公开(公告)号：WO2009059193A1

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：PCT/US2008/082070

申请日：2008-10-31

Applicant: THE TRUSTEES OF COLUMBIA UNIVERSITY IN THE CITY OF NEW YORK ,  RYU, Sunmin ,  BRUS, Louis, E. ,  STEIGERWALD, Michael, L. ,  LIU, Haitao

Inventor： RYU, Sunmin ,  BRUS, Louis, E. ,  STEIGERWALD, Michael, L. ,  LIU, Haitao

IPC: C01B31/04 ,  C09C1/56

CPC classification number: B82Y40/00 ,  B01J19/085 ,  B01J2219/0879 ,  B82Y30/00 ,  C01B32/19 ,  C01B32/194 ,  C01B2204/02 ,  C01P2002/82 ,  C01P2004/20 ,  C09C1/44

Abstract: Systems and methods are disclosed herein for forming defects on graphitic materials. The methods for forming defects include applying a radiation reactive material on a graphitic material, irradiating the applied radiation reactive material to produce a reactive species, and permitting the reactive species to react with the graphitic material to form defects. Additionally, disclosed are methods for removing defects on graphitic materials.

Abstract translation: 本文公开了在石墨材料上形成缺陷的系统和方法。 用于形成缺陷的方法包括在石墨材料上施加辐射反应性材料，照射施加的辐射反应性材料以产生反应性物质，并允许反应性物质与石墨材料反应以形成缺陷。 此外，公开了用于去除石墨材料上的缺陷的方法。

公开(公告)号：WO2008097333A2

公开(公告)日：2008-08-14

申请号：PCT/US2007/072858

申请日：2007-07-05

Applicant: THE TRUSTEES OF COLUMBIA UNIVERSITY IN THE CITY OF NEW YORK ,  BRUS, Louis, Eugene ,  STEIGERWALD, Michael, Louis ,  WALTER, Erich

Inventor： BRUS, Louis, Eugene ,  STEIGERWALD, Michael, Louis ,  WALTER, Erich

IPC: C01B31/04

CPC classification number: B82Y40/00 ,  B82Y30/00 ,  C01B32/162 ,  C01B32/17

Abstract: The disclosed subject matter provides techniques for the controllable low temperature fabrication of graphitic carbon. The disclosed subject matter also provides a chemical process using commercially available hydrocarbon for the preparation of graphitic carbon, including carbon nanotubes and sheets.

Abstract translation: 所公开的主题提供了用于石墨碳的可控低温制造的技术。 所公开的主题还提供使用市售可得的碳氢化合物制备石墨碳的化学方法，包括碳纳米管和片材。

公开(公告)号：WO2007067313A2

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：PCT/US2006/044388

申请日：2006-11-15

Applicant: ALIS CORPORATION ,  WARD, Billy, W. ,  NOTTE IV, John A. ,  FARKAS, Louis, S. III ,  PERCIVAL, Randall G. ,  HILL, Raymond ,  MANTZ, Ulrich ,  STEIGERWALD, Michael

Inventor： WARD, Billy, W. ,  NOTTE IV, John A. ,  FARKAS, Louis, S. III ,  PERCIVAL, Randall G. ,  HILL, Raymond ,  MANTZ, Ulrich ,  STEIGERWALD, Michael

IPC: H01J9/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/28 ,  H01J37/252 ,  H01J37/305 ,  H01J37/317 ,  B81B1/00 ,  G01N23/225 ,  G12B21/02 ,  H01J27/26

CPC classification number: H01J9/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/20 ,  H01J37/252 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3056 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/20264 ,  H01J2237/2566 ,  H01J2237/2623 ,  H01J2237/2812 ,  H01J2237/30438 ,  H01J2237/30477 ,  H01J2237/31737 ,  H01J2237/3174 ,  H01J2237/31755

Abstract: Ion sources, systems and methods are disclosed.

公开(公告)号：WO2009077450A2

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：PCT/EP2008/067419

申请日：2008-12-12

Applicant: CARL ZEISS NTS GMBH ,  PREIKSZAS, Dirk ,  STEIGERWALD, Michael ,  ACKERMANN, Jörg

Inventor： PREIKSZAS, Dirk ,  STEIGERWALD, Michael ,  ACKERMANN, Jörg

CPC classification number: H01J37/026 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/30488

Abstract: Methods are disclosed that include exposing, in direct succession, portions of a surface of a sample to a charged particle beam, the portions of the surface of the sample forming a row in a first direction, the charged particle beam having an average spot size f at the surface of the sample, each portion being spaced from its neighboring portions by a distance of at least d in the first direction, and a ratio d/f being 2 or more.

