公开(公告)号：WO2016062698A1

公开(公告)日：2016-04-28

申请号：PCT/EP2015/074226

申请日：2015-10-20

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： SIEGERT, Sebastian ,  STUDE, Gerit ,  ARNOLD, Gerd ,  WIEGAND, Florian

IPC: H01J37/34 ,  C23C14/35

CPC classification number: H01J37/3405 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3435

Abstract: Eine Magnetronanordnung (100, 200, 250, 300, 400, 700) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen Folgendes aufweisen: eine Prozesskammerwand (102); eine erste Endblock-Anordnung (104) und eine zweite Endblock-Anordnung (106), welche ein Endblockpaar zum drehbaren Lagern und Versorgen einer Rohrkathode (108) bilden; eine Sockelanordnung (114, 154, 314, 4, 714) an welcher die erste Endblock-Anordnung (104) befestigt ist; wobei die Prozesskammerwand (102) eine erste Befestigungsanordnung (124) zum Befestigen der Sockelanordnung (114, 154, 314, 4114) an der Prozesskammerwand (102) aufweisen kann und eine zweite Befestigungsanordnung (126) zum Befestigen der zweiten Endblock-Anordnung (106) an der Prozesskammerwand (102) aufweisen kann; wobei mittels der ersten Befestigungsanordnung (124) und der zweiten Befestigungsanordnung (126) eine relative Lage der ersten Endblock-Anordnung (104) zu der zweiten Endblock-Anordnung (106) definiert sein kann; und wobei die Sockelanordnung (114, 154, 314, 414, 514, 714) zum Auslenken der ersten Endblock-Anordnung entlang zumindest zweier Freiheitsgrade relativ zu der Prozesskammerwand (102) ausgebildet sein kann.

Abstract translation: 的磁控管（100，200，250，300，400，700）可具有以下根据各种实施例：处理室的壁（102）; 第一端块组件（104）和第二端块组件（106），用于可旋转地支撑和供给管阴极（108）形成一Endblockpaar; 的插座组件（114，154，314，如图4所示，714）被固定到所述第一端块组件（104）; 其中，所述处理腔室的壁（102）可以包括用于在处理腔室的壁（102）和用于固定所述第二端块组件上的第二紧固组件（126），固定在该基座组件（114，154，314，4114）的第一安装组件（124）（106） 到处理室的壁（102）可以包括： 其中，由所述第一紧固组件（124）和所述第二紧固组件（126）的装置可以被限定在第一端块组件（104）到所述第二端块组件（106）的相对位置; 并且其中，所述插座组件（114，154，314，414，514，714）可以被配置成沿着至少两个自由度相对于所述处理腔室的壁（102）自由的偏转第一端块组件的。

公开(公告)号：WO2015135795A1

公开(公告)日：2015-09-17

申请号：PCT/EP2015/054391

申请日：2015-03-03

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： GROSS, Harald

IPC: H01J61/90 ,  H01J61/54 ,  H01L21/67 ,  H05B41/04 ,  H05B41/22

CPC classification number: H05B41/22 ,  H01J61/80 ,  H01L21/67115 ,  H05B41/04

Abstract: Eine Blitzlampenanordnung (100) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen Folgendes aufweisen: eine Gasentladungslampe (102), einen Treiberschaltkreis (104) zum Bereitstellen einer Betriebsspannung an der Gasentladungslampe (102), wobei der Treiberschaltkreis (104) derart eingerichtetsein kann, dass ein elektrischer Entladungspuls (302a, 302b, 302c) erzeugt wird, sobald die Gasentladungslampe (102) gezündet wird;einen Zündschaltkreis (106) zum Erzeugen eines elektrischen Zündpulses (306p) zum Zünden (106k) der Gasentladungslampe (102); wobei der Zündschaltkreis (106) derart eingerichtetsein kann, dass die Halbwertsbreite (306w) des elektrischen Zündpulses (306p) kleiner ist als ein Fünftel der Halbwertsbreite (302w) des elektrischen Entladungspulses (302a, 302b, 302c).

Abstract translation: 闪光灯组件（100），在根据各种实施方式，包括：气体放电灯（102），驱动电路（104），用于向所述气体放电灯（102），其中，所述驱动器电路（104）可以被布置在这样的方式提供工作电压，一个电放电脉冲（302A ，302B，302C），当所述气体放电灯（102）被点燃产生;点火电路（106）（用于产生电点火脉冲306P）（用于气体放电灯（102）的点火106K）; 其中，所述点火电路（106）可被布置成使得所述电点火脉冲（306P）的半值宽度（306瓦特）是电放电脉冲（302A，302B，302C）的半值宽度（302W）的小于五分之一。

公开(公告)号：WO2015124736A3

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：PCT/EP2015/053642

申请日：2015-02-20

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： VIELUF, Maik ,  GROSS, Harald

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/56 ,  C23C14/02 ,  C23C14/58 ,  H01M8/02 ,  C23C16/26 ,  C23C16/56 ,  C23C16/54 ,  C01B31/04

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren (100, 200, 1000) zum Bearbeiten einer Metalloberfläche eines Substrats (302) oder eines Metallsubstrats, wobei das Verfahren (100, 200, 1000) Folgendes aufweisen kann: das Aufbringen einer Schicht (304) auf die Metalloberfläche (302) oder auf das Metallsubstrat (302), wobei die Schicht (304) sp 2 hybridisierten Kohlenstoff und/oder sp 3 hybridisierten Kohlenstoff aufweisen kann, wobei die Schicht (304) einen Kohlenstoffanteil von mehr als 30 at-% aufweisen kann; und das gepulste Bestrahlen der Schicht (302), so dass die Schicht (302) erwärmt werden kann und die Schicht (302) zumindest teilweise strukturell verändert werden kann.

