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    HERSTELLUNG EINES QUARZGLASKÖRPERS IN EINEM SCHMELZTIEGEL AUS REFRAKTÄRMETALL
    1.
    发明申请
    HERSTELLUNG EINES QUARZGLASKÖRPERS IN EINEM SCHMELZTIEGEL AUS REFRAKTÄRMETALL 审中-公开
    生产的石英玻璃体难治的坩埚

    公开(公告)号：WO2017103115A2

    公开(公告)日：2017-06-22

    申请号：PCT/EP2016/081438

    申请日：2016-12-16

    申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

    发明人： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar

    IPC分类号： C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  F27D7/02

    CPC分类号： C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/10

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat in einem Schmelztiegel und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Schmelztiegel in einem Ofen enthalten ist und aus mindestens einem Material beinhaltend Wolfram oder Molybdän oder eine Kombination davon besteht. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

    摘要翻译：

    本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat在坩埚中熔化并iii）形成的石英玻璃与OUML; ... Rpers 从玻璃熔体的至少一部分，其中，所述坩埚被包含在一个炉中，以及至少一种材料，其包含钨或钼BEAR n或是它们的组合。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

    単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法
    3.
    发明申请
    単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 审中-公开
    用于绘制单晶硅的二氧化硅及其生产方法

    公开(公告)号：WO2013171937A1

    公开(公告)日：2013-11-21

    申请号：PCT/JP2013/000890

    申请日：2013-02-19

    申请人： 信越石英株式会社

    发明人： 山形　茂

    IPC分类号： C30B29/06 ,  C03B20/00 ,  C30B15/10

    CPC分类号： C03B19/02 ,  C03B19/095 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C8/02 ,  C03C10/0009 ,  C03C21/008 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/54 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 ,  Y02P40/57 ,  Y10T117/1032

    摘要： 　本発明は、内側に透明シリカガラスから成る透明層を有し、外側に気泡を含有する不透明シリカガラスから成る不透明層を有する単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器であって、前記透明層が、前記シリカ容器の内表面側に位置し、ＯＨ基を２００～２０００ｍａｓｓｐｐｍの濃度で含有する高ＯＨ基層と、該高ＯＨ基層よりもＯＨ基濃度が低い低ＯＨ基層とから成り、前記高ＯＨ基層がＢａを５０～２０００ｍａｓｓｐｐｍの濃度で含有するものである単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器である。これにより、単結晶シリコン引き上げ用にシリカ容器を用いた場合に、該容器使用開始後短時間のうちに該容器の透明シリカガラスから成る内側表面の全面が微細結晶化（グラスセラミックス化）することにより、該容器内側表面のシリコン融液に対する耐エッチング性（耐侵食性）を大幅に向上させるようなシリカ容器、及び、そのようなシリカ容器の製造方法が提供される。

    摘要翻译： 这种二氧化硅容器用于制造单晶硅，并且在内部具有包括透明石英玻璃的透明层，并且在外部具有包含含有气泡的不透明石英玻璃的不透明层。 透明层位于二氧化硅容器的内表面侧，并且包含OH基浓度为200-2000质量ppm的OH基团和OH基浓度低于OH基浓度的低OH基层的高OH基层。 的高OH基层，高OH基层含有Ba的50-2000质量ppm的浓度。 结果，提供了：二氧化硅容器，使得当二氧化硅容器用于制备单晶硅时，容器内表面相对于熔融硅的耐腐蚀性（耐侵蚀性）通过整个 包含容器的透明石英玻璃的内表面的表面在容器使用开始后的短时间内被微晶化（玻璃化）; 以及这种二氧化硅容器的制造方法。

    ROHLING AUS TITAN-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS FÜR EIN SPIEGELSUBSTRAT FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG
    4.
    发明申请
    ROHLING AUS TITAN-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS FÜR EIN SPIEGELSUBSTRAT FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG 审中-公开
    BRUTE钛掺杂的，高二氧化硅玻璃镜基底FOR USE IN EUV光刻AND METHOD FOR PRODUCTION

