摘要:
Systems and methods for laser-cutting thermally tempered substrates are disclosed. In one embodiment, a method of separating a thermally tempered substrate includes directing a laser beam focal line such that at least a portion of the laser beam focal line is within a bulk of the thermally tempered substrate. The focused pulsed laser beam is pulsed to form a sequence of pulse bursts comprising one or more sub-pulses. The laser beam focal line produces a damage track within the bulk of the tempered substrate along the laser beam focal line. Relative motion is provided between the focused pulsed laser beam and the tempered substrate such that the pulsed laser beam forms a sequence of damage tracks within the tempered substrate. Individual damage tracks of the sequence of damage tracks are separated by a lateral spacing, and one or more microcracks connect adjacent damage tracks of the sequence of damage tracks.laser cutting of thermally tempered substrates using the multi photon absorption method
摘要:
The present invention relates to a system for modulating laser pulses (3) by means of an electro-optical modulator (4) which is operated by means of a pulsed modulation voltage (5). A voltage converter (12) mounted upstream of the modulator (4) converts a pulsed modulated switching voltage (13) at an output voltage level to the modulation voltage (5) that is higher than the output voltage level. The invention further relates to a method for modulating laser pulses (3).
摘要:
Multiple-beam laser processing may be performed on a workpiece using at least first and second laser beams with different characteristics (e.g., wavelengths and/or pulse durations). In some applications, an assist laser beam is directed at a target location on or within the workpiece to modify a property of the non-absorptive material. A process laser beam is directed at the target location and is coupled into absorption centers formed in the non-absorptive material to complete processing of the non-absorptive material. Multiple-beam laser processing may be used, for example, to drill holes in a substrate made of alumina or other transparent ceramics. In other applications, multiple-beam laser processing may be used in melting applications such as micro-welding, soldering, and forming laser fired contacts. In these applications, the assist laser beam may be used to modify a property of the material or to change the geometry of the parts.
摘要:
Systems for processing a material by submerging the material in a fluid and directing laser pulses at the fluid and the material for processing the material. An embodiment removes the surface of concrete, brick, or rock or minerals in a relatively gentle, energy-efficient, and controlled manner that also confines the material that is removed.
摘要:
본원발명은 전극조립체를 수납한 전지케이스의 상단에 캡 어셈블리를 탑재하고, 상기 전지케이스의 상부 끝단은, 상기 캡 어셈블리의 외주변을 감싸며 중심 방향으로 절곡된 클림핑부를 형성하며, 상기 클림핑부는 음극 단자이고, 상기 캠 어셈블리의 중심부 탑 캡은 양극 단자이며, 상기 음극 단자와 상기 양극 단자 중 적어도 어느 하나에는 불연속적인 나선형의 용접부가 형성되는 원통형 전지셀에 대한 것으로, 상기 양극 단자 및 음극 단자에서 과용접이 생기는 것을 방지하여 안전성이 향상된 원통형 전지셀을 제공한다.
摘要:
본 발명은 극초단 펄스 레이저, 특히 펨토초 레이저를 이용하여 마이크로 홀을 가공하는 방법에 관한 것으로, 박막시트의 분리와 적층에 사용되는 진공플레이트에 형성되는 마이크로 홀 내면의 표면 거칠기를 향상시키면서도 진원도와 원통도를 확보하여 마이크로 홀의 품질을 높이고, 가공속도의 향상에 따른 생산성을 극대화할 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 펨토초 레이저를 이용한 마이크로 홀의 가공방법은, 상기 상부금형의 두께방향으로 n(n은 2이상의 자연수)개의 단층을 설정하고, 상기 단층 표면에 펨토초 레이저를 소정의 패턴으로 조사하여 차기의 단층까지의 두께로 홀을 2D 가공하고, Z축 방향으로 1/n 씩 상기 레이저의 초점을 하강시키면서 순차적으로 상기 단층에 상기 펨토초 레이저를 조사함으로써 홀을 천공하는 단계와; 상기 홀의 내면을 따라 상기 펨토초 레이저를 3D 형상으로 조사함으로써 가공할 상기 마이크로 홀의 직경치수를 맞추고 홀 내면의 표면거칠기를 향상시키는 보오링 단계와; 레이저 가공시에 발생할 수 있는 버(burr)의 생성 및 박막 시트의 눌림, 뜯김, 찢김현상 등의 박막 시트의 손상을 방지하기 위해 상기 홀의 입구측 가장자리 주변을 챔퍼링하거나 라운딩 가공하는 단계;를 포함한다.
摘要:
The invention relates to an optical writing method in a semiconductor material (10), the method comprising laser writing in volume of the semiconductor material. The method comprises, prior to laser writing, irradiating the semiconductor material (10) with at least one laser pre-pulse configured to change transiently and locally one property of the semiconductor material (10).
摘要:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung (7) zum Trennen eines Materials (50) eines Werkstücks (5), wobei mittels eines nicht-beugenden Bearbeitungslaserstrahls (22) Materialmodifikationen (6) entlang einer Trennlinie (60) in das transparente Material (50) des Werkstücks (5) eingebracht werden und das Material (50) des Werkstücks (5) dann entlang der dadurch entstehenden Materialmodifikationsfläche (62) mit einem Trennschritt getrennt wird, wobei der um eine Phasenkonizität maximal reduzierte, nicht-beugende Bearbeitungslaserstrahl (22) einen PV Wert von weniger als 10λ aufweist und wobei λ eine Wellenlänge des Bearbeitungslaserstrahls (22) ist.