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公开(公告)号:WO2014024306A1
公开(公告)日:2014-02-13
申请号:PCT/JP2012/070510
申请日:2012-08-10
CPC classification number: G11B5/314 , G02B6/125 , G11B5/6088 , G11B2005/0021
Abstract: 近接場光デバイスは、第1部材と、第2部材と、を備えている。第1部材と第2部材との間には、第1部材及び第2部材とは異なる物質からなる媒体が介在している。第2部材が、第1部材に生じた近接場光を介してエネルギーを受け取る部材である場合、第2部材は、第1部材から、前記媒体中を伝播する近接場光に係るエネルギーが極大近傍になる距離だけ離れて配置されている。他方、第2部材が、近接場光を介してエネルギーを受け取らない部材である場合、第2部材は、第1部材から、前記媒体中を伝播する近接場光に係るエネルギーが極小近傍になる距離だけ離れて配置されている。
Abstract translation: 近场光学器件设置有第一构件和第二构件。 由与第一和第二构件不同的材料制成的介质介于第一构件和第二构件之间。 当第二构件是通过在第一构件中产生的近场光接收能量的构件时,第二构件与第一构件隔开一定距离,其中与通过介质传播的近场光相关联的能量 接近最大值。 当第二构件是通过近场光不接收能量的构件时,第二构件与第一构件隔开一定距离,其中与通过介质传播的近场光相关联的能量接近于 最小。
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公开(公告)号:WO2013047049A1
公开(公告)日:2013-04-04
申请号:PCT/JP2012/071592
申请日:2012-08-27
Applicant: パイオニア株式会社 , パイオニア・マイクロ・テクノロジー株式会社 , 糟谷 孝幸 , 杉浦 聡 , 吉沢 勝美
CPC classification number: G11B5/09 , B82Y10/00 , G01Q80/00 , G11B5/314 , G11B7/1387 , G11B11/10545 , G11B11/10554 , G11B2005/0021 , Y10S977/947 , Y10S977/951
Abstract: 読取器(12)は、(i)一又は複数の量子ドットと、(ii)該一又は複数の量子ドットの上層に積層された出力端(224)と、を有する近接場光デバイス(122)と、記録媒体の記録情報の再生時に、該近接場光デバイスにより形成される近接場光に起因する光を受光する受光手段(124)と、を備える。当該読取器によれば、熱アシスト磁気記録により記録された情報を、別途磁気回路を設けずに再生することができる。
Abstract translation: 读取器(12)具有:近场光学器件(122),其具有(i)一个或多个量子点,以及(ii)层叠在所述第一层的上层上的输出端(224) 一个或多个量子点; 以及当记录介质上记录的信息被重放时,接收归因于由近场光学装置形成的近场光的光的光接收装置(124)。 读取器能够通过热辅助磁记录记录的信息进行回放,而不需要提供单独的磁路。
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公开(公告)号:WO2004040041A1
公开(公告)日:2004-05-13
申请号:PCT/JP2003/013741
申请日:2003-10-27
Applicant: 独立行政法人科学技術振興機構 , 星野 勝義 , 櫃岡 祥之 , 杉浦 聡哉
IPC: C25C1/08
Abstract: コバルトは、触媒、二次電池電極材料、磁性材料などに使われているが、その単結晶ウイスカーやその他の形態のナノサイズの金属コバルト微粒子の効率的な製造方法については殆ど報告が無い。 コバルトアンミン錯体[Co(NH 3 ) 6 ]Cl 3 の水溶液を飽和カロメル参照電極に対し、電解電位−0.90~−1.25Vの範囲で電解し陰極上に金属コバルトを析出させることを特徴とするナノサイズの金属コバルト微粒子の電解析出方法。金属コバルト単結晶ナノワイヤーや金属コバルトの木の葉状構造の結晶が析出する。
Abstract translation: 尽管钴用于催化剂,二次电池电极材料,磁性材料等,但是对于其它结构的钴单晶须晶和纳米尺寸金属钴微粒的有效制备方法几乎没有报道 。 一种用于纳米尺寸金属钴微细颗粒的电解沉积方法,其特征在于包括以下步骤:在-0.90至-1.25V的电解电位范围内电解钴胺络合物[Co(NH 3)6] Cl 3的水溶液相对于 饱和甘汞参比电极,并在阴极上沉积金属钴。 沉积金属钴单晶纳米线或金属钴的叶结构晶体。
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公开(公告)号:WO2012111150A1
公开(公告)日:2012-08-23
申请号:PCT/JP2011/053537
申请日:2011-02-18
Applicant: パイオニア株式会社 , パイオニア・マイクロ・テクノロジー株式会社 , 杉浦 聡 , 吉沢 勝美 , 糟谷 孝幸
CPC classification number: G11B13/08 , F21K9/60 , G11B5/02 , G11B5/4886 , G11B9/1409 , G11B2005/0021
Abstract: 本発明は、量子ドットを用いてエネルギー変換効率が高く、高密度記録や高解像度を実現できる近接場光デバイス及びエネルギー移動方法を提供することを課題とする。本発明に係る近接場光デバイス(1、100、200、300、400、500)は、光源(11、101、204、303、402、503)と、該光源からの出射された光に基づいて近接場光を発生する量子ドット(15、105a、105b、108、201、202、203、301、302、401、501、502)と、該近接場光のエネルギーの少なくとも一部を外部へ出力可能な出力端(17、110、205、304、403、504)と、を備える。