公开(公告)号：WO2015114145A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/EP2015/052078

申请日：2015-02-02

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： MOSSHAMMER, Steffen ,  FUKAREK, Wolfgang ,  DSAAK, Torsten

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  C23C16/54 ,  B65G39/00

CPC classification number: C23C14/564 ,  B65G13/07 ,  C23C14/568 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/54

Abstract: Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein Transportsystem (1) bereitgestellt, aufweisend: mehrere Transportwalzen (9), die in einem Abstand voneinander angeordnet sind, zum Transportieren eines Substrates (2) in einer Transportrichtung (10); mindestens einen Gurt (13), und mindestens eine Blende (12); wobei die Blende (12) ortsfest zu den Transportwalzen (9) angeordnet ist, wobei die Blende (12) zwischen den Transportwalzen (9) in der Transportrichtung (10) beim Transport des Substrates (2) bis an eine Rückseite (7) des Substrates (2) heranreichend derart ausgeführt ist, dass ein erster Spalt (15) zwischen der Blende (12) und der Rückseite (7) des Substrates (2) gebildet ist, wobei der Gurt (13) über mindestens eine Transportwalze (9) der mehreren Transportwalzen geführt ist und beim Transport des Substrates (2) die Rückseite (7) des Substrates (2) einen Teil des Gurtes (13) kontaktiert, und wobei der Gurt (13) ferner derart neben der Blende (12) verlaufend angeordnet ist, dass zwischen der Blende (12) und dem Gurt (13) ein zweiter Spalt (16) gebildet ist.

Abstract translation: 根据各种实施例，传输系统（1）被提供，其包括：多个输送辊（9），其被间隔开一距离，用于输送基板（2）在输送方向（10）; 至少一个条带（13），以及至少一个孔（12）; 其中，所述孔（12）被固定到传送辊（9），所述基板（2）的运输到后侧时在输送方向（10）的传送辊（9）之间的隔膜（12）（7）在基板的 （2）被设计变焦足以使得隔膜（12）和所述基板（2）的背面（7）之间的第一间隙（15）形成，其特征在于，通过至少一个输送辊的带（13）（9）该多个的 输送辊被引导和衬底的运输（2）中，在基板的背面（7）（2）接触带（13）的一部分，并且其中，所述带（13）被进一步设置为邻近于隔膜（12），以便扩展 隔膜（12）和带（13）之间，第二间隙（16）形成。

公开(公告)号：WO2014154746A1

公开(公告)日：2014-10-02

申请号：PCT/EP2014/056057

申请日：2014-03-26

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： LEUPOLD, Jan

IPC: C23C14/56

CPC classification number: C23C14/562 ,  C23C14/566

Abstract: Der Erfindung, welche ein Schleusenverfahren und eine Vakuumsubstratbehandlungsanlage betrifft, wobei die Vakuumsubstratbehandlungsanlage mindestens eine Prozesskammer, mindestens eine gegenüber der Umgebung und gegenüber der Prozesskammer durch je ein Schleusenventil vakuumdicht verschließbare Schleusenkammer umfasst, wobei die Schleusenkammer durch mindestens zwei quer zu einer Substrattransportrichtung angeordnete, mit je einem vakuumdicht schließenden Schleusenventil versehene Trennwände in Kammersegmente geteilt ist und wobei eine Substrattransporteinrichtung zum Transport von Substraten in Substrattransportrichtung vorgesehen ist, liegt die Aufgabe zugrunde, die Zykluszeit zu reduzieren und damit die Produktivität der Vakuumsubstratbehandlungsanlage zu steigern, die Anzahl der Anlagenkomponenten zu reduzieren sowie die Auslastung der Vakuumpumpen zu verbessern. Die Aufgabe wird dadurch gelöst, dass während des Transport des Substrates durch die Schleusenkammer jedes Schleusenventil geöffnet wird, sobald sich die Vorderkante des Substrats annähert und geschlossen wird, sobald die Hinterkante des Substrats das Schleusenventil passiert hat, wobei der Druck in einem durch zwei Schleusenventile abgeschlossenen Substratbereich während dieses Transportes des Substrates vom vor der Schleusenkammer herrschenden Druck auf den hinter der Schleusenkammer herrschenden Druck verändert wird.

Abstract translation: 本发明中，它涉及一种锁定方法和真空基板处理系统，其中所述真空基板处理系统至少包括至少一个处理腔室，从环境和与由相应的闸门阀可关闭的锁定腔室相对于所述处理腔室的真空密封的方式表示，在每一种情况下布置负载锁定室中的至少两个横向于衬底输送方向，具有 提供一个真空密封的关闭闸阀隔壁分为腔室区段和其中的基板输送装置被提供用于在基片传输方向输送基板，具有用于其目的是减少循环时间，从而提高了真空基板处理系统的生产率，以降低设备部件的数量，以及利用 以改善真空。 该目的是这样达到的，每个闸门阀被所述衬底的通过锁定腔室中的运输过程中，一旦打开，作为基板的方法的前缘，并且在一个由两个锁定阀封闭只要基片的后缘已经通过锁阀传递，压力关闭 这个传输从现有之前的压力锁气室到压力普遍存在的闸门腔室压力的下游的基底期间衬底区域被改变。