公开(公告)号：WO2017145834A1

公开(公告)日：2017-08-31

申请号：PCT/JP2017/005077

申请日：2017-02-13

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 佐久間　洋宇 ,  田村　欣章 ,  森田　圭省

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03B37/018 ,  C03B37/027 ,  G02B6/02

CPC classification number: G02B6/02 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/01248 ,  C03B37/014 ,  C03B37/01453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2203/22 ,  C03C3/06 ,  C03C13/042 ,  C03C13/045 ,  C03C25/607 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54

Abstract: アルカリ金属元素等を含みレーリー散乱損失を低くすることができる光ファイバを提供する。光ファイバは、シリカガラスからなるコアと、コアを取り囲み、コアの屈折率より低い屈折率を有し、フッ素を含むシリカガラスからなるクラッドと、を備える。コアは、第１ドーパント群を含むとともに、第１ドーパント群の拡散係数より小さい拡散係数を有する第２ドーパント群を含む。光ファイバにおける残留応力の最大値と最小値の差は１５０ＭＰａ以下である。

Abstract translation: 提供了含有碱金属元素等并且能够降低瑞利散射损耗的光纤。 光纤包括由石英玻璃制成的芯和包围该芯的包层，该包层的折射率低于芯的折射率并且由含氟的石英玻璃制成。 芯包括具有比第一掺杂剂组的扩散系数小的扩散系数的第一掺杂剂组和第二掺杂剂组。 光纤中残余应力的最大值和最小值之间的差值为150MPa或更小。

公开(公告)号：WO2017075161A1

公开(公告)日：2017-05-04

申请号：PCT/US2016/059033

申请日：2016-10-27

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： BILLINGS, Kenneth Duane ,  BOOKBINDER, Dana Craig ,  CHLUDZINSKI, Paul Andrew ,  MOORE, Robert Clark ,  TANDON, Pushkar

IPC: C03B37/027 ,  C03B37/029 ,  C03B37/03 ,  G02B6/02 ,  G02B6/028 ,  G02B6/036

CPC classification number: C03B37/02718 ,  C03B37/0253 ,  C03B37/02727 ,  C03B37/029 ,  C03B37/032 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/50 ,  C03B2203/224 ,  C03B2203/24 ,  C03B2203/26 ,  C03B2205/42 ,  C03B2205/44 ,  C03B2205/55 ,  C03B2205/56 ,  C03B2205/60 ,  C03C25/106 ,  G02B6/02004 ,  G02B6/02009 ,  G02B6/0281 ,  G02B6/03622 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03633 ,  G02B6/03694

Abstract: According to some embodiments a method of processing an optical fiber comprises the steps of: (i) drawing the fiber at a drawing rate of at least 30 m/sec; and (ii) cooling the drawn fiber in a gas at an average cooling rate less than 5000 °C/s, such that said cooling reduces the temperature of the fiber from an entering temperature in the range between 1500 °C and 1700 °C to another temperature in the range between 1200 °C and 1400 °C, the gas being at a temperature between 800 °C and 1500 °C; and the thermal conductivity K of the gas being not greater than 1.5xl0" 4 cal/cm-s-K for at least one temperature within a range of 800 °C to 1500 °C at one atm (atmosphere) pressure absolute.

Abstract translation: 根据一些实施例，处理光纤的方法包括以下步骤：（i）以至少30m / sec的拉制速率拉制光纤; 和（ii）以小于5000℃/ s的平均冷却速率在气体中冷却拉伸的纤维，使得所述冷却将纤维的温度从进入温度降低到1500℃和1700℃之间的范围内 ;在1200℃和1400℃之间的范围内的另一个温度，所述气体处于800℃和1500℃之间的温度; 并且对于至少一个温度在800℃到1500℃范围内的气体的热导率K不大于1.5×10 -4℃/ cm·sK 大气）绝对压力。

公开(公告)号：WO2016130604A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：PCT/US2016/017230

申请日：2016-02-10

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos Alberto ,  HRDINA, Kenneth Edward ,  ROSCH, William Rogers

IPC: C03C23/00 ,  C03C4/00 ,  C03C3/076 ,  C03C3/089 ,  C03C3/115

CPC classification number: C03C3/076 ,  C03B19/12 ,  C03B19/1453 ,  C03B25/00 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/089 ,  C03C3/112 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/14 ,  C03C2203/52

Abstract: Annealing treatments for modified titania-silica glasses and the glasses produced by the annealing treatments. The annealing treatments include an isothermal hold that facilitates equalization of non-uniformities in fictive temperature caused by non-uniformities in modifier concentration in the glasses. The annealing treatments may also include heating the glass to a higher temperature following the isothermal hold and holding the glass at that temperature for several hours. Glasses produced by the annealing treatments exhibit high spatial uniformity of CTE, CTE slope, and fictive temperature, including in the presence of a spatially non-uniform concentration of modifier.

