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公开(公告)号：WO2003100129A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/EP2003/005499
申请日：2003-05-26
Applicant: SCHOTT GLAS , CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS SCHOTT GLAS , CARL-ZEISS-STIFTUNG , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , ARNOLD, Gregor , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
Inventor： BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , ARNOLD, Gregor , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
IPC: C23C16/54
CPC classification number: C23C16/54 , B05D1/62 , B08B7/00 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G2201/0244 , C03C17/004 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/4412 , C23C16/458 , C23C16/511 , H01J37/32733
Abstract: Um eine besonders effektive und schnelle CVD-Beschichtung von Werkstücken zu ermöglichen, sieht die Erfindung eine Rundläufervorrichtung (1) zur Behandlung, insbesondere für CVD-Beschichtungen vor, die - ein Förderkarrussell (3), - Behandlungsstationen (51, 52, …, 5N), welche mit dem Förderkarussell transportiert werden, und -zumindest eine erste Pumpeinrichtung (71 - 74) aufweist. Dabei wird die erste Pumpeinrichtung (71 -74) mit dem Förderkarussell (3) transportiert.
Abstract translation: 为了使工件的特别有效和快速的CVD涂层，本发明提供了用于治疗的旋转装置（1），特别是用于CVD涂层之前，其 - 一个Förderkarrussell（3）， - 处理站（51，52，... 5N），其通过传送带传送带输送，和 - 至少一个第一泵装置（71-74）包括。 第一泵装置（71 -74）由输送机输送转盘（3）。
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2.发明申请
公开(公告)号：WO2003100121A2
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/EP2003/005497
申请日：2003-05-26
Applicant: SCHOTT GLAS , CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS SCHOTT GLAS , CARL-ZEISS-STIFTUNG , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , ARNOLD, Gregor , BICKER, Matthias , WALTHER, Marten
Inventor： BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , ARNOLD, Gregor , BICKER, Matthias , WALTHER, Marten
IPC: C23C16/04
CPC classification number: C23C16/4409 , B05D1/62 , B08B7/00 , B08B9/426 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G29/00 , B65G2201/0244 , C03C17/005 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C14/046 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/4412 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/50 , C23C16/511 , C23C16/54 , H01J37/32733
Abstract: Um das Einführen und Herausnehmen von Werkstücken (25, 27) in einen Reaktor zur Plasmabeschichtung zu vereinfachen und den Durchsatz zu erhöhen, sieht die Erfindung eine Beschichtungsvorrichtung (1) mit einem Reaktor (18) mit einem beweglichen Hülsenteil (19) und einem Sockelelement (33) vor, wobei in aneinandergefügter Position zumindest eine abgedichtete Beschichtungskammer (15, 17) zwischen Hülsenteil (19) und Sockelelement (33) definiert wird, sowie mit einer Einrichtung (2) zur Einleitung elektromagnetischer Energie in die zumindest eine Beschichtungskammer (15, 17), wobei der Reaktor (18) zumindest zwei Beschichtungsplätze (12, 14) aufweist.
Abstract translation: 为了便于插入和取出的工件（25，27）中用于等离子体涂层的反应器中，以促进和增加吞吐量，本发明提供具有具有可移动套筒部分（19）的反应器（18）的涂布装置（1）和（a基座元件 33）在前面，其中至少一个密封的涂层的套筒部（19）和基体部件（33）之间的室（15，17）中的每个接合位置的限定，并且具有装置（2）用于将电磁能转换成所述至少一个涂布室（15，17 ），所述反应器（18）的至少两个涂层的空间（12，14）。
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公开(公告)号：WO2003099688A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/DE2003/001509
申请日：2003-05-09
Applicant: SIG TECHNOLOGY LTD. , LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen , CHOINSKI, Julian
Inventor： LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen , CHOINSKI, Julian
IPC: B65G47/84
CPC classification number: C23C16/54 , B05D1/62 , B08B7/00 , B08B9/426 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B65D23/02 , B65G29/00 , B65G47/847 , B65G2201/0244 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C14/046 , C23C14/505 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/458 , C23C16/511 , H01J37/32733
Abstract: Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Handhabung von Werkstücken, die von einem rotierenden Kopplungsrad (81) transportiert werden. Mindestens zwei Werkstücke (42) werden mindestens zeitweilig von einem gemeinsamen Halteelement (86) positioniert. Zur Durchführung der Positionierung wird sowohl eine Drehbewegung relativ zu einer Rotationsachse (82) des Kopplungsrades als auch eine Drehbewegung relativ zu einer quer zur Rotationsachse des Kopplungsrades verlaufenden Drehachse durchgeführt. Eine Übergabe von Werkstücken zwischen dem Halteelement und mindestens einer Bezugsstation für mindestens zwei vom Halteelement zu positionierende Werkstücke wird relativ zueinander zu unterschiedlichen Zeitpunkten durchgeführt. Zur Positionierung der Werkstücke ist das Halteelement mit mindestens zwei Fixierelementen (97) versehen.
