公开(公告)号：WO2017125418A1

公开(公告)日：2017-07-27

申请号：PCT/EP2017/050952

申请日：2017-01-18

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： VIELUF, Maik

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/30 ,  B22F1/02 ,  C23C14/22 ,  C23C24/00

CPC classification number: C23C14/30 ,  B22F1/02 ,  B22F1/025 ,  C23C14/223 ,  C23C14/24

Abstract: Verfahren, Beschichtungsvorrichtung und Prozessieranordnung. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren (100) Folgendes aufweisen: Erzeugen eines Vakuums in einem Beschichtungsbereich (803) und in einem Auffangbereich (805); Emittieren von Feststoffpartikel mit einer ersten Haupt-Ausbreitungsrichtung (102e) durch den Beschichtungsbereich (803) hindurch in den Auffangbereich (805); Verdampfen eines Beschichtungsmaterial mit einer zweiten Haupt-Ausbreitungsrichtung (104e) in den Beschichtungsbereich (803) hinein, wobei die erste Haupt-Ausbreitungsrichtung (102e) und die zweite Haupt-Ausbreitungsrichtung (104e) in einem Winkel zueinander verlaufen derart, dass das Beschichtungsmaterial an dem Auffangbereich (805) vorbei verdampft wird.

Abstract translation: 方法，涂布装置和处理装置。 宝石＆AUML;大街 各种示例性导航用途可形成引导件的方法（100）包括：创建在涂覆区中的真空（803）和一个收集区（805）; 通过涂覆区域（803）发射具有第一主传播方向（102e）的固体颗粒进入捕获区域（805）; 蒸发具有在涂敷区域（803）的第二主传播方向（104E）内的涂层材料，其中所述第一主传播方向（102E）和以一定角度在第二主传播方向（104E），以彼此的运行，使得在涂层材料 收集区（805）被汽化。

公开(公告)号：WO2017092906A1

公开(公告)日：2017-06-08

申请号：PCT/EP2016/073095

申请日：2016-09-28

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： LAIMER, Georg ,  ZSCHIESCHANG, Erwin

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  C23C14/564 ,  C23C14/568

Abstract: Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Beschichtungsanordnung (100a, 100b, 900) Folgendes aufweisen: eine Beschichtungskammer (102), in welcher ein Beschichtungsbereich (104) bereitgestellt ist; eine Beschichtungsmatenalquelle (106) zum Beschichten eines Substrats (410) in dem Beschichtungsbereich (104) mit einem Beschichtungsmaterial, eine Auffangstruktur (108, 108a, 108b) zum Auffangen von Beschichtungsmaterial, welche einen Abschirmbereich (110) gegenüber der Beschichtungsmatenalquelle (106) abschirmt, welcher an den Beschichtungsbereich (104) angrenzt und einen Abstand (110d) von der Beschichtungsmatenalquelle (106) aufweist; wobei eine Ausdehnung (110q) des Abschirmbereichs (110) größer ist als der Abstand (110d); und eine in der Beschichtungskammer (102) angeordnete Transportvorrichtung (114, 1204), mittels welcher die Auffangstruktur (108, 108a, 108b) in die Beschichtungskammer (102) hinein und/oder aus der Beschichtungskammer (102) heraus transportierbar ist.

Abstract translation:

宝石。 根据各种实施例，涂覆装置（100a，100b，900）可以包括：涂覆室（102），涂覆区域（104）设置在涂覆室（102）中; 一个Beschichtungsmatenalquelle（106），用于与涂层材料，收集结构（108，108A，108B），用于对Beschichtungsmatenalquelle的OVER收集具有屏蔽（110）的涂层材料涂覆在涂覆区域（104）的衬底（410）（106） （104）相邻并与Beschichtungsmatenalquelle（106）相距一定距离（110d）的屏蔽层; 其中屏蔽区域（110）的范围（110q）大于距离（110d）; 并且在涂布室（102），布置输送装置（114，1204），通过该收集结构（108，108A，108B）是在涂覆室（102）进入和/或流出涂覆室出来（102）可移动的

公开(公告)号：WO2017080708A1

公开(公告)日：2017-05-18

申请号：PCT/EP2016/072724

申请日：2016-09-23

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： WEHNER, Uwe ,  RÖNNEFAHRT, Thomas ,  LAIMER, Georg

IPC: B01J19/00 ,  C23C14/56

CPC classification number: B01J19/004 ,  C23C14/56 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32807

