公开(公告)号：WO2002067286A2

公开(公告)日：2002-08-29

申请号：PCT/EP2002/001553

申请日：2002-02-14

Applicant: LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  ROSE, Harald ,  PREIKSZAS, Dirk ,  HARTEL, Peter

Inventor： ROSE, Harald ,  PREIKSZAS, Dirk ,  HARTEL, Peter

IPC: H01J37/05

CPC classification number: H01J37/153

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Teilchenstrahlsystem mit einer Teilchenquelle (1), einem Spiegelkorrektor (9, 21-25) und einem Objektiv (16). Der Spiegelkorrektor weist dabei einen elektrostatischen Spiegel (9) und im Strahlengang zwischen der Teilchenquelle (1) und dem elektrostatischen Spiegel (9) sowie zwischen dem elektrostatischen Spiegel (9) und dem Objektiv (16) einen magnetischen Strahlumlenker (21, 22, 23, 24, 25) auf. Der magnetische Strahlumlenker (21, 22, 23, 24, 25) ist für jeweils einfachen Durchgang dispersionsfrei. Weiterhin weist der magnetische Strahlumlenker (21, 22, 23, 24, 25) Quadrupole und/oder Quadrupolkomponenten auf, die derart bestimmt sind, dass auf dem gesamten Bahnverlauf zwischen dem erstmaligen Austritt aus dem magnetischen Strahlumlenker (21, 22, 23, 24, 25) und dem Objektiv (16) maximal zwei zur Beugungsebene (28) des Objektivs (16) konjugierte Ebenen auftreten.

Abstract translation: 本发明涉及包括粒子源（1），镜校正器（9,21-25）和透镜（16）的粒子束系统。 镜校正器具有在这种情况下的静电镜（9）和在粒子源（1）与静电反射镜之间的光路（9），以及所述静电镜（9）和所述透镜（16）包括一磁性光束偏转器（21，22，23之间， 24，25）。 磁束偏转器（21,22,23,24,25）对于每次单程不分散。 此外，磁束偏转器（21，22，23，24，25）四极和/或四极组件，这些组件被确定为使得（在第一出口之间的整个轨迹从磁性光束偏转器21，22，23，24， （16）共轭平面的衍射面（28）和物镜（16）中的最大值为2。

公开(公告)号：WO2003052790A2

公开(公告)日：2003-06-26

申请号：PCT/DE2002/004327

申请日：2002-11-26

Applicant: CEOS CORRECTED ELECTRON OPTICAL SYSTEMS GMBH ,  LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  UHLEMANN, Stephan ,  HAIDER, Maximilan ,  MÜLLER, Heiko

Inventor： UHLEMANN, Stephan ,  HAIDER, Maximilan ,  MÜLLER, Heiko

IPC: H01J37/145

CPC classification number: H01J37/153 ,  H01J37/145 ,  H01J2237/3175

Abstract: Beschrieben wird eine Linsenanordnung mit lateral verschiebbarer optischer Achse für Teilchenstrahlen, insbesondere zur Übertragung von Bereichen einer Gegenstandsebene in die Bildebene mittels Elektronen, mit einer kombinierten Linse, welche aus einer Zylinderlinse und einer Quadrupollinse besteht, die mit elektrischen und/oder magnetischen Feldern beaufschlagbare Schlitzblenden aufweisen. Dabei ist die optische Achse der Quadrupollinse parallel zur Achse der Zylinderlinse orientiert und definiert die optische Achse der Abbildung, wobei deren Position relativ zur Achse der Zylinderlinse änderbar ist. Die Fokussierung der Quadrupollinse erfolgt in dem Schnitt, in welchem die Zylinderlinse ohne Fokussierung ist, und die Defokussierung der Quadrupollinse in dem Schnitt, in welchem die Zylinderlinse fokussiert. Erfindungsgemäss ist vorgesehen, dass die kombinierte Linse als Immersionslinse zur Abbildung von Sekundärelektronen betreibbar ist, das Immersionsfeld in axialer Richtung aus wenigstens zwei aneinunder angrenzenden Feldern besteht, wobei das erste Feld zwischen Objekt und erster Schlitzblende, das zweite Feld zwischen erster und zweiter Schlitzblende anliegt und beide Felder unabhängig von einander einstellbar sind. Gemäss Vorschlag wird weiterhin die Potentialdifferenz zwischen Objekt und erster Blende relativ zu der zwischen erster und zweiter Blende vergleichsweise klein und der Potentialverlauf zwischen Objekt und erster Blende näherungsweise linear vorgegeben. Die fokussierende/defokussierende Wirkung der kombinierten Linse ergibt sich aus der Überlagerung des Immersionsfeldes, des Zylinderlinsenfeldes und des Quadrupolfeldes. Eine Variante der vorgeschlagenen Linsenanordnung ist zum Einsatz als Kathodenlinse für eine Photokathode mit mehreren gleichartigen, nebeneinanderliegenden Emissionsbereichen vorgesehen.