Abstract translation: 公开了一些方法，其包括将样本的表面的一部分直接连续地暴露于带电粒子束，样本表面的部分在第一方向上形成一排，带电的 在样本表面处具有平均光斑尺寸f的粒子束，每个部分与其相邻部分在第一方向上间隔至少d 1，并且 比率d / f为2或更大。

公开(公告)号：WO2007067313A3

公开(公告)日：2007-09-07

申请号：PCT/US2006044388

申请日：2006-11-15

Applicant: ALIS CORP ,  WARD BILLY W ,  NOTTE IV JOHN A ,  FARKAS III LOUIS S ,  PERCIVAL RANDALL G ,  HILL RAYMOND ,  MANTZ ULRICH ,  STEIGERWALD MICHAEL

Inventor： WARD BILLY W ,  NOTTE IV JOHN A ,  FARKAS III LOUIS S ,  PERCIVAL RANDALL G ,  HILL RAYMOND ,  MANTZ ULRICH ,  STEIGERWALD MICHAEL

IPC: H01J9/02 ,  B81B1/00 ,  G01N23/225 ,  G12B21/02 ,  H01J27/26 ,  H01J37/08 ,  H01J37/252 ,  H01J37/28 ,  H01J37/305 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J9/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/20 ,  H01J37/252 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3056 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/20264 ,  H01J2237/2566 ,  H01J2237/2623 ,  H01J2237/2812 ,  H01J2237/30438 ,  H01J2237/30477 ,  H01J2237/31737 ,  H01J2237/3174 ,  H01J2237/31755

Abstract: Ion sources, systems and methods are disclosed.

公开(公告)号：WO2009077450A3

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：PCT/EP2008067419

申请日：2008-12-12

Applicant: ZEISS CARL NTS GMBH ,  PREIKSZAS DIRK ,  STEIGERWALD MICHAEL ,  ACKERMANN JOERG

Inventor： PREIKSZAS DIRK ,  STEIGERWALD MICHAEL ,  ACKERMANN JOERG

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/02 ,  H01J37/302 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/026 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/30488

Abstract: Methods are disclosed that include exposing, in direct succession, portions of a surface of a sample to a charged particle beam, the portions of the surface of the sample forming a row in a first direction, the charged particle beam having an average spot size f at the surface of the sample, each portion being spaced from its neighboring portions by a distance of at least d in the first direction, and a ratio d/f being 2 or more.

Abstract translation: 公开的方法包括将样品的表面的一部分直接暴露于带电粒子束，样品的表面部分在第一方向上形成一行，带电粒子束具有平均斑点大小f 在样品的表面，每个部分与其相邻部分间隔至少在第一方向上的d，d / f的比例为2或更大。

公开(公告)号：WO2004085427A1

公开(公告)日：2004-10-07

申请号：PCT/EP2004/002894

申请日：2004-03-19

Applicant: BOEHRINGER INGELHEIM INTERNATIONAL GMBH ,  BOEHRINGER INGELHEIM PHARMA GMBH & CO. KG ,  KLINGLER, Franz, Dietrich ,  STEIGERWALD, Michael ,  EHLENZ, Richard

Inventor： KLINGLER, Franz, Dietrich ,  STEIGERWALD, Michael ,  EHLENZ, Richard

IPC: C07D405/12

CPC classification number: C07D405/12 ,  C07D309/32

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung der Verbindungen der allgemeinen Formel (I) durch enantioselektive Hydrierung der Verbindungen der Formel (II) in Gegenwart von speziellen Hydrierungskatalysatoren. Die Erfindung zeichnet sich durch eine hohe Enantioselektivität aus, wodurch der einfache Zugang zu einer Substanzklasse wichtiger Arzneimittel möglich wird.

Abstract translation: 本发明涉及一种通过在特定的加氢催化剂的存在下使化合物式（II）的对映选择性氢化制备通式（I）的化合物。 本发明的特征在于一个高对映选择性，使得一类重要的药物的简单的访问是可能的。

公开(公告)号：WO2008097333A3

公开(公告)日：2008-11-27

申请号：PCT/US2007072858

申请日：2007-07-05

Applicant: UNIV COLUMBIA ,  BRUS LOUIS EUGENE ,  STEIGERWALD MICHAEL LOUIS ,  WALTER ERICH

Inventor： BRUS LOUIS EUGENE ,  STEIGERWALD MICHAEL LOUIS ,  WALTER ERICH

IPC: C01B31/04

CPC classification number: B82Y40/00 ,  B82Y30/00 ,  C01B32/162 ,  C01B32/17

Abstract: The disclosed subject matter provides techniques for the controllable low temperature fabrication of graphitic carbon. The disclosed subject matter also provides a chemical process using commercially available hydrocarbon for the preparation of graphitic carbon, including carbon nanotubes and sheets.

Abstract translation: 公开的主题提供了可控低温制造石墨碳的技术。 所公开的主题还提供了使用市售的碳氢化合物来制备包括碳纳米管和片材在内的石墨碳的化学方法。