Abstract: Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Kammeranordnung (100a) Folgendes aufweisen: ein Kammergehäuse (802), welches mehrere Prozessierbereiche (803a, 803b) aufweist, von denen jeder Prozessierbereich eine Übergabeposition (813a, 813b) definiert und von jeweils einer Öffnung in dem Kammergehäuse (802) freigelegt ist; mehrere Positionierung-Kammerstrukturen (833a, 833b), von denen jede Positionierung-Kammerstruktur genau einem Prozessierbereich der mehreren Prozessierbereiche (803a, 803b) zugeordnet ist und zum Positionieren einer dazu passenden Servicevorrichtung (100b) in dessen Übergabeposition (813a, 813b) eingerichtet ist; wobei das Kammergehäuse (802) derart eingerichtet ist, dass, wenn die Servicevorrichtung (100b) mittels einer Positionierung-Kammerstruktur der mehreren Positionierung-Kammerstrukturen (833a, 833b) positioniert ist, eine Prozessiereinheit durch die jeweilige Öffnung hindurch zwischen einem der Positionierung-Kammerstruktur zugeordneten Prozessierbereich und der Servicevorrichtung (100b) verlagert werden kann.

Abstract translation:

宝石。 各种示例性导航用途可以指导形式的腔室装置（100A）包括：Kammergeh BEAR使用（802），包括多个Prozessierbereiche（803A，803B），它的各Prozessierbereich导航用途bergabeposition（813A，813B）被定义，并且每个的＆Ouml 暴露使用（802）;;开口在Kammergeh＆AUML; 多个定位腔结构（件833a，833b上），每个定位室结构恰好一个Prozessierbereich多个Prozessierbereiche（803A，803B）与和用于在导航使用bergabeposition定位一个匹配的服务装置（100B）（813A，813B）被适配相关联 是; 其中Kammergeh BEAR使用（802）被适配以使得当服务设备（100B）由所述多个定位腔结构（件833a，833b上）的一个定位室结构的装置是通过各自的＆Ouml定位成一个处理单元;中的所述一个之间的开口穿过 定位腔结构相关联Prozessierbereich和服务装置（100B），可以移动。

公开(公告)号：WO2015135798A1

公开(公告)日：2015-09-17

申请号：PCT/EP2015/054411

申请日：2015-03-03

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： LEUPOLD, Jan ,  GROSS, Harald ,  HAASEMANN, Georg ,  HEISIG, Andreas ,  ZSCHIESCHANG, Erwin ,  MIRRING, Enno ,  ZIMMERMANN, Lars ,  WILLKOMMEN, Udo

IPC: H01J61/90 ,  H01J61/54 ,  H01L21/67

CPC classification number: H05B41/22 ,  H01J61/80 ,  H01L21/67115 ,  H05B41/04

Abstract: Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozesskammerabdeck-Anordnung (100) Folgendes aufweisen: eine Prozesskammerabdeckung (102) zum Abdecken einer Öffnung (200g) einer Prozesskammer (200p); undeine Blitzlampenanordnung mit mindestens einer Blitzlampe(106), wobei die Blitzlampenanordnung an der Prozesskammerabdeckung (102) an ihrer Prozesskammerseite (102i) befestigt ist.

Abstract translation: 根据各种实施例，一个Prozesskammerabdeck组件（100）可包括：用于覆盖处理室（200P）的开口（200克）的处理腔室盖（102）; 和具有闪光灯装置的至少一个闪光灯（106），其中，所述闪光灯组件在其处理室侧（102 1）的处理腔室盖（102）安装。

公开(公告)号：WO2015135727A1

公开(公告)日：2015-09-17

申请号：PCT/EP2015/053488

申请日：2015-02-19

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： GROSS, Harald ,  LEUPOLD, Jan ,  HEISIG, Andreas ,  WILLKOMMEN, Udo

IPC: H01J61/80 ,  H01R33/08

CPC classification number: H05B41/22 ,  H01J61/80 ,  H01L21/67115 ,  H05B41/04

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Gasentladungslampenanordnung, aufweisend eine Gasentladungslampe (1) mit einem rohrförmigen, langgestreckten Lampenkörper (3) sowie einer ersten, in dem Lampenkörper aufgenommenen Elektrode (5), eine erste, langgestreckte elektrische Leiterstruktur (10) mit einem ersten Längsendabschnitt (10a), der mit einem aus dem Lampenkörper herausgeführten Kontaktierungsabschnitt (5a) der ersten Elektrode elektrisch verbunden ist, und eine erste Gehäusestruktur (20), die einen Hohlraum (26) definiert, durch welchen hindurch sich die erste elektrische Leiterstruktur erstreckt und in dem die erste elektrische Leiterstruktur unter Ausbildung eines Lampenlängsdehnungs-Puffers einmal oder mehrmals aus einer ersten, im Wesentlichen linearen Erstreckungsrichtung heraus vorgebogen ist. Alternativ kann die Leiterstruktur einen Lampenlängsdehnungs-Pufferabschnitt aufweisen, der zur Aufnahme axialer Ausdehnungen oder Verschiebungen der Gasentladungslampe stauchbar ist.