Abstract translation: 本发明解决了提供近场光学器件和能量传递控制方法的问题,其能够使用量子点来提高能量转换效率,并且能够实现高密度记录和高分辨率。 这些近场光学器件(1,100,200,300,400,500)设置有光源(11,101,204,303,402,503),量子点(15,105a,105b,108,201) ,202,203,301,302,301,501,502,502),其基于从所述光源发射的光产生近场光,以及输出端(17,110,205,304,403,504),其为 能够将近场光的能量的至少一部分输出到外部。
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5.電子ビーム描画装置の調整方法、及び電子ビーム描画装置を制御する制御装置の調整方法 审中-公开
Title translation: 用于调整电子束显示装置的方法和用于调节用于控制电子束形成装置的控制装置的方法公开(公告)号:WO2010023751A1
公开(公告)日:2010-03-04
申请号:PCT/JP2008/065506
申请日:2008-08-29
IPC: G11B9/10
Abstract: 【課題】 【解決手段】調整対象となる電子ビーム描画装置において所定のテストパターンを描画させ、この描画されたテストパターンを表す画像に基づいて上記電子ビーム描画装置における描画制御部の制御量を補正させるべき補正データを生成し、この補正データに基づき上記電子ビーム描画装置における描画制御部の制御量を補正する。
Abstract translation: 使要调整的电子束绘图装置绘制预定的测试图案。 根据表示绘制的测试图案的图像,在电子束绘制装置中产生用于校正绘制控制单元的控制量的校正数据。 根据校正数据,在电子束绘制装置中校正绘制控制单元的控制量。
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公开(公告)号:WO2004013706A1
公开(公告)日:2004-02-12
申请号:PCT/JP2003/009649
申请日:2003-07-30
IPC: G03H1/04
CPC classification number: G11B7/128 , G03H1/0402 , G03H1/0404 , G03H1/0493 , G03H1/16 , G03H1/26 , G03H2001/0419 , G03H2210/22 , G11B7/0065 , G11B7/1353 , G11B7/24
Abstract: A hologram recording/reproducing method comprising the recording step of generating a signal light beam by spatially modulating a coherent reference light beam according to recorded information, irradiating a recording material of a photosensitive material with the above signal light to allow it to enter and pass through the recording medium, and forming a diffraction grating region by a light interference pattern in a portion inside the recording medium where a 0-order light and a diffraction light of the signal light beam interfere, and the reproducing step of applying the reference light beam to the above diffraction grating region to produce a reproduction wave corresponding to the signal light beam.
Abstract translation: 一种全息图记录/再现方法,包括根据记录信息通过空间调制相干参考光束产生信号光束的记录步骤,用上述信号光照射感光材料的记录材料以使其进入并通过 记录介质,并且在信号光束的0级光和衍射光干涉的记录介质内部的部分中通过光干涉图案形成衍射光栅区域;以及再现步骤,将参考光束施加到 上述衍射光栅区域产生对应于信号光束的再生波。
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公开(公告)号:WO2004013705A1
公开(公告)日:2004-02-12
申请号:PCT/JP2003/006142
申请日:2003-05-16
IPC: G03H1/04
CPC classification number: G03H1/265 , G03H1/16 , G03H1/26 , G03H2260/54 , G11B7/0065
Abstract: 互換性あるホログラム記録再生システムは、光感応材料からなる記録媒体を装着自在に支持する支持部と、所定データに応じて変調された可干渉性光ビームを記録媒体に入射しその内部にて3次元的な光干渉パターンを設けて回折格子を生成する信号光生成部と、回折格子からの回折光を検出し光電気変換する検出部と、検出部の出力から所定データを復調する復調部と、を有する。検出部は中間データを生成する中間データ生成部を備え、復調部は、中間データと所定データとを一意に関連付けた変換テーブルを保持し、変換テーブルの対応関係に基づいて演算して、所定データを復調する。