    公开(公告)号：WO2011104257A1

    公开(公告)日：2011-09-01

    申请号：PCT/EP2011/052650

    申请日：2011-02-23

    申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan

    发明人： KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan

    IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06

    CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  G02B5/0891

    摘要： Es ist bekannt zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das Ti-dotierte Kieselglas mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen zu erzeugen und anschließend in dem Ti-dotierten Kieselglas einen vorgegebenen Wasserstoffgehalt einzustellen. Um hiervon ausgehend eine möglichst weitgehende Unempfindlichkeit der Oberfläche gegenüber Verwerfungen und Verformungen bei Bestrahlung mit EUV- Laserstrahlung zu erreichen, wird erfindungsgemäß ein Verfahrensweise vorgeschlagen, bei dem durch Flammenhydrolyse ein Sootkörper aus mit Titan dotiertem SiO 2 erzeugt wird, der Sootkörper durch Erhitzen auf eine Temperatur von mindestens 1150 °C unter Vakuum getrocknet wird, so dass sich ein mittlerer Hydroxylgruppengehalt von weniger als 150 Gew.-ppm einstellt, der getrocknete Sootkörper unter Bildung einer Vorform aus Ti-dotiertem Kieselglas gesintert wird, und das Ti-dotierte Kieselglas mit Wasserstoff beladen wird, so dass sich ein mittlerer Wasserstoffgehalt von mindestens 1 x 10 16 Molekülen/cm 3 einstellt.

    摘要翻译： 它是在将Ti掺杂的二氧化硅玻璃已知的用于生产含钛原料和用于在EUV光刻中使用的镜基板以产生由硅和火焰水解的Ti掺杂的石英玻璃制成的掺杂钛的高二氧化硅玻璃的坯料然后一个 调整预定的氢含量。 向该基础实现表面相反在用EUV激光辐射照射失真和变形的最大可能的免疫力，提出一种方法，与其中通过加热由掺杂钛的SiO 2，烟灰体的微粉体的火焰水解产生的的温度下，本发明 至少1150℃在真空下干燥，从而使小于150质量ppm的平均羟基含量，将干燥的烟炱体烧结以形成钛 - 掺杂的二氧化硅玻璃的预成型体，并在Ti掺杂的二氧化硅玻璃中装入氢 使得至少1×10 16的平均氢含量调整分子/立方厘米。

    ガラスの製造方法
    6.
    发明申请
    ガラスの製造方法 审中-公开
    生产玻璃的工艺

    公开(公告)号：WO2008029799A1

    公开(公告)日：2008-03-13

    申请号：PCT/JP2007/067204

    申请日：2007-09-04

    申请人： 日本電気硝子株式会社 ,  此下 聡子 ,  佐藤 史雄 ,  坂本 明彦

    发明人： 此下 聡子 ,  佐藤 史雄 ,  坂本 明彦

    IPC分类号： C03B1/00 ,  C03B5/00 ,  C03B11/00 ,  C03C3/064 ,  C03C3/066 ,  C03C3/089 ,  G02B1/00

    CPC分类号： C03B5/193 ,  C03B5/235 ,  C03B5/43 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/068 ,  C03C3/093 ,  C03C3/095

    摘要： 　本発明は、光学的に均質度が高く、しかも再溶融しても白金ブツが大幅に増加し難いガラスの製造方法を提供することを目的とする。 　本発明にかかるガラスの製造方法は、ガラス原料バッチを白金容器で溶融し、成形して素材ガラスを作製した後、前記素材ガラスを白金容器で再溶融し、成形するガラスの製造方法において、再溶融後のガラスのβ-ＯＨ値が０．３０／ｍｍ以下になるようにガラス原料バッチの選択及び／又は溶融条件の調節を行うことを特徴とする。

    摘要翻译： 用于制造光学均匀度高的玻璃的方法，并且当重熔时，抑制铂颗粒的任何显着增加。 提供了通过在铂容器中熔化玻璃原料批料来制造玻璃的方法，模制成预制玻璃，将铂玻璃中的预制玻璃重新熔化并成型，其特征在于，选择玻璃原料批次和 /或熔化条件的调节使得重熔后的玻璃的ß-OH值为0.30 / mm以下。

    SYNTHETIC QUARTZ GLASS WITH RADIAL DISTRIBUTION OF FAST AXES OF BIREFRINGENCE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
    7.
    发明申请
    SYNTHETIC QUARTZ GLASS WITH RADIAL DISTRIBUTION OF FAST AXES OF BIREFRINGENCE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME 审中-公开
    具有快速轴向径向分布的合成石英玻璃及其制造方法

    公开(公告)号：WO2007086611A1

    公开(公告)日：2007-08-02

    申请号：PCT/JP2007/051853

    申请日：2007-01-30

    申请人： ASAHI GLASS CO., LTD. ,  TAKATA, Masaaki ,  AGATA, Noriyuki ,  OGAWA, Tomonori ,  IWATA, Kei

    发明人： TAKATA, Masaaki ,  AGATA, Noriyuki ,  OGAWA, Tomonori ,  IWATA, Kei

    IPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/14

    CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/23 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/2982

