公开(公告)号：WO2004006013A1

公开(公告)日：2004-01-15

申请号：PCT/EP2003/007401

申请日：2003-07-09

Applicant: CARL ZEISS MICROELECTRONIC SYSTEMS GMBH ,  LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  ENGEL, Thomas ,  HARNISCH, Wolfgang ,  HOFFROGGE, Peter ,  ZIBOLD, Axel

Inventor： ENGEL, Thomas ,  HARNISCH, Wolfgang ,  HOFFROGGE, Peter ,  ZIBOLD, Axel

IPC: G03F1/00

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/84

Abstract: Anordnung und Verfahren zur Herstellung von Photomasken, wobei mindestens ein Defektkontrollsystem über eine stehende Datenverbindung oder on-line Verbindung mit mindestens einem Reparatursystem verbunden ist und das Defektkontrollsystem und das Reparatursystem datenmässig so miteinander verbunden sind, dass die auf einem der Systeme gewonnen Ergebnisse auf dem anderen System zur Weiterverarbeitung unmittelbar zur Verfügung stehen, wobei das Defektkontrollsystem über eine Datenverbindung zum Datenaustausch ermittelte Defekte an das Reparatursystem weiterleitet, das den Reparaturvorgang anhand der ermittelten Defekte steuert, wobei vorteilhaft ein AIMS System als Defektkontrollsystem und ein Elektronenstrahlsystem zur Defektkontrolle vorgesehen ist.

Abstract translation: 装置和方法，用于在一个固定的数据连接或在线连接制备光掩模，其中至少一个缺陷的缺陷检查系统被连接到至少一个修复系统和缺陷检测系统中，修复系统中的数据连接到彼此，使得获得了在另一方的系统的结果的一个 系统可用于进一步的处理直接，其中，通过用于数据交换的转发到修复系统，其控制检测到的缺陷，这有利地提供了一种用于AIMS系统作为缺陷检查系统和电子束系统的缺陷检查的基础上，在修复过程的数据连接检测到的缺陷检测系统的缺陷。

公开(公告)号：WO2003071578A3

公开(公告)日：2003-08-28

申请号：PCT/EP2003/001923

申请日：2003-02-25

Applicant: LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  NAWOTEC GMBH ,  KOOPS, Hans, W., P. ,  HOFFROGGE, Peter

Inventor： KOOPS, Hans, W., P. ,  HOFFROGGE, Peter

IPC: H01J37/305

Abstract: Es wird ein Materialbearbeitungssystem zur Bearbeitung eines Werkstücks (3) vorgeschlagen. Die Materialbearbeitung erfolgt durch Zuführung eines Reaktionsgases und energetischer Strahlung zur Anregung des Reaktionsgases in eine Umgebung eines zu bearbeitenden Ortes des Werkstücks. Die Strahlung wird vorzugsweise durch ein Elektronenmikroskop (15) bereitgestellt. Eine Objektivlinse (27) des Elektronenmikroskops liegt vorzugsweise zwischen einem Detektor (41) desselben und dem Werkstück. Eine Gaszuführungsanordnung (53) des Materialbearbeitungssystems weist ein mit Abstand von dem Bearbeitungsort angeordnetes Ventil auf, wobei ein Gasvolumen zwischen dem Ventil und einem Austrittsort (59) des Reaktionsgases klein ist. Die Gaszuführungsanordnung weist ferner ein temperiertes, insbesondere gekühltes Reservoir zur Aufnahme eines Ausgangsmaterials für das Reaktionsgas auf.

公开(公告)号：WO03071578A2

公开(公告)日：2003-08-28

申请号：PCT/EP0301923

申请日：2003-02-25

Applicant: LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  NAWOTEC GMBH ,  KOOPS HANS W P ,  HOFFROGGE PETER

Inventor： KOOPS HANS W P ,  HOFFROGGE PETER

IPC: H01J37/18 ,  H01J37/30 ,  H01J37/305 ,  H01J37/301

CPC classification number: H01J37/18 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/162 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/31744

Abstract: The invention relates to a material treating system for treating a work piece (3). The material treatment is carried out by supplying a reaction gas and energetic radiation to induce the reaction gas in a surrounding of a section of the work piece to be treated. The radiation is preferably provided by an electron microscope (15). An objective lens (27) of the electron microscope is disposed preferably between a detector (41) thereof and the work piece. A gas supply system (53) of the material treating system is provided with a valve disposed at a distance from the treating section, and a gas volume between the valve and a location of emergence (59) of the reaction gas is small. The gas supply system is further provided with a temperature-adjusted, especially cooled reservoir for receiving a starting material for the reaction gas.

Abstract translation: 提出了一种用于处理工件的材料处理系统。3 材料处理通过供给反应气体和能量辐射来激发反应气体中的位置的附近的工件的待加工进行。 的辐射优选地由电子显微镜第十五提供 在电子显微镜的物镜27，优选为检测器41，并且在同一工件之间。 该材料处理系统的气体供应装置53包括一个设置在从加工现场阀，其特征在于，气体的阀和反应气体的出口59的点之间的体积是小的距离。 气体供给装置还包括一个温度控制，特别是冷藏含有的起始原料的反应气体贮存器。