Abstract translation: 改性二氧化钛 - 二氧化硅玻璃和通过退火处理制备的玻璃的退火处理。 退火处理包括促进由玻璃中改性剂浓度不均匀引起的虚构温度不均匀性均衡的等温保持。 退火处理还可以包括在等温保持之后将玻璃加热到更高的温度，并将玻璃保持在该温度下几个小时。 通过退火处理生产的玻璃表现出CTE，CTE斜率和假想温度的高空间均匀性，包括在存在空间不均匀的改性剂浓度的情况下。

公开(公告)号：WO2015043957A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/EP2014/069302

申请日：2014-09-10

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： BECKER, Klaus ,  THOMAS, Stephan

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/008

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Substrat für einen EUV-Spiegel, das einen von der statistischen Verteilung abweichenden Verlauf der Nulldurchgangstemperatur aufweist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Substrates für einen EUV-Spiegel und dessen Verwendung, wobei der Verlauf der Nulldurchgangstemperatur im Substrat der Betriebstemperatur des Spiegels angepasst ist sowie ein Lithographieverfahren unter Verwendung eines solchen Substrates.

Abstract translation: 本发明涉及一种基板的EUV反射镜，其具有从过零温度具有当然的统计分布的偏差。 此外，本发明涉及一种用于EUV反射镜的制造衬底的方法，它的使用，其中，所述过零温度的过程中的反射镜的操作温度的基板，以及使用这样的衬底上的光刻工艺被调节。

公开(公告)号：WO2014085529A1

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：PCT/US2013/072146

申请日：2013-11-27

Applicant: CORNING INCORPORATED ,  ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos, Alberto ,  HRDINA, Kenneth, Edward

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos, Alberto ,  HRDINA, Kenneth, Edward

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03C4/00

CPC classification number: G03F1/22 ,  C03B19/12 ,  C03B19/1461 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54

Abstract: The present disclosure is directed to a doped silica-titania glass, DST glass, consisting essentially of 0.1 wt.% to 5 wt.% halogen, 50 ppm-wt. to 6 wt.% of one or more oxides of Al, Ta and Nb, 3 wt.% to 10 wt.% TiO 2 and the remainder SiO 2 . In an embodiment the halogen content can be in the range of 0.2 wt.% to 3 wt.% along with 50 ppm-wt. to 6 wt.% one or more oxides of Al, Ta and Nb, 3 wt.% to 10 wt.% TiO 2 and the remainder SiO 2 . In an embodiment the DST glass has an OH concentration of less than 100 ppm. In another embodiment the OH concentration is less than 50 ppm. The DST glass has a Active temperature T f of less than 875°C. In an embodiment T f is less than 825°C. In another embodiment T f is less than 775°C.

Abstract translation: 本公开涉及掺杂的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃DST玻璃，其基本上由0.1重量％至5重量％的卤素组成，50重量ppm。 至6重量％的一种或多种Al，Ta和Nb的氧化物，3重量％至10重量％的TiO 2，余量为SiO 2。 在一个实施方案中，卤素含量可以在0.2重量％至3重量％的范围内以及50ppm重量的范围内。 至6重量％的一种或多种Al，Ta和Nb的氧化物，3重量％至10重量％的TiO 2，余量为SiO 2。 在一个实施方案中，DST玻璃的OH浓度小于100ppm。 在另一个实施方案中，OH浓度小于50ppm。 DST玻璃的活性温度Tf小于875℃。 在一个实施方案中，Tf小于825℃。 在另一个实施方案中，Tf小于775℃。

公开(公告)号：WO2013156459A1

公开(公告)日：2013-10-24

申请号：PCT/EP2013/057869

申请日：2013-04-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： TROMMER, Martin ,  SCHWERIN, Malte ,  ZWARG, Steffen

IPC: C03B19/14

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B19/1453 ,  C03B37/01453 ,  C03B37/018 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23

