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    HEATING AN OPTICAL ELEMENT OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    41.
    发明申请
    HEATING AN OPTICAL ELEMENT OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022096171A1

    公开(公告)日：2022-05-12

    申请号：PCT/EP2021/073240

    申请日：2021-08-23

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  WOLF, Alexander ,  GRUNER, Toralf

    Inventor： WOLF, Alexander ,  GRUNER, Toralf

    IPC: G03F7/20 ,  G02B7/18

    Abstract: The invention relates to an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus, and to a method for heating an optical element in an optical system. According to one aspect, an optical system according to the invention comprises an optical element (450) and at least one heating unit (100, 200) for heating said optical element by applying electromagnetic radiation to the optical element, wherein the heating unit comprises as part of an optical collimator (110, 310) and/or as part of a telescope (130, 140, 230, 430), at least one mirror having a non-plane optical effective surface.

    SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
    44.
    发明申请
    SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开

    公开(公告)号：WO2019214946A1

    公开(公告)日：2019-11-14

    申请号：PCT/EP2019/060523

    申请日：2019-04-24

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  SHKLOVER, Vitaliy

    Inventor： HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  SHKLOVER, Vitaliy

    IPC: G02B5/08 ,  G02B26/08 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B27/00

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt weist ein erfindungsgemäßer Spiegel ein Spiegelsubstrat (12), einen Reflexionsschichtstapel (21) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (11) auftreffender elektromagnetischer Strahlung, und wenigstens eine piezoelektrischen Schicht (16) auf, welche zwischen Spiegelsubstrat und Reflexionsschichtstapel angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtstapel zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist, wobei sowohl die erste Elektrodenanordnung als auch die zweite Elektrodenanordnung eine Mehrzahl von Elektroden (20a, 20b) aufweist, welche jeweils über eine Zuleitung (19a, 19b) mit einer elektrischen Spannung bezogen auf die jeweils andere Elektrodenanordnung beaufschlagbar sind, wobei jeder dieser Elektrodenanordnungen jeweils eine separate Vermittlerschicht (17a, 17b) zur Einstellung eines kontinuierlichen Verlaufs des elektrischen Potentials entlang der jeweiligen Elektrodenanordnung zugeordnet ist, und wobei sich diese Vermittlerschichten in ihrem mittleren elektrischen Widerstand um einen Faktor von wenigstens 1.5 voneinander unterscheiden.

    OPTISCHES ELEMENT, SOWIE VERFAHREN ZUR KORREKTUR DER WELLENFRONTWIRKUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS
    45.
    发明申请
    OPTISCHES ELEMENT, SOWIE VERFAHREN ZUR KORREKTUR DER WELLENFRONTWIRKUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开

    公开(公告)号：WO2019170414A1

    公开(公告)日：2019-09-12

    申请号：PCT/EP2019/054164

    申请日：2019-02-20

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  SHKLOVER, Vitaliy

    Inventor： HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  SHKLOVER, Vitaliy

    IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00 ,  G02B26/06

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein optisches Element zur Verwendung in einem optischen System, insbesondere in einem optischen System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder einer Maskeninspektionsanlage, sowie ein Verfahren zur Korrektur der Wellenfrontwirkung eines optischen Elements. Ein erfindungsgemäßes optisches Element weist wenigstens eine Korrekturschicht (12, 22) und einen Manipulator zur Manipulation der Schichtspannung in dieser Korrekturschicht derart auf, dass eine in dem optischen System vorhandene Wellenfrontaberration durch diese Manipulation wenigstens teilweise korrigierbar ist, wobei der Manipulator eine Strahlungsquelle zur ortsaufgelösten Bestrahlung der Korrekturschicht (12, 22) mit elektromagnetischer Strahlung (5) aufweist, und wobei durch diese ortsaufgelöste Bestrahlung eine Mehrzahl von zueinander beabstandeten, in ihrer Struktur jeweils in gleicher weise modifizierten Bereichen (12a, 12b, 12c,...; 22a, 22b, 22c,... ) in der Korrekturschicht (12, 22) erzeugbar ist.

