公开(公告)号：WO2008026742A1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：PCT/JP2007/067074

申请日：2007-08-31

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01B11/26 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7088

Abstract: 　ステージ（ＷＳＴ）の駆動中に、エンコーダシステムのＸエンコーダとＹエンコーダとを少なくとも各１つ含む３つのエンコーダ（Ｅｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３）によりステージ（ＷＳＴ）の移動面内の位置情報が計測され、制御装置により、ステージ（ＷＳＴ）の移動面内の位置が切り換えの前後で維持されるように、ステージ（ＷＳＴ）の移動面内の位置情報の計測に用いるエンコーダが、エンコーダ（Ｅｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３）から、エンコーダ（Ｅｎｃ４，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３）に切り換えられる。このため、ステージの位置の制御に用いるエンコーダの切り換えが行われているにもかかわらず、切り換えの前後でステージの移動面内の位置が維持され、正確なつなぎが可能になる。

Abstract translation: 在舞台（WST）的驱动期间，使用包括编码器系统的至少一个X编码器和Y编码器的三个编码器（Enc1，Enc2，Enc3）来测量舞台（WST）的移动平面中的位置信息和控制 设备将用于测量位置信息的编码器（WST）从编码器（Enc1，Enc2，Enc3）切换到编码器（Enc4，Enc2，Enc3），以保持平台的位置 （WST）在切换前后的运动平面。 因此，尽管切换用于控制台位置的编码器，但是在切换之前和之后保持移动平面中的位置，从而能够进行准确的连接。

公开(公告)号：WO2007100081A1

公开(公告)日：2007-09-07

申请号：PCT/JP2007/054012

申请日：2007-03-02

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一 ,  小松田 秀基

Inventor： 柴崎 祐一 ,  小松田 秀基

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70425 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/701 ,  G03F7/70208

Abstract: 　二重露光を行う各パターン毎にそれぞれ全面で最適な照明条件で照明し、かつ高スループットで露光を行う露光方法を提供する。走査露光方式でレチクル（Ｒ）のパターンをウエハ（Ｗ）上に転写する際に、レチクル（Ｒ）上に走査方向に隣接して第１、第２のパターン領域を形成しておき、その第１、第２のパターン領域が同時に投影光学系（ＰＬ）の視野内を通過しているときに、次第にその走査方向の幅が狭くなる第１照明スリット（１０ＡＰ）を用いて第１の照明条件でその第１のパターン領域を照明し、次第にその走査方向の幅が広くなる第２照明スリット（１０ＢＰ）を用いて第２の照明条件でその第２のパターン領域を照明してウエハ（Ｗ）を露光する。

Abstract translation: 提供了一种曝光方法，其中在最佳照明条件下，在整个表面上分别照亮双曝光图案，并以高生产量进行曝光。 为了通过扫描曝光系统将掩模版（R）的图案转印到晶片（W）上，在掩模版（R）上与扫描方向相邻地形成第一和第二图案区域。 当第一图案区域和第二图案区域同时在投影光学系统（PL）的视野内通过时，通过使用第一照明狭缝（10AP）照射第一图案区域来暴露晶片（W） 在第一照明条件下，在第一照明条件下，通过使用在扫描方向上的宽度逐渐变宽的第二照明狭缝（10BP）照射第二图案区域，在扫描方向上的宽度逐渐变窄。

公开(公告)号：WO2007097466A1

公开(公告)日：2007-08-30

申请号：PCT/JP2007/053842

申请日：2007-02-21

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01D5/38 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC classification number: G01D5/38 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70666 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7026

Abstract: 計測値の短期安定性が良好なエンコーダシステム（３９Ｘ1，３９Ｘ2，３９Ｙ1，３９Ｙ2、６２Ｂ，６２Ｄ，６２Ａ，６２Ｄ）によって移動体（ＷＴＢ）のＸＹ平面内の位置情報が空気揺らぎの影響を受けることなく、高精度に計測されるとともに、面位置計測システム（７４，７６）によって移動体のＸＹ平面に直交するＺ軸方向における位置情報が空気揺らぎの影響を受けることなく、高精度に計測される。この場合、エンコーダシステム及び面位置計測システムの両者とも、移動体上面を直接的に計測しているので、シンプルでかつ直接的な移動体の位置制御が可能になる。

Abstract translation: 编码器系统（39X 1，39X 2，39Y 1，39Y 2，62B，62D，62A， 62D）在测量值的短期稳定性方面，在XY平面上以高精度测量移动物体（WTB）上的位置信息而不受空气湍流的影响，具有良好的性能。 表面位置测量系统（74,76）不受空气湍流的影响，高精度地测量移动体在垂直于XY平面的Z轴方向上的位置信息。 编码器系统和表面位置测量系统都直接测量移动体顶表面上的位置信息，从而能够对移动体的位置进行简单直接的控制。