Abstract translation: 本发明涉及一种气体放电灯组件，其包括气体放电灯（1）具有管状，细长灯体（3）和第一，收容在灯体电极（5），第一细长具有第一纵向端部的电导体结构（10）（10a）的 设置有引出灯体接触所述第一电极的部分（5a）的电连接，并且第一壳体结构（20）限定了一空腔（26），通过该第一电导体图案延伸，并且其中，所述第一电 导体结构是预弯曲以从延伸出的第一基本线性的方向形成灯纵向拉伸缓冲区中的一个或更多次。 可替代地，该导体结构可具有灯纵向拉伸缓冲部，其可压缩以适应气体放电灯或移位的轴向延伸。

公开(公告)号：WO2017055165A1

公开(公告)日：2017-04-06

申请号：PCT/EP2016/072540

申请日：2016-09-22

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： VIELUF, Maik ,  REINHOLD, Ekkehart ,  ULLMANN, Lars

IPC: H01M4/04 ,  H01M4/139 ,  H01M10/0562 ,  H01M4/88 ,  H01M10/058 ,  H01M10/052 ,  B01D1/06 ,  B05D1/06 ,  C23C26/00

CPC classification number: H01M4/8825 ,  B05D1/06 ,  B05D3/068 ,  C23C26/00 ,  H01M4/0402 ,  H01M4/0407 ,  H01M8/0202 ,  H01M8/023 ,  H01M10/052

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mit Partikeln, bei welchen unter Vakuum folgende Verfahrensschritte ausgeführt werden: - Positionieren einer zu beschichtenden Substratoberfläche des Substrats (7) in einem Vakuum und in Richtung eines Bereichs, in dem Feststoffpartikel angeordnet sind, mit denen die Substratoberfläche beschichtet werden soll, und - Einbringen von Elektronen in die Feststoffpartikel zur elektrostatischen Aufladung der Feststoffpartikel derart, dass eine durch die elektrostatische Aufladung bewirkte Kraft die Feststoffpartikel voneinander trennt und in Richtung der Substratoberfläche des Substrats (7) beschleunigt zum Beschichten der Substratoberfläche mit zumindest einem Teil der voneinander getrennten Feststoffpartikel. Eine dazu verwendbare Vorrichtung weist einen Partikelbehälter, eine Substrathalterung und eine Elektronenquelle auf.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于涂覆具有其中存在以下方法步骤的真空下进行颗粒的基材： - 定位衬底表面在真空中和在的区域的方向上待涂覆的基材（7）被布置在所述固体颗粒与该 基板表面被涂布，以及 - 所述引入电子到固体颗粒的固体颗粒，使得所引起的静电力彼此分离，并在所述衬底的所述衬底表面的方向上的固体颗粒的静电充电（7）被加速以与衬底表面具有至少一个涂覆 该分离的固体颗粒的一部分。 所使用的设备具有这样的颗粒的容器中，衬底保持器，和电子源。

公开(公告)号：WO2016174033A1

公开(公告)日：2016-11-03

申请号：PCT/EP2016/059282

申请日：2016-04-26

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： VIELUF, Maik

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/06 ,  C23C14/56 ,  H01M4/04 ,  H01M4/66 ,  H01M4/1395

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/021 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/562 ,  H01M4/13 ,  H01M4/667

Abstract: Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren (100a, 200a, 700, 800) Folgendes aufweisen: Transportieren einer Folienstruktur (302) in einem Beschichtungsbereich in einer Vakuumkammer, wobei die Folienstruktur (302) eine Dicke von weniger als 40 μm aufweist; und Beschichten der Folienstruktur (302) unter Verwendung eines gasförmigen Beschichtungsmaterials.