    OPTICAL MODULE WITH AN ANTICOLLISION DEVICE FOR MODULE COMPONENTS
    47.
    发明申请
    OPTICAL MODULE WITH AN ANTICOLLISION DEVICE FOR MODULE COMPONENTS 审中-公开
    具有用于模块组件的反馈装置的光学模块

    公开(公告)号：WO2018029190A1

    公开(公告)日：2018-02-15

    申请号：PCT/EP2017/070056

    申请日：2017-08-08

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： HARTJES, Joachim ,  WOLF, Alexander ,  GRUNER, Toralf

    IPC: G03F7/20 ,  F16F15/03 ,  G02B7/182

    CPC classification number: G03F7/70825 ,  F16F15/03 ,  G02B7/1828 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/702 ,  G03F7/709 ,  G21K1/06

    Abstract: The present invention relates to an optical module with a first and a second component (108, 109), a supporting structure (112) and an anticollision device (114). The first component (108) is supported by the supporting structure (112) and is arranged adjacent to and at a distance from the second component (109) to form a gap. The supporting structure (112) defines a path of relative movement, on which the first and second components (108, 109) move in relation to one another under the influence of a disturbance, a collision between collision regions (108.1, 109.1) of the first and second components (108, 109) occurring if the anticollision device (114) is inactive. The anticollision device (114) comprises a first anticollision unit (114.1) on the first component (108), which produces a first field, and a second anticollision unit on the second component (109), which is assigned to the first anticollision unit (114.1) and produces a second field. As the first and second components (108, 109) increasingly approach each other, the first and second fields produce an increasing counter-force on the first component (108) that counteracts the approach. The first and/or second anticollision unit (114.1, 114.2) comprises a plurality of anticollision elements producing partial fields, which are assigned to one another in such a way that the superimposition of their partial fields produces a field with a field line density that decreases more sharply with increasing distance from the anticollision unit (114.1, 114.2) along the path of relative movement than a field line density of one of the partial fields.

    Abstract translation: 具有第一和第二部件（108,109），支撑结构（112）和防撞装置（114）的光学组件技术领域本发明涉及一种具有第一和第二部件（108,109），支撑结构（112）和防撞装置（114）的光学组件。 第一部件（108）由支撑结构（112）支撑并且布置成与第二部件（109）相邻并与其间隔开以形成间隙。 支撑结构（112）限定相对运动的路径，第一部件（108）和第二部件（109）在干扰的影响下相对于彼此移动，在该相对运动的路径上的碰撞区域（108.1,109.1） 如果防碰撞装置（114）不活动，则出现第一和第二部件（108,109）。 防碰撞装置114包括在第一部件108上产生第一场的第一防碰撞单元114.1和在第二部件109上的第二防碰撞单元， 114.1）并产生第二个领域。 随着第一和第二部件（108,109）越来越靠近彼此，第一和第二场在第一部件（108）上产生反作用力的增大的反作用力。 第一和/或第二防碰撞单元（114.1,114.2）包括产生部分场的多个防碰撞元件，这些防碰撞元件以这样的方式彼此分配，使得它们的部分场的叠加产生场线密度减小的场 随着距相对运动路径上的防冲突单元（114.1,114.2）的距离增加，比其中一个局部场的场线密度更加剧烈。

    MIRROR ARRANGEMENT FOR LITHOGRAPHY EXPOSURE APPARATUS AND OPTICAL SYSTEM COMPRISING MIRROR ARRANGEMENT
    48.
    发明申请
    MIRROR ARRANGEMENT FOR LITHOGRAPHY EXPOSURE APPARATUS AND OPTICAL SYSTEM COMPRISING MIRROR ARRANGEMENT 审中-公开
    用于平面曝光装置和包含镜面布置的光学系统的镜面布置

    公开(公告)号：WO2017009096A1

    公开(公告)日：2017-01-19

    申请号：PCT/EP2016/065772

    申请日：2016-07-05

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： HAKVOORT, Wouter Bernardus Johannes ,  HOGERVORST, Richard Petrus ,  RUTGERS, Petrus Theodorus ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf

    IPC: G21K1/06

    CPC classification number: G02B26/0858 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70316 ,  G21K1/062

    Abstract: Mirror arrangement (1) for a lithography exposure apparatus (WSC) comprising a plurality of mirror elements (2a, 2b) adjacently arranged and jointly forming a mirror surface (3) of the mirror arrangement (1 ). Each mirror element (2a, 2b) comprises a substrate (4a, 4b) and a multilayer arrangement (5a, 5b) on the substrate (4a, 4b). The multilayer arrangement (5a, 5b) includes a reflective layer system (6a, 6b) having a radiation entrance surface (7a, 7b) forming a portion of the mirror surface (3) and a piezoelectric layer (8a, 8b) arranged between the radiation entrance surface (7a, 7b) and the substrate (4a, 4b). Each mirror element (2a, 2b) comprises an electrode arrangement (9a, 9b, 9c) associated with the piezoelectric layer (8a, 8b) for generating an electric field, wherein a layer thickness (tp) of the piezoelectric layer (8a, 8b) can be controlled by the electric field. An interconnection arrangement (10) electrically interconnecting adjacent first and second electrodes (9a, 9b) of adjacent electrode arrangements (9a, 9b, 9c) is provided. According to one formulation the interconnection arrangement (10) generates an interconnection electric field in a gap region (1 1 ) between the first and second electrodes (9a, 9b), wherein the interconnection electric field generates a continuous transition between a first electric field at the first electrode (9a) and a second electric field at the second electrode (9b). According to another formulation an electric resistance (Ri) of the interconnection arrangement (10) in a gap region (11) between the first and second electrodes (9a, 9b) is greater than an electric resistance (Rw) of the first and second electrodes (9a, 9b) and less than an electric resistance (RI) of the piezoelectric layers (8a, 8b) of the adjacent electrode arrangements (9a, 9b, 9c) with the first and second electrodes (9a, 9b).

    Abstract translation: 一种用于光刻曝光设备（WSC）的镜面布置（1），包括相邻布置并共同形成镜子装置（1）的镜面（3）的多个镜元件（2a，2b）。 每个镜元件（2a，2b）包括在基底（4a，4b）上的基底（4a，4b）和多层布置（5a，5b）。 多层布置（5a，5b）包括具有形成镜面（3）的一部分的辐射入射面（7a，7b）的反射层系（6a，6b）和布置在所述反射层 辐射入射面（7a，7b）和基板（4a，4b）。 每个镜元件（2a，2b）包括与用于产生电场的压电层（8a，8b）相关联的电极装置（9a，9b，9c），其中压电层（8a，8b）的层厚度（tp） ）可以由电场控制。 提供了将相邻电极布置（9a，9b，9c）的相邻的第一和第二电极（9a，9b）电互连的互连布置（10）。 根据一个公式，互连布置（10）在第一和第二电极（9a，9b）之间的间隙区域（11）中产生互连电场，其中互连电场在第一和第二电极之间的第一电场 第一电极（9a）和第二电极（9b）处的第二电场。 根据另一个公式，在第一和第二电极（9a，9b）之间的间隙区域（11）中的互连装置（10）的电阻（R 1）大于第一和第二电极的电阻（Rw） （9a，9b）并且小于与第一和第二电极（9a，9b）相邻的电极布置（9a，9b，9c）的压电层（8a，8b）的电阻（RI）。

    BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM SOLCHEN BELEUCHTUNGSSYSTEM
    49.
    发明申请
    BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM SOLCHEN BELEUCHTUNGSSYSTEM 审中-公开
    照明系统，微光刻投射曝光系统及微光刻投射曝光系统具有这样的照明系统

    公开(公告)号：WO2016188739A1

    公开(公告)日：2016-12-01

    申请号：PCT/EP2016/060487

    申请日：2016-05-11

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： SHAFER, David ,  SCHWAB, Markus ,  GRUNER, Toralf ,  HERKOMMER, Alois