Abstract translation: 本发明公开了具有透镜组件，用于粒子束一个可横向移动的光轴，特别是用于传输的物面的区域由电子装置到图像平面中，具有组合的透镜，它由一个柱面透镜和一个四极透镜的具有电和/或磁场可以在狭缝光阑被作用 ， 四极的光轴取向平行于柱面透镜的轴和限定所述图像的光轴，其位置是相对于所述柱面透镜的轴可变的。 该四极透镜的聚焦发生在其中气缸镜头未聚焦的部分的地方，并聚焦在四极杆的散焦部分中，其中所述柱面透镜。 根据本发明，提供的是所述组合透镜可操作为浸没透镜为二次电子的成像，浸渍箱是在从至少两个aneinunder相邻场，第一场中的对象和第一狭缝光阑，第一和第二狭缝光阑之间的第二场之间存在轴线方向存在，并且 这两个字段是相互独立可调的。 根据该提案，目的和第一相对于第一和第二相对较小，并且在物体和第一孔之间的电势分布之间的孔径光阑之间的电位差被进一步限定近似线性的。 将合并的透镜的聚焦/散焦效应是由浸渍箱，气缸透镜场和四极场的叠加给出。 所提出的透镜组件的一种变型的目的是用作阴极透镜，用于与多个类似的相邻发光区的光电阴极。

公开(公告)号：WO02067286A3

公开(公告)日：2002-11-07

申请号：PCT/EP0201553

申请日：2002-02-14

Applicant: LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  ROSE HARALD ,  PREIKSZAS DIRK ,  HARTEL PETER

Inventor： ROSE HARALD ,  PREIKSZAS DIRK ,  HARTEL PETER

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  H01J37/05

CPC classification number: H01J37/153

Abstract: The invention relates to a particle beam system comprising a particle source (1), a mirror corrector (9, 21-25), and an objective (16). The mirror corrector comprises an electrostatic mirror (9) and a magnetic beam deflector (21, 22, 23, 24, 25), which is arranged between the particle source (1) and the electrostatic mirror (9) as well as between the electrostatic mirror (9) and the objective (16). The magnetic beam deflector (21, 22, 23, 24, 25) is free from dispersions for each single pass. The magnetic beam deflector (21, 22, 23, 24, 25) also comprises quadrupoles and/or quadrupole components, which are provided in such a manner that a maximum of two planes, which are conjugated with regard to the diffraction plane (28) of the objective (16), occur on the entire path length between the first outlet from the magnetic beam deflector (21, 22, 23, 24, 25) and from the objective (16).

Abstract translation: 本发明涉及一种具有粒子源（1），反射镜校正器（9，21-25）和透镜（16）的粒子射线系统。 镜校正器具有在这种情况下的静电镜（9）和在粒子源（1）与静电反射镜之间的光路（9），以及所述静电镜（9）和所述透镜（16）包括一磁性光束偏转器（21，22，23之间， 24，25）。 磁性光束偏转器（21，22，23，24，25）是从分散液游离在每种情况下单次通过。 此外，磁束偏转器（21，22，23，24，25）四极和/或四极组件，这些组件被确定为使得（在第一出口之间的整个轨迹从磁性光束偏转器21，22，23，24， 最多两个（以衍射平面28）的透镜（16）的共轭平面发生25）和所述透镜（16）。