Abstract: Für die Herstellung zylinderförmiger Bauteile aus Fluor enthaltendem, synthetischem Quarzglas sind folgende Verfahrensschritte bekannt: Erzeugen eines SiO 2 - Sootkörpers; Entfernen von Hydroxylgruppen aus dem Sootkörper, Beladen des Sootkörpers mit Fluor, Nachchlorieren des mit Fluor beladenen Sootkörpers und Verglasen des Sootkörpers zu dem zylinderförmigen Bauteil. Um reproduzierbar axial und radial besonders homogene Verteilungen insbesondere von Fluor zu erreichen, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass beim Trocknen im Sootkörper eine Konzentration an Hydroxylgruppen im Bereich von 1 bis 300 Gew.-ppm und beim Beladen mit Fluor ein mittlerer Fluorgehalt von mindestens 1500 Gew.-ppm eingestellt wird, und dass beim Nachchlorieren eine Beladung mit Chlor erfolgt, die nach dem Verglasen im synthetischen Quarzglas des Bauteils einen mittleren Chlorgehalt von mindestens 50 Gew.-ppm ergibt, unter der weiteren Maßgabe, dass das Gewichtsverhältnis der Gehalte von Fluor und Chlor kleiner als 30 ist.

Abstract translation: 以下处理步骤是已知的用于生产合成石英玻璃含氟的圆柱形部分组成：生成的SiO 2烟灰体; 从烟灰体的羟基的去除，用氟烟灰体的载荷，在Nachchlorieren载有氟烟灰体和烟灰体的玻璃化到圆柱形构件。 为了实现可再现的轴向和特别是氟径向特别均匀的分布，本发明提出的是羟基基团的浓度为1至300ppm（重量）和氟，在烟灰体的干燥过程中的至少1500％的平均氟含量加载期间。 ppm的设置，并且当Nachchlorieren装载与氯，其玻璃化后导致的组件的合成石英玻璃时具有按重量计至少50ppm的平均氯含量，与另外的条件是氟和氯的含量的重量比， 比30小

公开(公告)号：WO2013107787A1

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：PCT/EP2013/050776

申请日：2013-01-17

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： SCHÖTZ, Gerhard ,  BRÄUER, Karsten ,  SCHMIDT, Richard ,  BAUER, Peter ,  SCHULTHEIS, Andreas ,  SCHMITT, Clemens ,  LANGNER, Andreas

IPC: C03B37/012 ,  C03B37/014

CPC classification number: C03B37/01211 ,  C03B37/01222 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/0124 ,  C03B37/01291 ,  C03B37/01426 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/04 ,  C03B2203/12 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/31 ,  C03B2203/32 ,  C03B2203/34 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/2935

Abstract: Bekannt ist ein Quarzglasrohr als Halbzeug für ein optisches Bauteil, das eine sich entlang einer Rohr-Mittelachse erstreckende Innenbohrung zur Aufnahme eines Kernstabs und eine von einer Innenmantelfläche und einer Außenmantelfläche begrenzte Rohrwandung aufweist, in der ein innerer Bereich aus einem ersten Quarzglas und ein den inneren Bereich umgebender äußerer Bereich aus einem zweiten Quarzglas an einer Kontaktfläche aneinander liegen, die um die Mittelachse verläuft, wobei sich die Brechungsindizes von ersten und zweitem Quarzglas unterscheiden. Um hiervon ausgehend ein Quarzglasrohr bereitzustellen, das die Herstellung optischer Bauteile für Spezialanwendungen, wie laseraktive optische Bauteile in Stab- oder Faserform erleichtert, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Kontaktfläche im radialen Querschnitt einen nicht-runden Verlaufund die Innenmantelfläche einen kreisrunden Verlauf zeigen.

Abstract translation: 公开了一种石英玻璃管作为具有用于接收芯杆和沿所述内孔的管中心轴线的延伸的光学部件的半成品一个由内周面与管道​​壁的外表面区域，在其中内部部分由第一石英玻璃和内的限定 区域在其延伸围绕中心轴线，与所述第一和第二石英玻璃的折射率不同的接触表面周围彼此邻接的第二石英玻璃的外侧区域。 到开始提供其石英玻璃管，其包括生产用于特殊应用，如促进棒或纤维形式激光器有源光学器件的光学部件，本发明提出的是，接触表面是在一个非圆形Verlaufund圆形当然径向横截面中的内表面区域显示。

公开(公告)号：WO2013073354A1

公开(公告)日：2013-05-23

申请号：PCT/JP2012/077549

申请日：2012-10-25

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 中西　哲也 ,  小西　達也 ,  桑原　一也

IPC: G02B6/02 ,  C03B37/075 ,  G02B6/00 ,  G02B6/44

CPC classification number: G02B6/036 ,  C03B37/027 ,  C03B37/02718 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  G02B6/02395 ,  G02B6/03694

