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1.TiO2-SiO2ガラス体の製造方法及び熱処理方法、TiO2-SiO2ガラス体、EUVL用光学基材 审中-公开
Title translation: 生产TIO2-SIO2玻璃体的方法,热处理TIO2-SIO2玻璃体,TIO2-SIO2玻璃体和EUVL光学基质的方法公开(公告)号:WO2010131662A1
公开(公告)日:2010-11-18
申请号:PCT/JP2010/057977
申请日:2010-05-11
CPC classification number: C03B19/1453 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B32/00 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/42 , C03C2203/52 , G03F1/24
Abstract: 本発明は、透明ガラス化後のTiO 2 -SiO 2 ガラス体の徐冷点をT 1 (℃)とするとき、透明ガラス化後のガラス体をT 1 -90(℃)からT 1 -220(℃)までの温度域に120時間以上保持する工程を含む、TiO 2 -SiO 2 ガラス体の製造方法に関する。
Abstract translation: 公开了一种TiO 2 -SiO 2玻璃体的制造方法,其特征在于,将透明玻璃化后的TiO 2 -SiO 2玻璃体保持在T1-90(℃)〜T1-220℃的温度范围内, 120小时以上,T1(℃)为透明玻璃化后TiO 2 -SiO 2玻璃体的退火点。
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公开(公告)号:WO2010098352A1
公开(公告)日:2010-09-02
申请号:PCT/JP2010/052875
申请日:2010-02-24
CPC classification number: C03B19/1423 , C03B2201/42 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , C03C3/06 , C03C2201/42 , C03C2203/44
Abstract: 本発明は、金属ドーパント前駆体と、SiO 2 前駆体と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質石英ガラス体を製造する方法であって、前記バーナーが少なくとも二つのノズルを有しており、(A)金属ドーパント前駆体ガス、(B)SiO 2 前駆体ガス、(C)H 2 およびO 2 のうち一方のガス、および、(D)希ガス、N 2 、CO 2 、ハロゲン化水素およびH 2 Oからなる群から選択される1種類以上のガス、を含有し、前記(D)のガスの割合が5~70mol%である混合ガスと、(E)上記(C)のH 2 およびO 2 のうち他方のガスと、をバーナーの互いに異なるノズルに供給する、多孔質石英ガラス体の製造方法に関する。
Abstract translation: 一种多孔石英玻璃物体的制造方法,其特征在于,将来自燃烧器的火焰中的金属掺杂剂的前体和SiO 2的前体水解,得到微细的玻璃粒子,并将生成的微细玻璃微粒沉积并生长在基材上, 石英玻璃物体。 燃烧器具有至少两个喷嘴,以及包含(A)金属掺杂剂前体气体,(B)SiO 2前体气体,(C)H 2和O 2气体中的一种的混合气体,以及(D)选择一种或多种气体 来自由稀有气体,N 2,CO 2,卤化氢和H 2 O组成的组,气体(D)的比例(D)为5-70mol%,(E)另一个H 2和O 2气体 C)分别供给到燃烧器的不同喷嘴。
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公开(公告)号:WO2011068064A1
公开(公告)日:2011-06-09
申请号:PCT/JP2010/070944
申请日:2010-11-24
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/10 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/28 , C03B2201/42 , C03B2201/50 , C03C2201/10 , C03C2201/20 , C03C2201/28 , C03C2201/42
Abstract: 本発明は、TiO 2 を5~10質量%含有し、B 2 O 3 、P 2 O 5 およびSのうち、少なくとも一つを合計含有量で50質量ppb~5質量%含有する、TiO 2 を含有するシリカガラスに関する。
Abstract translation: 公开了含有TiO 2的二氧化硅玻璃,其含有5-10质量%的TiO 2,同时含有总共为50ppb〜5质量%的B 2 O 3,P 2 O 5或S中的至少一种。
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4.TiO2-SiO2ガラス体の製造方法及び熱処理方法、TiO2-SiO2ガラス体、EUVL用光学基材 审中-公开
Title translation: 生产TIO2-SIO2玻璃体的方法,热处理TIO2-SIO2玻璃体,TIO2-SIO2玻璃体和EUVL光学基质的方法公开(公告)号:WO2010134449A1
公开(公告)日:2010-11-25
申请号:PCT/JP2010/057978
申请日:2010-05-11
CPC classification number: C03B25/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1453 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , G03F1/24 , Y02P40/57 , Y10T428/24355
Abstract: 本発明は、透明ガラス化後のTiO 2 -SiO 2 ガラス体の徐冷点をT 1 (℃)とするとき、透明ガラス化後のガラス体をT 1 +400℃以上の温度で20時間以上加熱する工程と、該加熱する工程後のガラス体をT 1 (℃)からT 1 -400(℃)まで平均降温速度10℃/hr以下で冷却する工程と、を含む、TiO 2 -SiO 2 ガラス体の製造方法に関する。
Abstract translation: 本发明公开了一种TiO 2 -SiO 2玻璃体的制造方法,其特征在于,将透明玻璃化后的TiO 2 -SiO 2玻璃体在不低于T1 + 400℃的温度下加热20小时以上, 将加热工序后的玻璃体从T1(℃)冷却至T1〜400(℃)的平均冷却速度为10℃/小时以下的工序,T1(℃)为 透明玻璃化后TiO2-SiO2玻璃体的退火点。
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