公开(公告)号：WO2018197823A1

公开(公告)日：2018-11-01

申请号：PCT/FR2018/051077

申请日：2018-04-27

Applicant: SAINT-GOBAIN COATING SOLUTIONS

Inventor： MAGDENKO-SAVOUREY, Liubov ,  BILLIERES, Dominique ,  MATEUS, Crisalia ,  MARLIN, Samuel

IPC: C23C14/00 ,  C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  H01J37/34 ,  C03C17/00

Abstract: Cible de pulvérisation cathodique constituée d'une part d'un oxyde d'au moins un élément choisi dans le groupe du titane, du silicium, du zirconium et d'autre part de particules d'un métal compris dans le groupe constitué par l'argent, l'or, le platine, le cuivre et le nickel ou des particules d'un alliage constitué d'au moins deux de ces métaux, le rapport atomique M/Me dans ladite cible étant inférieur à 1,5, M représentant l'ensemble des atomes des éléments dudit groupe du titane, du silicium, du zirconium présents dans ladite couche et Me représentant l'ensemble des atomes des métaux du groupe constitué par l'argent, l'or, le platine, le cuivre et le nickel présents dans ladite couche.

公开(公告)号：WO2010116111A1

公开(公告)日：2010-10-14

申请号：PCT/FR2010/050703

申请日：2010-04-12

Applicant: SAINT-GOBAIN COATING SOLUTIONS ,  BILLIERES, Dominique

Inventor： BILLIERES, Dominique

IPC: C23C4/12

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C23C4/067 ,  C23C4/08 ,  C23C4/137 ,  C23C14/0682 ,  C23C14/185

Abstract: Cible d'épaisseur nominale (e), comprenant au moins un composé à base de molybdène, caractérisée en ce qu'elle présente : -une microstructure lamellaire, - un taux d'oxygène inférieur à 1000 ppm, préférentiellement inférieur à 600 ppm, et de manière encore plus préférentielle inférieur à 450 ppm - une résistivité électrique inférieure à 5 fois, de préférence 3 fois, de préférence encore à 2 fois la résistivité électrique théorique du composé.

Abstract translation: 本发明涉及标称厚度的靶，其包含至少一种基于钼的化合物，所述靶的特征在于其具有层状微结构，氧速率低于1000ppm，优选低于600ppm，特别优选低于 450ppm，电阻小于化合物的理论电阻的5倍，优选3倍，特别优选为理论电阻的两倍。

公开(公告)号：WO2010116112A3

公开(公告)日：2011-03-10

申请号：PCT/FR2010050704

申请日：2010-04-12

Applicant: SAINT GOBAIN COATING SOLUTIONS ,  BILLIERES DOMINIQUE

Inventor： BILLIERES DOMINIQUE

IPC: C23C14/34 ,  B05B7/22 ,  C22C27/04 ,  C23C4/08 ,  C23C4/12 ,  C23C14/18 ,  H05H1/26

CPC classification number: B22F7/08 ,  B22F3/115 ,  B22F2998/00 ,  B22F2999/00 ,  C23C4/08 ,  C23C4/11 ,  C23C4/134 ,  C23C4/137 ,  C23C14/3414 ,  H01J37/3429 ,  H01J37/3491 ,  H01L31/022425 ,  Y02E10/50 ,  Y02T50/67 ,  B22F2201/00 ,  B22F2202/13 ,  B22F2202/03 ,  B22F2301/20 ,  B22F2304/10 ,  B22F1/0014

Abstract: The invention relates to a method for producing a target by means of thermal projection, especially by plasma projection, said target comprising at least one compound selected from refractive metals, resistive oxides, and volatile oxides. The method is characterised in that at least a fraction of said compound in the form of a powder composition of the compound is projected by thermal projection onto at least part of the surface of the target, under a controlled atmosphere, and powerful cryogenic cooling jets directed towards the target during its construction are used.

Abstract translation: 本发明涉及通过热投影，特别是通过等离子体投影来生产靶的方法，所述靶包括至少一种选自折射金属，电阻氧化物和挥发性氧化物的化合物。 该方法的特征在于，所述化合物的粉末组合物形式的所述化合物的至少一部分在受控的气氛下通过热投影投射到靶的至少部分表面上，并且强有力的低温冷却射流 在施工期间向目标使用。

公开(公告)号：WO2010116112A2

公开(公告)日：2010-10-14

申请号：PCT/FR2010/050704

申请日：2010-04-12

Applicant: SAINT-GOBAIN COATING SOLUTIONS ,  BILLIERES, Dominique

Inventor： BILLIERES, Dominique

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/18 ,  C23C4/08 ,  C23C4/12 ,  C22C27/04 ,  H05H1/26 ,  B05B7/22

CPC classification number: B22F7/08 ,  B22F3/115 ,  B22F2998/00 ,  B22F2999/00 ,  C23C4/08 ,  C23C4/11 ,  C23C4/134 ,  C23C4/137 ,  C23C14/3414 ,  H01J37/3429 ,  H01J37/3491 ,  H01L31/022425 ,  Y02E10/50 ,  Y02T50/67 ,  B22F2201/00 ,  B22F2202/13 ,  B22F2202/03 ,  B22F2301/20 ,  B22F2304/10 ,  B22F1/0014

Abstract: Procédé de réalisation d'une cible par projection thermique, notamment par projection plasma, ladite cible comprenant au moins un composé choisi par les métaux réfractaires, les oxydes résistifs, les oxydes volatils caractérisé en ce qu'on projette par projection thermique sur au moins une portion de surface de la cible, au moins une fraction dudit composé sous forme d'une composition de poudre dudit composé, sous atmosphère contrôlée, et en ce qu'on utilise des jets refroidisseurs cryogéniques puissants dirigés vers la cible pendant sa construction.

Abstract translation: 本发明涉及通过热投影，特别是通过等离子体投影来生产靶的方法，所述靶包括至少一种选自折射金属，电阻氧化物和挥发性氧化物的化合物。 该方法的特征在于，所述化合物的粉末组合物形式的至少一部分所述化合物在受控的气氛下通过热投影投射到靶的至少部分表面上，并且强有力的低温冷却射流 在施工期间向目标使用。