Abstract: 　光アクセスネットワークの光伝送路として好適に用いられる安価で低損失の光ファイバ１は、石英ガラスからなる光ファイバであって、中心軸を含む中心コア１１と、この中心コアを囲む光学クラッド１２と、この光学クラッドを囲むジャケット１３とを備え、中心コアは、ＧｅＯ ２ を含み、光学クラッドを基準とした相対屈折率差Δｃｏｒｅが０．３５％以上０．５０％以下であり、屈折率体積ｖが０．０４５μｍ ２ 以上０．０９５μｍ ２ 以下であり、ジャケットは、相対屈折率差ΔＪが０．０３％以上０．２０％以下であり、中心コアを構成するガラスの仮想温度が１４００℃以上１５９０℃以下であり、中心コアに残留する応力が圧縮応力であり且つその絶対値が５ＭＰａ以上である。

Abstract translation: 优选用作光接入网络的光传输路径的低价低损耗光纤（1）由石英玻璃制成。 光纤设有中心芯（11），用于围绕中心芯的光学包层（12）和用于围绕光学包层的护套（13）。 中心核心包括GeO2。 中心纤芯相对于光学包层的相对折射率差（Δcore）为0.35〜0.50％，折射率体积（v）为0.045〜0.095μm2。 护套的相对折射率差（ΔJ）为0.03〜0.20％。 构成中心芯的玻璃的假想温度为1400〜1590℃。 中心芯的残余应力为压缩应力，绝对值为5MPa以上。

公开(公告)号：WO2013047577A1

公开(公告)日：2013-04-04

申请号：PCT/JP2012/074677

申请日：2012-09-26

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 笹岡　英資

IPC: G02B6/04 ,  G02B6/02 ,  G02B6/36

CPC classification number: C03B37/01222 ,  C03B37/01225 ,  C03B37/01234 ,  C03B37/0126 ,  C03B37/0128 ,  C03B37/027 ,  C03B37/02754 ,  C03B37/02781 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/12 ,  C03B2203/14 ,  C03B2203/34 ,  C03B2205/10 ,  G02B6/02042 ,  G02B6/3851 ,  G02B6/3885

Abstract: 本発明は、母材自体を大型化した場合であっても、コアが高精度に配置されたマルチコア光ファイバの製造を可能にする。それぞれが棒状の複数のコア部材を、複数のコア部材の相対的位置関係を固定した状態で配列固定部材により固定し、複数のコア部材をクラッド部材と一体化することで母材を得る。得られた母材を線引することで、コア配置が高精度に制御されたマルチコア光ファイバが得られる。

Abstract translation: 本发明使得即使预成型件本身大也可以制造具有精确定位的芯的多芯光纤。 通过使用对准固定构件将多个棒状芯构件固定在适当位置，通过固定其间的相对位置关系并将芯构件整合为包层材料来获得预制件。 然后将获得的预成型件拉伸以产生具有精确控制的芯位置的多芯纤维。

公开(公告)号：WO2012006905A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：PCT/CN2011/074237

申请日：2011-05-18

Applicant: 长飞光纤光缆有限公司 ,  杨晨 ,  韩庆荣 ,  童维军 ,  罗杰 ,  刘泳涛

Inventor： 杨晨 ,  韩庆荣 ,  童维军 ,  罗杰 ,  刘泳涛

IPC: C03B37/018

CPC classification number: G02B6/0285 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0183 ,  C03B37/01892 ,  C03B37/02754 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/86 ,  C03B2203/23 ,  C03B2205/09 ,  C03B2205/14 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/31 ,  C03C2203/40 ,  G02B6/02395 ,  G02B6/0283 ,  G02B6/03633 ,  Y02P40/57

Abstract: 制备大尺寸光纤预制棒和光纤的方法。制备预制棒的方法包括按顺序在掺氟或纯石英玻璃衬管内部沉积下陷包层、内包层和芯层；熔缩沉积的衬管得到实心芯棒；将该芯棒与套管装配以获得预制棒或在芯棒外部沉积外包层以获得预制棒。将预制棒直接拉制成光纤或先将其拉制成小尺寸预制棒再拉制成光纤。对裸光纤涂覆两层涂料，从而得到高抗疲劳参数、弯曲不敏感、低水峰的光纤。通过本方法可以得到大尺寸、长拉伸长度的预制体，另外，本方法具有技术简单、成本低的优点，适于规模化生产。