公开(公告)号：WO2004006013A1

公开(公告)日：2004-01-15

申请号：PCT/EP2003/007401

申请日：2003-07-09

Applicant: CARL ZEISS MICROELECTRONIC SYSTEMS GMBH ,  LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  ENGEL, Thomas ,  HARNISCH, Wolfgang ,  HOFFROGGE, Peter ,  ZIBOLD, Axel

Inventor： ENGEL, Thomas ,  HARNISCH, Wolfgang ,  HOFFROGGE, Peter ,  ZIBOLD, Axel

IPC: G03F1/00

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/84

Abstract: Anordnung und Verfahren zur Herstellung von Photomasken, wobei mindestens ein Defektkontrollsystem über eine stehende Datenverbindung oder on-line Verbindung mit mindestens einem Reparatursystem verbunden ist und das Defektkontrollsystem und das Reparatursystem datenmässig so miteinander verbunden sind, dass die auf einem der Systeme gewonnen Ergebnisse auf dem anderen System zur Weiterverarbeitung unmittelbar zur Verfügung stehen, wobei das Defektkontrollsystem über eine Datenverbindung zum Datenaustausch ermittelte Defekte an das Reparatursystem weiterleitet, das den Reparaturvorgang anhand der ermittelten Defekte steuert, wobei vorteilhaft ein AIMS System als Defektkontrollsystem und ein Elektronenstrahlsystem zur Defektkontrolle vorgesehen ist.

Abstract translation: 装置和方法，用于在一个固定的数据连接或在线连接制备光掩模，其中至少一个缺陷的缺陷检查系统被连接到至少一个修复系统和缺陷检测系统中，修复系统中的数据连接到彼此，使得获得了在另一方的系统的结果的一个 系统可用于进一步的处理直接，其中，通过用于数据交换的转发到修复系统，其控制检测到的缺陷，这有利地提供了一种用于AIMS系统作为缺陷检查系统和电子束系统的缺陷检查的基础上，在修复过程的数据连接检测到的缺陷检测系统的缺陷。

公开(公告)号：WO03052790A3

公开(公告)日：2003-10-16

申请号：PCT/DE0204327

申请日：2002-11-26

Applicant: CEOS GMBH ,  LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  UHLEMANN STEPHAN ,  HAIDER MAXIMILAN ,  MUELLER HEIKO

Inventor： UHLEMANN STEPHAN ,  HAIDER MAXIMILAN ,  MUELLER HEIKO

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/065 ,  H01J37/073 ,  H01J37/12 ,  H01J37/145 ,  H01J37/153 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/153 ,  H01J37/145 ,  H01J2237/3175

Abstract: Disclosed is a lens array having a laterally movable axis for corpuscular rays, particularly for transmission from areas of an object surface onto the focal plane by means of electrons. The inventive array consists of a combined lens comprising a cylinder lens and a quadrupole lens provided with slit diaphragms which can be impinged upon by electric and/or magnetic fields. The optical axis of the quadrupole lens is oriented parallel to the axis of the cylinder lens and defines the optical axis of the projection, the position of which can be altered in relation to the axis of the cylinder lens. The quadrupole lens is in focus in the sector in which the cylinder lens is not in focus and is out of focus in the section in which the cylinder lens is in focus. The inventive combined lens can be operated as an immersion lens for projecting secondary electrons. The immersion field consists of at least two adjacent axially aligned fields. The first field lies between the object and the first slit diaphragm, and the second field lies between the first slit diaphragm and the second slit diaphragm. Both fields can be focused independently from each other. The potential difference between the object and the first diaphragm is comparatively small in relation to the potential difference between the first diaphragm and the second diaphragm, and the potential course between the object and the first diaphragm has to be approximately linear. The combined lens is brought into/out of focus by superposing the immersion field, the cylinder lens field, and the quadrupole field. Alternatively, the lens array can be used as a cathode lens for a photocathode with several homogenous adjacent emission areas.