公开(公告)号：WO2007097379A1

公开(公告)日：2007-08-30

申请号：PCT/JP2007/053229

申请日：2007-02-21

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F9/02 ,  H01L21/677

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70666 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7088 ,  G03F2009/005 ,  Y10T29/49826

Abstract: 　ウエハステージ（ＷＳＴ）がＹ軸方向に直線的に移動する間に、多点ＡＦ系（９０ａ，９０ｂ）によりＸ軸方向に所定間隔で設定された複数の検出点におけるウエハ（Ｗ）表面の面位置情報が検出されるとともに、Ｘ軸方向に沿って一列に配列された複数のアライメント系（ＡＬ１、ＡＬ２ 1 ～ＡＬ２ 4 ）によってウエハ（Ｗ）上の互いに異なる位置のマークがそれぞれ検出される。すなわち、ウエハステージ（ウエハ）が多点ＡＦ系の複数の検出点の配列と、複数のアライメント系とを、直線的に通過するだけで、複数の検出点におけるウエハ表面の面位置情報の検出とウエハ上の互いに異なる位置のマークの検出とが終了するので、マークの検出動作と面位置情報（フォーカス情報）の検出動作とを無関係に行う場合に比べてスループットを向上させることができる。

Abstract translation: 通过多点AF系统（90a，90b）在X轴方向上以规定间隔设置的多个检测点检测晶片（W）的正面的平面位置信息，晶片载台（WST）为 沿Y轴方向线性移动。 在晶片（W）上的不同位置处的标记由沿着X轴方向排列成一行的多个对准系统（AL1，AL2＆lt; 1＆gt; -AL2＆lt; 4＆gt;）检测 。 即，通过简单地使晶片台（晶片）线性地通过检测点的布置来完成检测点处的晶片正面的平面位置信息和晶片上不同位置处的标记的检测 的多点自动对焦系统和对准系统。 因此，与不进行平面位置信息（聚焦信息）的标记检测操作和检测动作相关的情况相比，提高了吞吐量。

公开(公告)号：WO2007083592A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：PCT/JP2007/050402

申请日：2007-01-15

Applicant: 株式会社ニコン ,  水谷 剛之 ,  柴崎 祐一

Inventor： 水谷 剛之 ,  柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  H01L21/683 ,  H01L21/6875

Abstract: 　基板保持装置（４Ｔ）は、基材（３０）と、基材（３０）上に形成され、基板（Ｐ）を支持する支持部（８１）と、基材（３０）上に形成され、支持部（８１）を囲む周壁と、基材（３０）上に周壁（３３）に沿って環状に設けられ、支持部（８１）に支持された基板（Ｐ）の裏面と第１ギャップ（Ｇ１）を形成し、支持部（８１）に支持された基板（Ｐ）と周壁（３３）との間からの浸入液体（ＬＱ）を基板（Ｐ）との間に保持する第１領域（３１）と、基材（３０）上において周壁（３３）に対して第１領域（３１）の内側に設けられ、支持部（８１）に支持された基板（Ｐ）の裏面と第１ギャップ（Ｇ１）よりも大きい第２ギャップ（Ｇ２）を形成する第２領域（３２）とを備える。

Abstract translation: 基板保持装置（4T）具有基部构件（30），形成在基座构件（30）上并支撑基板（P）的支撑部（81），形成在基座构件（30）上的周壁 所述支撑部分（81），沿着所述周壁（33）在所述基部构件（30）上设置成环形的第一区域（31），所述第一区域（31）在所述第一区域（31）之间形成第一间隙 区域和由支撑部（81）支撑的基板（P）的背面，保持从由支撑部（81）支撑的基板（P）之间进入的流入液体（LQ）的第一区域（31） 周边壁（33），流入液体（LQ）保持在第一区域（31）和基板（P）之间，第二区域（32）设置在基部构件（30）上，第一区域 ），所述第二区域（32）在所述第二区域（32）和所述基板（P）的背面之间形成第二间隙（G2），所述第二间隙支撑在所述第二区域 e支撑部分（81），第二间隙（G2）大于第一间隙（G1）。

公开(公告)号：WO2007023941A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：PCT/JP2006/316721

申请日：2006-08-25

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: B23Q3/15 ,  B81C3/00 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/50 ,  B23K11/04 ,  B23K11/18 ,  B23K2201/38 ,  B23K2203/12 ,  B25B11/002 ,  B81C3/008 ,  C23C14/04 ,  H01F7/206 ,  H01L21/67709

Abstract: 　電磁チャック（２０）が、複数のマイクロコイル（ＭＣ）のうちの特定のマイクロコイルに電流を供給し、物体（Ｍ）の磁石と協働して物体（Ｍ）に電磁力を作用させるので、物体（Ｍ）をベース面上の所望の位置（電流を供給したマイクロコイルに対応する位置）に位置決めした状態で保持することができる。また、気体供給路（４２）から噴出される気体により、物体（Ｍ）に対して浮上力が与えられるので、物体（Ｍ）を位置決めする際に物体（Ｍ）と電磁チャック上面との間に作用する摩擦力の影響を低減することができる。

