Abstract:
The invention relates to a memory element, to stacking, and to a memory matrix in which said memory element can be used, to a method for operating the memory matrix, and to a method for determining the truth value of a logic operation in an array composed of the memory elements. The memory element has at least one first stable state 0 and a second stable state 1. By applying a first write voltage V0, said memory element can be transferred into the high-impedance state 0 and by applying a second write voltage V1, it can be transferred into the likewise high-impedance state 1. By applying a read voltage VR, the amount of which is smaller than the write voltages V0 and V1, the memory element exhibits different electrical resistance values. In the parasitic current paths occurring in a memory matrix, the memory element acts as a high-impedance resistor, without in principle being limited to unipolar switching. A method has been developed, with which an array composed of the memory elements according to the invention can be turned into a gate for arbitrary logic operations.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Speicherelement, eine Stapelung und eine Speichermatrix, in denen dieses Speicherelement einsetzbar ist, Verfahren zum Betreiben der Speichermatrix sowie Verfahren zur Bestimmung des Wahrheitswerts einer logischen Verknüpfung in einer Anordnung aus den Speicherelementen. Das Speicherelement weist mindestens einen ersten stabilen Zustand 0 und einen zweiten stabilen Zustand 1 auf. Durch Anlegen einer ersten Schreibspannung V 0 lässt sich dieses Speicherelement in den hochohmigen Zustand 0 und durch Anlegen einer zweiten Schreibspannung V 1 in den ebenfalls hochohmigen Zustand 1 überführen. Bei Anlegen einer Auslesespannung V R , welche betragsmäßig kleiner ist als die Schreibspannungen V 0 und V 1 , zeigt das Speicherelement unterschiedliche elektrische Widerstandswerte. Das Speicherelement fungiert in den in einer Speichermatrix auftretenden parasitären Strompfaden als hochohmiger Widerstand, ohne dabei prinzipiell auf unipolares Schalten eingeschränkt zu sein. Es wurde ein Verfahren entwickelt, mit dem eine Anordnung aus den erfindungsgemäßen Speicherelementen zu einem Gatter für beliebige logische Verknüpfungen gemacht werden kann.
Abstract:
Im Rahmen der Erfindung wurde ein Verfahren zum Auslesen eines Speicherelements, welches eine Serienschaltung von mindestens zwei Speicherzellen A und B aufweist, entwickelt. Dabei haben die Speicherzellen A und B jeweils einen stabilen Zustand A0 bzw. B0 mit höherem Widerstand und einen stabilen Zustand A1 bzw. B1 mit geringerem elektrischem Widerstand. Bei dem Verfahren wird eine elektrische Größe der Reihenschaltung gemessen. Erfindungsgemäß wird für diese Messung eine elektrische Größe gewählt, zu der die Speicherzelle A im Zustand A0 einen anderen Beitrag leistet als die Speicherzelle B im Zustand B0 und/oder zu der die Speicherzelle A im Zustand A1 einen anderen Beitrag leistet als die Speicherzelle B im Zustand B1. Es wurde erkannt, dass die beiden Zustandskombinationen A1 und B0 bzw. A0 und B1 dann zu unterschiedlichen Werten für die über die Reihenschaltung gemessene elektrische Größe führen. Somit können diese Zustandskombinationen voneinander unterschieden werden, ohne dass der logische Zustand des Speicherelementes beim Lesen verändert werden muss.
Abstract:
The invention relates to a force sensor based on an organic field effect transistor (10) that is applied to a substrate (1; 11). According to the invention, a mechanical force that acts on the transistor causes a corresponding modification of the source-drain voltage or the source-drain current (ID), whereby said modification can be respectively detected as a measured variable (Vmess, Imess) for the exerted force. The invention also relates to a membrane-based pressure sensor that uses a force sensor of this type, to a one- or two-dimensional position sensor that uses a plurality of force sensors of this type and to a fingerprint sensor that uses a plurality of force sensors of this type.
Abstract:
Die Erfindung betrifft einen Kraftsensor auf der Basis eines auf einem Substrat (1; 11) aufgebrachten organischen Feldeffekttransistors (10), bei dem eine auf den Transistor einwirkende mechanische Kraft eine dieser Kraft entsprechende Änderung seiner Source-Drain-Spannung oder seines Source-Drain-Stroms (I D ) verursacht, die jeweils als Messgröße (V mess , I mess ) für die einwirkende Kraft erfassbar sind, einen einen derartigen Kraftsensor verwendenden membranbasierten Drucksensor, einen eine Vielzahl derartiger Kraftsensoren verwendenden ein- oder zweidimensionalen Positionssensor und einen eine Vielzahl solcher Kraftsensoren verwendenden Fingerabdrucksensor.