Abstract translation: 使用该方法和装置的工件装卸被旋转的耦合轮（81）输送。 至少两个工件（42）通过一个共同的保持元件（86）至少暂时定位。 为了进行相对于耦接轮的旋转轴线（82）的两个旋转运动和旋转运动的定位相对于进行了沿横向于旋转耦合车轮轴线的旋转轴线。 用于至少两个保持元件的保持元件和至少一个参考站之间的工件的转印到被定位的工件是在不同时间点进行相对于彼此。 用于工件的定位，所述保持元件设置有至少两个固定元件（97）。
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公开(公告)号：WO2003100127A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/DE2003/001506
申请日：2003-05-09
Applicant: SIG TECHNOLOGY LTD. , LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
Inventor： LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
IPC: C23C16/54
CPC classification number: C23C16/54 , B05D1/62 , B08B7/00 , B08B9/426 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G29/00 , B65G2201/0244 , C23C14/046 , C23C14/505 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/458 , C23C16/511 , H01J37/32733
Abstract: Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Plasmabehandlung von Werkstücken. Das Werkstück wird in eine zumindest teilweise evakuierbare Kammer einer Behandlungsstation (3) eingesetzt und das Werkstück wird innerhalb der Behandlungsstation von einem Halteelement positioniert. Mindestens ein Betriebsmittel wird mindestens teilweise von einer Fördereinrichtung (44) beaufschlagt, die gemeinsam mit der Behandlungsstation auf einem geschlossenen und umlaufenden Transportweg bewegt wird.
Abstract translation: 该方法和设备被用于工件的等离子体处理。 将工件插入到至少部分抽空室的处理站（3）和工件是由保持部件定位在所述处理工位内。 至少一个操作装置至少部分地基于由与所述处理台一起移动闭合和循环进料路径上的输送装置（44）加载。
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公开(公告)号：WO2003100118A3
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/DE2003/001508
申请日：2003-05-09
Applicant: SIG TECHNOLOGY LTD. , LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
Inventor： LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
IPC: C23C16/04
Abstract: Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Behandlung von Werkstücken. Es wird mindestens ein Werkstück in eine Behandlungsstation eingesetzt und innerhalb der Behandlungsstation von einem Halteelement positioniert. Die Behandlungsstation wird entlang eines umlaufenden Transportweges positioniert. Entlang des Transportweges wird die Behandlungsstation an mindestens; einer Versorgungspositionierung relativ zur Transportrichtung stillstehend von einer stationären Versorgungseinrichtung mit mindestens einem Betriebsmittel versorgt.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2003100118A2
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/DE2003/001508
申请日：2003-05-09
Applicant: SIG TECHNOLOGY LTD. , LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
Inventor： LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
IPC: C23C16/04
CPC classification number: C23C16/54 , B05D1/62 , B08B7/00 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G2201/0244 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/458 , C23C16/511 , H01J37/32733
Abstract: Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Behandlung von Werkstücken. Es wird mindestens ein Werkstück in eine Behandlungsstation eingesetzt und innerhalb der Behandlungsstation von einem Halteelement positioniert. Die Behandlungsstation wird entlang eines umlaufenden Transportweges positioniert. Entlang des Transportweges wird die Behandlungsstation an mindestens; einer Versorgungspositionierung relativ zur Transportrichtung stillstehend von einer stationären Versorgungseinrichtung mit mindestens einem Betriebsmittel versorgt.
Abstract translation: 该方法和设备被用于工件的治疗。 它是由一个保持构件中使用的至少一个工件在处理站和位于所述处理站内。 处理站沿着循环输送路径定位。 沿着传输路径到至少所述处理站是; 静息提供相对于固定供给装置的与至少一个资源中的传输方向的供给的定位。
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公开(公告)号：WO2003100117A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/DE2003/001503
申请日：2003-05-09
Applicant: SIG TECHNOLOGY LTD. , LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
Inventor： LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
IPC: C23C16/04
CPC classification number: C23C16/54 , B05D1/62 , B08B7/00 , B08B9/426 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G29/00 , B65G2201/0244 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C14/046 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/511 , H01J37/32733
Abstract: Das verfahren und die Vorrichtung dienen zur Plasmabehandlung von Werkstücken (5). Das Werkstück wird in eine zumindest teilweise evakuierbare Kammer (17) einer Behandlungsstation (3) eingesetzt und das Werkstück wird innerhalb der Behandlungsstation von einem Halteelement (46) positioniert. Das Werkstück wird durch mindestens zwei relativ zueinander positionierbare Klemmelemente (47,48) des Halteelementes derart beaufschlagt, dass das Werkstück von einem Klemmraum (54) zwischen den Klemmelementen aufgenommen wird.