Abstract translation: 一种兼容的全息图记录/再现系统包括一个支持单元,用于清除支持由感光材料制成的记录介质,信号光产生单元,用于将预定数据调制的相干光束引导到记录介质上,以便通过 在其中形成三维光干涉图案,用于感测来自衍射光栅的衍射光并对其进行光电转换的传感器单元,以及用于从传感器单元的输出解调预定数据的解调单元。 传感器单元具有用于创建中间数据的中间数据创建部分。 解调部分保存中间数据与预定数据唯一相关的转换表,根据转换表的对应关系进行计算,并解调预定数据。
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公开(公告)号:WO2013047003A1
公开(公告)日:2013-04-04
申请号:PCT/JP2012/070998
申请日:2012-08-20
Applicant: パイオニア株式会社 , パイオニア・マイクロ・テクノロジー株式会社 , 糟谷 孝幸 , 杉浦 聡 , 吉沢 勝美
CPC classification number: G11B5/314 , B82Y10/00 , G01Q80/00 , G11B2005/0021
Abstract: 近接場光デバイス(100)は、外部から照射される光に基づいて近接場光を発生する量子ドット(113、116)と、発生された近接場光のエネルギーの少なくとも一部を外部へ出力可能な出力端(118)と、を備える。出力端は、該出力端の上方から平面的に見て、一の方向に沿う長さが、該一の方向と交わる他の方向に沿う長さよりも長くなるように形成されている。当該近接場光デバイスによれば、熱アシスト磁気記録により情報を適切に記録することができる。
Abstract translation: 近场光学器件(100)具有基于从外部发射的光产生近场光的量子点(113,116),以及能够输出至少一部分的输出端(118) 从外界产生的近场光的能量。 输出端形成为从在输出端上方的平面观察的一个方向上的长度比沿与该一个方向相交的另一方向的长度长。 近场光学装置能够通过热辅助磁记录适当地记录信息。
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公开(公告)号:WO2011161773A1
公开(公告)日:2011-12-29
申请号:PCT/JP2010/060575
申请日:2010-06-22
Inventor: 杉浦 聡
IPC: G02F3/00
CPC classification number: G02F3/00 , B82Y20/00 , G02F1/017 , G02F2001/01791
Abstract: 量子ドットを用いた光論理回路において、回路規模の肥大化を抑制し、効率的な論理動作を可能にする。 光論理回路は、ベース光用レイヤー及び信号光用レイヤーが積層されてなる量子ドットレイヤー部(10)と、ベース光をベース光用レイヤーに向けて発するベース光源手段(25)と、信号光を信号光用レイヤーに向けて発する信号光源手段(21、22)と、信号光を、実行されるべき論理演算に供される情報の値に応じて変化させると共に、ベース光及び信号光のうち少なくとも一つの光の波長を、前記論理演算の種類に応じて適宜切り替える制御手段(20)とを備える。ベース光用レイヤー及び信号光用レイヤーのうち少なくとも一つのレイヤー(21、22、25)は、(i)波長が第1波長に切り替えられている場合に、第1種類の論理動作が行われると共に、(ii)波長が第2波長に切り替えられている場合に、第2種類の論理動作が行われるように構成されている。
Abstract translation: 采用量子点的光逻辑电路提供了一种不会在规模上过大的电路,并且可以有效地进行逻辑运算。 光逻辑电路配备有:通过层叠基底层和信号光层形成的量子点层部分(10); 基底光源装置(25),其向基底层发射基底光; 信号光源装置(21,22),其向信号光层发射信号光; 以及响应于提供给要执行的逻辑计算的信息值而改变信号光的控制装置(20),同时适当地切换基本光和信号光的至少一个光的波长,响应于 逻辑计算。 基底层和信号光层的至少一层(21,22,25)被构造成:(i)如果波长被切换到第一波长,则进行第一类逻辑运算,并且(ii )如果波长切换到第二波长,则进行第二类逻辑运算。
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公开(公告)号:WO2010143735A1
公开(公告)日:2010-12-16
申请号:PCT/JP2010/060003
申请日:2010-06-08
Applicant: 帝人ファーマ株式会社 , 杉浦 聡
Inventor: 杉浦 聡
IPC: C07C327/48
CPC classification number: C07C327/48
Abstract: 本発明の課題は、痛風治療薬として使用される2-(3-シアノフェニル)チアゾール誘導体の、製造中間体として有用な4-置換ベンゾチオアミド誘導体を、安全、安価、容易且つ高収率に製造するのに適した方法を提供することである。本発明は、下記式で表される4-置換ベンゾチオアミド誘導体の製造方法に関する。
Abstract translation: 公开了一种适合安全,经济和容易地以高产率生产4-取代的苯并硫代酰胺衍生物的方法,其可用作制备可用作痛风补救剂的2-(3-氰基苯基)噻唑衍生物的中间体。 具体公开了由式(A)表示的4-取代苯并硫代酰胺衍生物的制造方法。
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