Abstract:
The invention relates to a method for producing a crystallized ceramic layer by means of laser annealing, whereby: a generating device (10), which has at least one pulse laser (22), generates a first laser beam (16) and a second laser beam (18) that is spatially separate therefrom; a shifting device (12) temporally shifts the second laser beam (18) with regard to the first laser beam (16); a combining device (14) combines both spatially separate laser beams (16, 18) to form an output beam (20), whereby the pulse duration of the output beam (20) is controlled by controlling the temporal shifting of the second laser beam (18) with regard to the first laser beam (16), and; the temperature profile in the ceramic layer is adjusted by controlling the pulse duration of the output beam (20). The invention also relates to a laser system which is especially developed for carrying out said method and which comprises: a generating device (10), which has at least one pulse laser (22) and which is provided for generating a first laser beam (16) and a second laser beam (18) that is spatially separate therefrom; a shifting device (12) which is provided for temporally shifting the second laser beam (18) with regard to the first laser beam (16), and comprises; a combining device (14) which is provided for combining both spatially separate laser beams (16, 18) to form an output beam (20).
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterkeramikmaterials mit einem nichtlinearen elektrischen Widerstand mit positivem Temperaturkoeffizienten vorgestellt, bei dem eine ein donatordotiertes ferroelektrisches Material mit Perowskit-Struktur und der allgemeinen Formel A x B y O 3 aufweisende Vorläufermasse in reduzierender Atmosphäre bei Temperaturen von höchstens 1200 °C gesintert wird, wobei das gesinterte Material eine mittlere Körnergröße im Submikrometerbereich aufweist. Das gesinterte Material wird anschließend an seinen Korngrenzen bei Temperaturen von höchstens 600 °C reoxidiert. Die Körnung der Vorläufermasse weist eine mittlere Primärkörnergröße im Submikrometerbereich, bevorzugt eine mittlere Primärkörnergröße von höchstens 50 nm, weiter bevorzugt von höchstens 20 nm und weiter bevorzugt von höchstens 10 nm auf. Das mit dem Verfahren hergestellte Halbleiterkeramikmaterial weist ebenfalls eine mittlere Körnergröße im Submikrometerbereich auf, bevorzugt derart, dass 80 % der Körner kleiner als 800 nm, weiter bevorzugt kleiner als 300 nm, weiter bevorzugt kleiner als 200 nm ist.
Abstract:
The invention relates to a resistive storage cell. According to the invention said resistive storage cell is a passive resistive storage cell (22) comprising a pair of two at least functionally identical resistive switching storage members (34, 36), said two resistive switching storage members (34, 36) are connected in series in a serial connection path (32) and are electrically anti-parallel orientated within the serial connection path (32). The invention further relates to a corresponding crossbar array circuit (12) comprising a plurality of said resistive storage cells (22), a corresponding resistive random access memory device (10) and a method for reading out information from a bipolar resistive storage cell.
Abstract:
The invention relates to a method for producing a semiconductor ceramic material having a non-linear electrical resistance with a positive temperature coefficient, in which a precursor mass that comprises a donor-doped, ferroelectric material having a Perovskite structure and the general formula AxByO3 is sintered in a reduced atmosphere at temperatures of not more than 1200 °C. According to the invention, the sintered material has an average grain size in the sub-micrometer range. The sintered material is then reoxidized at its grain boundaries at temperatures of not more than 600 °C. The grain size of the precursor mass has an average primary grain size in the sub-micrometer range, preferably an average primary grain size of not more than 50 nm, more preferably of not more than 20 nm and even more preferably of not more than 10 nm. The semiconductor ceramic material produced by said method has also an average grain size in the sub-micrometer range, preferably in such a way that 80% of the grains are smaller than 800 nm, more preferably smaller than 300 nm and even more preferably smaller than 200 nm.
Abstract:
The invention relates to coating solutions for producing tight mesoscopic ceramic layers, consisting of concentrated oxidic nanoparticle dispersions which are produced from humidity-sensitive precursor solutions by a hydrolysis reaction, by means of microemulsions containing cationic surfactants and optionally admixtures of organometallic CSD solutions in a proportion smaller than 50 % in relation to the metal oxide. The CSD solution is added in order to reduce the sintering temperatures required, to produce ceramic composite layers with nanoscale heterogeneity or containing dopings, using other metal combinations, and to increase the density.