Abstract translation: 该方法和设备被用于工件（5）的等离子体处理。 将工件插入到至少部分地抽真空的室（17）到一个处理站（3）和由保持部件（46），所述工件定位在所述处理工位内。 工件被所述保持元件的至少两个相对定位的夹紧元件（47,48）在通过夹紧空间（54），所述工件被夹紧件之间接收到这样的方式采取行动。
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公开(公告)号：WO2003100116A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/DE2003/001502
申请日：2003-05-09
Applicant: SIG TECHNOLOGY LTD. , LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
Inventor： LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
IPC: C23C16/04
CPC classification number: C23C16/4409 , B05D1/62 , B08B7/00 , B08B9/426 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G29/00 , B65G2201/0244 , C23C14/046 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/511 , C23C16/54 , H01J37/32733
Abstract: Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Plasmabehandlung von Werkstücken (5). Das Werkstück wird in eine zumindest teilweise evakuierbare Kammer (4) einer Behandlungsstation eingesetzt und das Werkstück wird innerhalb der Behandlungsstation von einem Halteelement positioniert. Zur Abdichtung eines Innenraumes des Werkstückes wird ein hülsenartiges Dichtelement (28) relativ zu einem Kammerboden (29) positioniert.
Abstract translation: 该方法和设备被用于工件（5）的等离子体处理。 工件是在（4）中使用的处理站的至少部分抽空室和工件是由保持部件定位在所述处理工位内。 用于密封所述工件的内部空间中的套筒状密封件（28）相对于腔室底座（29），其定位。
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公开(公告)号：WO2003100115A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/DE2003/001501
申请日：2003-05-09
Applicant: SIG TECHNOLOGY LTD. , LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
Inventor： LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen
IPC: C23C16/04
CPC classification number: C23C16/4409 , B05D1/62 , B08B7/00 , B08B9/426 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G29/00 , B65G2201/0244 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C14/046 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/50 , C23C16/511 , C23C16/54 , H01J37/32733
Abstract: Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Plasmabehandlung von Werkstücken (5). Das Werkstück wird in eine zumindest teilweise evakuierbare Kammer (4) einer Behandlungsstation (17) eingesetzt und zur Unterstützung einer Handhabung der Werkstücke wird mindestens ein Teil (18) der Behandlungsstation relativ zu einem weiteren Teil (27,35) bewegt. Die Bewegung wird derart durchgeführt, dass eine hülsenförmige Kammerwandung (18) relativ zu einem Kammerboden (35) sowie relativ zu einem Kammerdeckel (27) positioniert wird.
Abstract translation: 该方法和设备被用于工件（5）的等离子体处理。 工件处于至少部分地抽真空的腔室（4）中使用的处理站（17），并支持工件的处理，至少相对于另一个部分（27,35）移动的处理台的一部分（18）。 移动被执行使得套筒形室壁（18）相对于腔室底座（35）和相对于腔室盖（27）被定位。
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公开(公告)号：WO2003100125A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/DE2003/001505
申请日：2003-05-09
Applicant: SIG TECHNOLOGY LTD. , LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen , WALTHER, Marten
Inventor： LITZENBERG, Michael , LEWIN, Frank , MÜLLER, Hartwig , VOGEL, Klaus , ARNOLD, Gregor , BEHLE, Stephan , LÜTTRINGHAUS-HENKEL, Andreas , BICKER, Matthias , KLEIN, Jürgen , WALTHER, Marten
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4409 , B05D1/62 , B08B7/00 , B08B9/426 , B29C49/421 , B29C2049/026 , B29C2049/027 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B29K2077/00 , B29K2995/0067 , B65D23/02 , B65G29/00 , B65G2201/0244 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C14/046 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/50 , C23C16/511 , C23C16/54 , H01J37/32733
Abstract: Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Plasmabehandlung von Werkstücken (5). Das Werkstück wird in eine zumindest teilweise evakuierbare Kammer (7) einer Behandlungsstation (3) eingesetzt und das Werkstück wird innerhalb der Behandlungsstation von einem Halteelement positioniert. Zur gleichzeitigen Versorgung von mindestens zwei Kammern mit mindestens einem Betriebsmittel wird eine Strömung des Betriebsmittels mindestens einmal in mindestens zwei Teilströme (55) verzweigt.
Abstract translation: 该方法和设备被用于工件（5）的等离子体处理。 将工件插入到至少部分地抽真空的室（7）的处理站（3）和工件是由保持部件定位在所述处理工位内。 对于具有至少一个操作装置中的至少两个腔室的同时供给工作介质的至少一次中的至少两个部分流（55）的流动被分支。
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