    IPC: G03F7/20 ,  G02B17/08

    CPC classification number: G03F7/702 ,  G03F7/70066

    Abstract: Ein Beleuchtungssystem (ILL) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit dem Licht einer primären Lichtquelle umfasst eine Pupillenformungseinheit (PFU) zum Empfang von Licht der primären Lichtquelle (LS) und zur Erzeugung einer zweidimensionalen Intensitätsverteilung in einer Pupillenformungsfläche (PUP) des Beleuchtungssystems, ein Übertragungssystem (TRANS) zur Übertragung der Intensitätsverteilung in ein Zwischen-Beleuchtungsfeld (IF), das in einer Zwischenfeldebene (IFP) liegt; und ein optisches Abbildungssystem (IMS) zur Abbildung des in der Zwischenfeldebene angeordneten Zwischen-Beleuchtungsfeldes in das Beleuchtungsfeld, das in einer zur Zwischenfeldebene optisch konjugierten Austrittsebene (EX) des Beleuchtungssystems liegt. Das Beleuchtungssystem ist dadurch gekennzeichnet, dass das optische Abbildungssystem (IMS) ein katadioptrisches Abbildungssystem mit einer Vielzahl von Linsen und mindestens einem Konkavspiegel (CM) ist.

    Abstract translation: 一种照明系统，包括：（ILL），用于微光刻投射曝光设备，用于与光从一个主光源，光瞳形成单元（PFU），用于从主光源（LS）接收光照明的照明场和一个用于在照明系统的光瞳成形面（PUP）的二维强度分布 用于发射的强度分布的传输系统（TRANS）处于中间的照明场（IF），它在中间场平面（IFP）; 和用于成像的布置在中间场平面中间的照明场，它位于在光学共轭的照明系统的中间场平面出射面（EX）的照明场的成像光学系统（IMS）。 该照明系统的特征在于，所述光学成像系统（IMS）是一种反射折射成像系统的多个透镜和至少一个凹面反射镜（CM）。

    PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH WAVEFRONT MEASURING DEVICE AND OPTICAL WAVEFRONT MANIPULATOR
    50.
    发明申请
    PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH WAVEFRONT MEASURING DEVICE AND OPTICAL WAVEFRONT MANIPULATOR 审中-公开
    投影曝光装置与波形测量装置和光学波形操纵器

    公开(公告)号：WO2016097048A1

    公开(公告)日：2016-06-23

    申请号：PCT/EP2015/080087

    申请日：2015-12-16

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： ARNZ, Michael ,  BLEIDISTEL, Sascha ,  GRUNER, Toralf ,  HARTJES, Joachim ,  SCHWAB, Markus

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/706 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70266

    Abstract: A projection exposure apparatus with a projection lens (12), a wavefront manipulator and a wavefront measuring device for measuring a wavefront in the projection lens (12), the wavefront measuring device comprising a Moiré grating arrangement (14), having an object grating (16) and an image grating (18) which are designed to be arranged in an object plane (20) and an image plane (22), respectively, of the projection lens (12), wherein the object grating (16) and the image grating (18) are coordinated with one another in a manner true to scale in such a way as to generate a Moiré superimposition pattern from an imaging (24) of the object grating (16) onto the image plane (22) and the image grating (18), wherein the Moiré grating arrangement (14) is designed in such a way as to simultaneously generate the Moiré superimposition pattern for a plurality of field points of an object field (26) in the object plane (20) and/or of an image field (28) in the image plane (22).

    Abstract translation: 一种具有投影透镜（12），波前操纵器和用于测量投影透镜（12）中的波前的波前测量装置的投影曝光装置，所述波前测量装置包括具有物体光栅的莫尔光栅装置（14） 16）和被设计为分别布置在投影透镜（12）的物平面（20）和图像平面（22）中的图像光栅（18），其中物体光栅（16）和图像 光栅（18）以这样的方式彼此协调，以便从物体光栅（16）的成像（24）到图像平面（22）和图像光栅（22）上产生莫尔叠加图案 （18），其中所述莫尔光栅装置（14）被设计成同时为所述物平面（20）中的物场（26）的多个场点同时产生莫尔叠加模式和/或 图像平面（22）中的图像场（28）。

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