗的制备表示为纯化合物或化合物的混合物在该卤化聚锗氢化。 此外，提供了它们的制备氢化聚锗和由氢化聚锗和方法的锗层。

公开(公告)号：WO2011052618A1

公开(公告)日：2011-05-05

申请号：PCT/JP2010/069025

申请日：2010-10-27

Applicant: 住友化学株式会社 ,  矢作 公

Inventor： 矢作　公

IPC: H01L29/786 ,  C09D7/12 ,  C09D185/00 ,  H01L21/312 ,  H01L21/336 ,  H01L51/05

CPC classification number: H01L51/107 ,  C09D5/008 ,  H01L51/0545

Abstract: 　本発明の解決課題は、有機層の表面に薄く均一な保護層を形成することができ、形成した保護層は、エッチングすることにより容易に除去することが可能であり、エッチングの結果露出した有機層の表面に存在する有機化合物の変質を抑制する有機表面保護層組成物を提供することである。課題の解決手段は、（Ａ）金属アルコキシド、（Ｂ）該金属アルコキシドの安定化剤、及び、（Ｃ）該金属アルコキシドを溶解する有機溶媒を含有する有機表面保護層組成物である。

Abstract translation: 公开了用于有机表面的保护层组合物，其能够形成薄且均匀的保护层，其可以通过在有机层的表面上蚀刻而容易地除去，并且不会发生存在的有机化合物的劣化 在作为蚀刻的结果而露出的有机层的表面上。 具体公开了一种有机表面的保护层组合物，其包含（A）金属醇盐，（B）金属醇盐的稳定剂，（C）能够溶解金属醇盐的有机溶剂。

公开(公告)号：WO2010150868A1

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：PCT/JP2010/060813

申请日：2010-06-25

Applicant: 株式会社 きもと ,  井狩 雅文 ,  森本 政雄 ,  原田 正裕 ,  堀川 晃

Inventor： 井狩　雅文 ,  森本　政雄 ,  原田　正裕 ,  堀川　晃

IPC: B32B7/02 ,  B32B27/30 ,  C09D7/12 ,  C09D129/04 ,  C09D133/00 ,  C09D185/00 ,  C09D201/00 ,  C09J7/02

CPC classification number: B32B7/10 ,  B32B7/12 ,  B32B27/08 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  B32B27/306 ,  B32B27/308 ,  B32B2270/00 ,  B32B2307/714 ,  B32B2307/726 ,  C08F220/06 ,  C08L29/04 ,  C09D5/00 ,  C09D133/02 ,  C08L2666/04

Abstract: 　防曇性能の他に耐水性にも優れた塗膜を有する防曇性シートを提供する。　本発明の防曇性シートは、基材上に第１層と第２層が順に積層されてなる。第１層は、吸水性樹脂を含む第１コーティング組成物の加熱処理物で構成されている。第２層は、ポリオールを含む第２コーティング組成物の加熱処理物で構成されている。吸水性樹脂は、ポリビニルアルコール及びポリアクリル酸類を含むことが好ましい。ポリオールは、ポリエチレングリコールを含むことが好ましい。第１コーティング組成物及び前記第２コーティング組成物の少なくとも何れかは、金属アルコキシド、金属アルコキシドの加水分解物及び金属アルコキシドの加水分解重縮合物から選ばれる少なくとも１つの化合物を含むことが好ましい。

Abstract translation: 公开了具有耐水性优异，防雾性优异的涂膜的防雾片。 防雾片依次层叠基板上的第一层和第二层。 第一层由通过热处理含有吸水性树脂的第一涂料组合物获得的产品构成。 第二层由通过热处理含有多元醇的第二涂料组合物获得的产品构成。 吸水性树脂优选含有聚乙烯醇和聚丙烯酸。 多元醇优选含有聚乙二醇。 第一涂料组合物和/或第二涂料组合物优选含有至少一种选自以下的化合物：金属醇盐，金属醇盐水解产物和金属醇盐水解缩聚物。