铸造法生产类似单晶硅的方法
    1.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2012171308A1

    公开(公告)日:2012-12-20

    申请号:PCT/CN2011/083714

    申请日:2011-12-08

    Inventor: 石坚 熊涛涛

    CPC classification number: C30B11/00 C30B11/003 C30B11/006 C30B28/06 C30B29/06

    Abstract: 本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅的方法,涉及铸造法生产类似单晶硅的方法,包括对GT或四面及顶面加热器的铸锭炉设备的改进与类似单晶的生长控制,所述的铸锭炉设备的改进指类似单晶硅锭热场梯度改进装置,所述的类似单晶的生长控制,包括投炉硅料和晶种摆放方法,化料加热方法,炉内融化后晶种稳定炉底的方法之一或组合。本发明的有益效果是:通过改变GT炉或四面加热器加顶部加热器的热场装置及材料、完善投炉硅料和晶种摆放方法、化料加热方法、炉内融化后晶种稳定炉底的方法等措施,从而改变热场内部温度曲线,可显著改善化料及生长等温曲线;进而可解决类似单晶晶种熔化问题,解决类似单晶生产的高成本、可靠性低、成功率低的问题。

    铸造法生产类似单晶硅锭晶种制作方法

    公开(公告)号:WO2012171306A1

    公开(公告)日:2012-12-20

    申请号:PCT/CN2011/083699

    申请日:2011-12-08

    Inventor: 石坚 熊涛涛

    CPC classification number: B24B7/228 B24B37/04

    Abstract: 一种铸造法生产类似单晶硅锭晶种制作方法,采用的单晶硅晶向为 ,电阻率≥0.1Ω⋅cm,极性不限;依次进行以下工序:a.该圆柱状单晶硅的直径选择在130〜250mm之间;b.断棱处反切50〜350mm;c.采用开方机将单晶硅加工成方棒;d.采用平磨机对方棒四边进行抛光;e.采用截断机将硅单晶切割成每块高度在5〜50mm的晶块;f.采用化学抛光或机械抛光,对晶块进行抛光,去除表面损伤层;清洗干净,烘干包装,待用。通过本方法的控制,可有效地减少晶种引起的缺陷,使得铸锭炉生长类似单晶的质量提高。

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