Abstract translation: 本发明公开了具有透镜组件，用于粒子束一个可横向移动的光轴，特别是用于传输的物面的区域由电子装置到图像平面中，具有组合的透镜，它由一个柱面透镜和一个四极透镜的具有电和/或磁场可以在狭缝光阑被作用 ， 四极的光轴取向平行于柱面透镜的轴和限定所述图像的光轴，其位置是相对于所述柱面透镜的轴可变的。 该四极透镜的聚焦发生在其中气缸镜头未聚焦的部分的地方，并聚焦在四极杆的散焦部分中，其中所述柱面透镜。 根据本发明，提供的是所述组合透镜可操作为浸没透镜为二次电子的成像，浸渍箱是在从至少两个aneinunder相邻场，第一场中的对象和第一狭缝光阑，第一和第二狭缝光阑之间的第二场之间存在轴线方向存在，并且 两个领域都是独立可调的。 根据该提案，目的和第一相对于第一和第二相对较小，并且在物体和第一孔之间的电势分布之间的孔径光阑之间的电位差被进一步限定近似线性的。 组合透镜的聚焦/散焦效应由浸没场，柱面透镜场和四极场的叠加产生。 所提出的透镜装置的变体旨在用作具有多个相同的相邻发射区域的光电阴极的阴极透镜。

公开(公告)号：WO2003071578A3

公开(公告)日：2003-08-28

申请号：PCT/EP2003/001923

申请日：2003-02-25

Applicant: LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  NAWOTEC GMBH ,  KOOPS, Hans, W., P. ,  HOFFROGGE, Peter

Inventor： KOOPS, Hans, W., P. ,  HOFFROGGE, Peter

IPC: H01J37/305

Abstract: Es wird ein Materialbearbeitungssystem zur Bearbeitung eines Werkstücks (3) vorgeschlagen. Die Materialbearbeitung erfolgt durch Zuführung eines Reaktionsgases und energetischer Strahlung zur Anregung des Reaktionsgases in eine Umgebung eines zu bearbeitenden Ortes des Werkstücks. Die Strahlung wird vorzugsweise durch ein Elektronenmikroskop (15) bereitgestellt. Eine Objektivlinse (27) des Elektronenmikroskops liegt vorzugsweise zwischen einem Detektor (41) desselben und dem Werkstück. Eine Gaszuführungsanordnung (53) des Materialbearbeitungssystems weist ein mit Abstand von dem Bearbeitungsort angeordnetes Ventil auf, wobei ein Gasvolumen zwischen dem Ventil und einem Austrittsort (59) des Reaktionsgases klein ist. Die Gaszuführungsanordnung weist ferner ein temperiertes, insbesondere gekühltes Reservoir zur Aufnahme eines Ausgangsmaterials für das Reaktionsgas auf.

公开(公告)号：WO03071578A2

公开(公告)日：2003-08-28

申请号：PCT/EP0301923

申请日：2003-02-25

Applicant: LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  NAWOTEC GMBH ,  KOOPS HANS W P ,  HOFFROGGE PETER

Inventor： KOOPS HANS W P ,  HOFFROGGE PETER

IPC: H01J37/18 ,  H01J37/30 ,  H01J37/305 ,  H01J37/301

CPC classification number: H01J37/18 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/162 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/31744

Abstract: The invention relates to a material treating system for treating a work piece (3). The material treatment is carried out by supplying a reaction gas and energetic radiation to induce the reaction gas in a surrounding of a section of the work piece to be treated. The radiation is preferably provided by an electron microscope (15). An objective lens (27) of the electron microscope is disposed preferably between a detector (41) thereof and the work piece. A gas supply system (53) of the material treating system is provided with a valve disposed at a distance from the treating section, and a gas volume between the valve and a location of emergence (59) of the reaction gas is small. The gas supply system is further provided with a temperature-adjusted, especially cooled reservoir for receiving a starting material for the reaction gas.

Abstract translation: 提出了一种用于处理工件的材料处理系统。3 材料处理通过供给反应气体和能量辐射来激发反应气体中的位置的附近的工件的待加工进行。 的辐射优选地由电子显微镜第十五提供 在电子显微镜的物镜27，优选为检测器41，并且在同一工件之间。 该材料处理系统的气体供应装置53包括一个设置在从加工现场阀，其特征在于，气体的阀和反应气体的出口59的点之间的体积是小的距离。 气体供给装置还包括一个温度控制，特别是冷藏含有的起始原料的反应气体贮存器。