    摘要： The present invention provides a synthetic quartz glass having a diameter of 100 mm or more for using in an optical apparatus comprising a light source emitting a light having a wavelength of 250 nm or less, the synthetic quartz glass having, in a region located inward from the periphery thereof by 10 mm or more in a plane perpendicular to the optical axis of the synthetic quartz glass: a birefringence of 0.5 nm or less per thickness of 1 cm with respect to a light having a wavelength of 193 nm; an OH group concentration of 60 ppm or less; an averaged differential OH group concentration from the center of the synthetic quartz glass toward a peripheral direction thereof, normalized with respect to the radius of the synthetic quartz glass, of not less than -60 ppm and less than -8 ppm; and an unbiased standard deviation σ of a differential OH group concentration from the center of the synthetic quartz glass toward a peripheral direction thereof, normalized with respect to the radius of the synthetic quartz glass, of 10 ppm or less, the unbiased standard deviation σ being determined with the following formula (1): (1) providing; (a): differential OH group concentration at measurement point i normalized with respect to the radius R of the synthetic quartz glass; (b): OH group concentration at measurement point i in terms of moving average for three points including the two points before and after the measurement point i; (c): radius at measurement point i normalized with respect to the radius R of the synthetic quartz glass; (d): average of OH group concentrations Xi in the whole evaluation region; and n: number of measurement points in the evaluation region (integer of 2 or more).

    摘要翻译： 本发明提供一种直径为100mm以上的合成石英玻璃，其用于包括发射波长为250nm以下的光的光源的光学装置中，所述合成石英玻璃在位于 其周边在与合成石英玻璃的光轴垂直的平面中10mm以上：相对于波长193nm的光，每厚度1cm的双折射为0.5nm以下; OH基浓度为60ppm以下; 从合成石英玻璃的中心朝向其圆周方向的中心的相对于合成石英玻璃的半径归一化的平均差分OH基浓度为-60ppm以上且小于-8ppm的平均值; 以及相对于合成石英玻璃的半径归一化为10ppm以下的从合成石英玻璃的中心向其周向的不同OH基浓度的无偏差标准偏差s为无偏标准偏差s 用以下公式（1）确定：（1）提供; （a）：相对于合成石英玻璃的半径R，在测量点i处的差示OH基浓度归一化; （b）：在测量点i之前和之后三点的移动平均值的测量点i处的OH基浓度; （c）：测量点i处的半径相对于合成石英玻璃的半径R标准化; （d）：整个评价区域的OH基浓度Xi的平均值; n：评价区域的测定点数（2以上的整数）。

    石英ガラス部材及び投影露光装置
    9.
    发明申请
    石英ガラス部材及び投影露光装置 审中-公开
    QUARTZ玻璃成员和投影对准器

    公开(公告)号：WO2002085808A1

    公开(公告)日：2002-10-31

    申请号：PCT/JP2002/003951

    申请日：2002-04-19

    申请人： 株式会社ニコン ,  小峰 典男 ,  吉田 明子 ,  神保 宏樹 ,  藤原 誠志

    发明人： 小峰 典男 ,  吉田 明子 ,  神保 宏樹 ,  藤原 誠志

    IPC分类号： C03C3/06

    CPC分类号： C03C4/0071 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G02B1/02 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958

    摘要： A quartz glass member, wherein when the composition thereof is represented by SiOx, x takes a value of 1.85 to 1.95, the concentration of hydrogen molecules contained therein is 1 X 10 molecules/cm to 5 X 10 molecules/cm , and the value of (A-B) is 0.002 cm or less, where A represents the absorption coefficient observed immediately before the termination of irradiation when the irradiation of ArF excimer laser light is carried out in 1 X 10 pulses at one pulse energy density of 2 mJ/cm and B represents a second absorption coefficient observed 600 seconds after the stop of the above ArF excimer laser light irradiation. The use of the quartz glass member in optical systems for illumination and projection in a projection aligner allows the reduction of variation in the illuminance in an exposure region on a reticle plane or a wafer, which leads to a uniform exposure.

    摘要翻译： 石英玻璃构件，当其组成由SiO x表示时，x取1.85〜1.95的值，其中所含的氢分子的浓度为1×10 16分子/ cm 3〜5×10 18 >分子/ cm 3，（AB）的值为0.002cm -1以下，其中A表示在ArF准分子激光的照射下进行照射结束之前观察到的吸收系数 1×10 4脉冲，脉冲能量密度为2mJ / cm 2，B表示在停止上述ArF准分子激光照射后600秒观察到的第二吸收系数。 在投影对准器中用于照明和投影的光学系统中使用石英玻璃构件允许减少在掩模版平面或晶片上的曝光区域中的照度的变化，这导致均匀的曝光。