Abstract translation: 根据各种实施例，一种方法（100A，200A，700，800）包括：传送在涂布区域的膜结构（302）在真空室中，其中所述薄膜结构（302）的厚度小于40微米; 和涂层使用气态涂敷材料的薄膜结构（302）。

公开(公告)号：WO2016083508A1

公开(公告)日：2016-06-02

申请号：PCT/EP2015/077778

申请日：2015-11-26

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： KÜNANZ, Robert ,  MELCHER, Jens ,  LAIMER, Georg ,  HORNBOSTEL, Björn ,  HÄUSLER, Christoph ,  ZSCHIESCHANG, Erwin

IPC: H01L21/673

CPC classification number: H01L21/67346 ,  C23C14/34 ,  C23C14/50

Abstract: Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Substrathaltevorrichtung (100) bereitstellt, wobei diese Folgendes aufweisen kann: eine Trägerplatte (102) mit einer Aussparung (112), wobei sich die Aussparung (112) von einer Oberseite (102a) der Trägerplatte (102) zu einer Unterseite (102b) der Trägerplatte (102) durch die Trägerplatte (102) hindurch erstreckt; einen Halterahmen (132a), welcher eine Rahmenöffnung (132) und eine die Rahmenöffnung (132) umgebende Auflagefläche (111a) zum Halten eines Substrats (120) in der Aussparung (112) aufweist; wobei der in die Aussparung (112) eingelegte Halterahmen (132a) abschnittsweise auf der Trägerplatte (102) aufliegt.

Abstract translation: 根据各种实施例，基板保持装置（100）提供，其中这些可包括：具有凹部（112）的支撑板（102），所述支撑板（102）的从上表面（102A）的凹部（112）的底 通过延伸穿过所述支撑板（102）的支撑板（102）的（102B）; 的保持框（132A），其具有框架开口（132）和围绕所述支承表面在所述凹部（112）保持的基板（120）（111A）的框架开口（132）; 其中，在所述凹部（112），其插入保持在支承板部的架（132A）（102）搁置。

公开(公告)号：WO2016045667A2

公开(公告)日：2016-03-31

申请号：PCT/DE2015/100406

申请日：2015-09-28

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： BURGHART, Markus ,  HAASEMANN, Goerg

IPC: G03F1/00

CPC classification number: H01L51/0013 ,  C23C14/042

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Transfermaske für Transferlithografieverfahren mit verbessertem Auflösungsvermögen und ein Verfahren zu deren Herstellung. Eine solche Maske umfasst einen transparenten Träger T und eine darüber angeordnete Funktionsschicht FS, welche absorbierende Bereiche AB und reflektierende Bereiche RB aufweist, wobei die absorbierenden Bereiche AB und die reflektierenden Bereiche RB gemeinsam in einer Ebene vorliegen und ohne direkten Kontakt über Freiräume F zueinander beabstandet angeordnet sind.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于转印光刻工艺的转印掩模，其具有改善的分辨率和用于其制备的工艺。 这样的掩模包括透明支撑件T和设置在其上的功能层FS，其具有吸收区域AB和反射区域RB，吸收区域AB和反射区域RB一起存在于一个平面中并且没有直接接触。 被自由空间F彼此间隔开。

公开(公告)号：WO2016075189A1

公开(公告)日：2016-05-19

申请号：PCT/EP2015/076306

申请日：2015-11-11

Applicant: VON ARDENNE GMBH

Inventor： BORCHEL, Ronny ,  HÄUSLER, Christoph ,  KRAUSE, Jochen ,  VON DER WAYDBRINK, Hubertus ,  ZAHN, Richard

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  B01J3/00 ,  H01J37/32 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C14/568 ,  B01J3/03 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45591

Abstract: Ein Kammerdeckel (100) zum Abdichten einer Kammeröffnung (104o) in einer Gasseparationskammer (300), wobei sich der Kammerdeckel (100) im Wesentlichen entlang einer Kammerdeckel-Ebene erstreckt, kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen Folgendes aufweisen: einen Hochvakuumpumpen-Anschluss (126) zum Anschließen einer Hochvakuumpumpe (804a, 804b) an den Kammerdeckel (100); wobei der Hochvakuumpumpen-Anschluss (126) eine Öffnung (106a, 106b) aufweist, welche den Kammerdeckel (100) durchdringt; und ein Trennelement (110), welches sich quer zur Kammerdeckel-Ebene in der Öffnung (106a, 106b) derart erstreckt, dass der Hochvakuumpumpen-Anschluss (126) mittels des Trennelements (110) in zumindest einen ersten Öffnungsbereich (113a) und einen zweiten Öffnungsbereich (113b) separiert ist.

Abstract translation: 腔室盖（100），用于密封在气体分离室（300），其中，所述腔室盖（100）沿着腔室盖平面延伸基本上可根据各种实施例包括一个腔室开口（104o）：高真空端口（126），用于 连接的高真空泵（804A，804B）连接到腔室盖（100）; 其中，所述高真空泵连接（126）具有贯通腔室盖（100）中的开口（106A，106B）; 并且朝向开口的腔室覆盖层，其横向（106B 106A）延伸的分隔构件（110），以使高真空泵连接（126）通过在至少一个第一开口部的分离部件（110）的装置（113A）和第二 开口部（113B）被分离。