Abstract translation: 电磁卡盘（20）在多个微线圈（MC）之间用电流提供特定的微线圈，并且允许电磁力与材料（M）的磁体协同操作于材料（M）。 因此，可以通过使材料（M）位于基础平面（对应于由电流提供的微线圈的位置）的期望位置来保持材料（M）。 此外，由于通过从气体供给路径（42）喷出的气体向材料（M）施加提升力，所以当材料（M）与电磁卡盘的上平面之间动作的摩擦力的影响 （M）可以减少。

公开(公告)号：WO2007001017A1

公开(公告)日：2007-01-04

申请号：PCT/JP2006/312880

申请日：2006-06-28

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一 ,  日高 康弘

Inventor： 柴崎 祐一 ,  日高 康弘

IPC: G02B5/08 ,  G01B9/02 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: G02B5/08 ,  G03F7/70775

Abstract: 　反射部材は、第１方向成分を含む第２方向に延びる第１反射面（３０ａ）と、第１方向成分を含む第３方向に延び、第１反射面（３０ａ）に対してほぼ対称な第２反射面（３０ｂ）と、第１方向とほぼ直交する第４方向に延びる第３反射面（３０ｃ）と、を有する。

Abstract translation: 一种反射构件，包括沿具有第一方向分量的第二方向延伸的第一反射表面（30a），沿具有第一方向分量并且与第一反射表面（30a）大致对称的第三方向延伸的第二反射表面（30b） ）和第三反射面（30c），其沿与第一方向垂直的大致交叉的第四方向延伸。

公开(公告)号：WO2006070748A1

公开(公告)日：2006-07-06

申请号：PCT/JP2005/023796

申请日：2005-12-26

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707

Abstract: 　表面（８０Ａ）と裏面（８０Ｂ）とを有したメンテナンス部材（８０）を、その表面（８０Ａ）が第１保持部と接触するように搬送し、裏面（８０Ｂ）を押圧しない状態で基板ホルダ（ＰＨ）を駆動してメンテナンス部材（８０）を第１保持部上で滑らせる。

Abstract translation: 维护方法，曝光装置和维护部件。 在该方法中，具有前表面（80A）和后表面（80B）的维护构件（80）被承载成使得前表面（80A）与第一保持部分接触，并且衬底保持器（PH ）在所述后表面（80B）上的所述维护构件的未按压状态下被驱动，以将所述维护构件（80）滑动到所述第一保持部上。

公开(公告)号：WO2006009064A1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：PCT/JP2005/013030

申请日：2005-07-14

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G02B7/00 ,  G02B7/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B7/02 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70825

Abstract: 　複数のレンズのうちの最下端のレンズ（９２）とその下方に配置された平行平板（９４）との間にスペーサ部材（９３）が配置され、レンズ（９２）及び平行平板の一部を吸引することで、レンズ（９２）に平行平板を吊り下げ支持させる。従って、スペーサ部材（９３）を平行平板（９４）よりも大きくする必要がなく、平行平板（９４）を把持により保持する保持機構を採用する場合と比べ、平行平板（９４）近傍のスペースを確保することができる。また、平行平板（９４）が把持されないため、平行平板（９４）の変形を回避することが可能であり、投影ユニット（ＰＵ）に収差が発生するのを抑制することができる。

Abstract translation: 隔离构件（93）被放置在透镜之间的最下端的透镜的透镜（92）和放置在透镜（92）下方的平行平板（94）以及透镜（92）的部分 ）并且平行的平板被吸引以使透镜（92）以悬挂的方式支撑板。 因此，隔离构件（93）不需要大于平行平板（94），与使用保持机构的情况相比，可以确保平行平板（94）附近的足够空间 通过夹持来保持平行板（94）。 此外，由于平行平板（94）没有夹紧，因此可以避免板（94）的变形，并且可以限制投影单元（PU）的像差。

公开(公告)号：WO2004109780A1

公开(公告)日：2004-12-16

申请号：PCT/JP2004/008063

申请日：2004-06-03

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/707

Abstract: このステージ装置は、戴置面に板状体を戴置して移動可能な移動部材を有するステージ装置であって、板状体を戴置面に固定する固定装置を備え、固定装置は、移動部材が所定の第1領域を通過するのに連動して板状体の固定を行うようにした。

Abstract translation: 舞台装置具有能够将放置在放置面上的板状体移动的移动构件。 平台装置具有用于将板状主体固定在放置表面上的定影装置，并且固定装置将板状体与移动构件的通过预定的第一区域一起固定。