公开(公告)号：WO2009084475A1

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：PCT/JP2008/073178

申请日：2008-12-19

Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  田中 久雄 ,  毛利 勇 ,  田仲 健二

Inventor： 田中 久雄 ,  毛利 勇 ,  田仲 健二

IPC: C01B21/083 ,  C01B7/24

CPC classification number: C01B7/24 ,  C01B21/0832 ,  C01B21/0835

Abstract: 　原料液体を含む混合液体を原料気体と反応させる反応領域と、前記混合液体のみが流動する流動領域と、反応後の前記混合液体を前記反応領域の上部から前記流動領域の上部へ移動させる上部移動領域と、前記混合液体を前記流動領域の下部から前記反応領域の下部へ移動させる下部移動領域とからなる循環系を形成し、(A)前記反応領域の下部に前記原料気体と、(B)前記反応領域における反応生成物である第１フッ素化気体化合物及び該第１フッ素化気体化合物をさらにフッ素化させて得られる第２フッ素化気体化合物から選ばれる少なくとも一種のフッ素化気体化合物とを導入することによって前記混合液体を循環させるフッ素化気体化合物製造装置。

Abstract translation: 一种氟化气体化合物的制造装置。 该装置包括：循环系统，其包括：反应区，其中含有原料液的液体混合物与原料气体反应; 只有液体混合物流动的流动区域; 已经经历反应的液体混合物的上转移区从反应区的上部转移到流动区的上部; 以及下部转移区域，其中液体混合物从流动区域的下部转移到反应区域的下部。 （A）原料气体被引入到反应区的下部，（B）选自在反应区中产生的作为反应产物的第一氟化气体化合物和第二氟化气体化合物之间的至少一种氟化气体化合物 将通过进一步氟化第一氟化气态化合物获得的气态化合物引入反应区的下部。 液体混合物通过这些操作（A）和（B）循环。

公开(公告)号：WO2007004409A1

公开(公告)日：2007-01-11

申请号：PCT/JP2006/312149

申请日：2006-06-16

Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  毛利 勇 ,  宮崎 達夫

Inventor： 毛利 勇 ,  宮崎 達夫

IPC: C01B21/083

CPC classification number: C01B21/0832 ,  C01B21/0835

Abstract: 　式ＮＦ x Ｌ 3-x (Ｌは、Ｆ以外のハロゲン、１≦ｘ≦３)で表されるハロゲン化窒素を合成する方法が提供される。この方法は、ＮＨ 4 Ｆ・ｎＨＦ、（ＮＨ 4 ）ｙＭＦｚ・ｍＨＦ、及びこれらの混合物のみからなる群から選択される１つであり、かつ、液状であるアンモニウム錯化合物と、インターハロゲン化合物、又はインターハロゲン化合物とＦ 2 ガスとの混合物とを反応させる工程（ａ）を含むものである。ただし、１＜ｎ、１≦ｙ≦４、２≦ｚ≦８、０．１≦ｍ、Ｍは、元素周期律表の１族から１６族の元素及びこれらの元素の混合元素のみからなる群から選択される１つを表す。

Abstract translation: 公开了由下式表示的卤代氮的合成方法：其中L表示除F以外的卤素，且1 = x = 3）。 该方法包括步骤（a），其中选自NH 4 F·nHF，（NH 4）yMFz·mHF的液态铵络合物和 其混合物与卤间化合物或间卤化合物和F 2 H 2气体的混合物反应。 在化学式中，1

公开(公告)号：WO2009072360A1

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：PCT/JP2008/069352

申请日：2008-10-24

Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  菊池 亜紀応 ,  毛利 勇

Inventor： 菊池 亜紀応 ,  毛利 勇

IPC: B01D53/14 ,  B01D53/34 ,  B01D53/68 ,  B01D53/77

CPC classification number: B01D53/68 ,  B01D53/77 ,  B01D2251/304 ,  B01D2251/306 ,  B01D2251/60 ,  B01D2257/204 ,  B01D2258/0216 ,  C01B7/0706 ,  C01B7/195

Abstract: 【課題】　本発明の課題は、ガス中のＣｌＯ 3 Ｆを除去できる安価な除去方法を提供することである。 【解決手段】　ＣｌＯ 3 Ｆを不純物として含むガスを還元剤と反応させることにより、ガス中の不純物であるＣｌＯ 3 Ｆを安価に除去することが可能となる。または、水溶液中の標準電極電位が－０．０９２Ｖ以下である還元剤を用いるか、 還元剤を水溶液の状態で反応に用いることにより、ガス中の不純物であるＣｌＯ 3 Ｆを安価に除去することが可能となる。

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种可从气体中去除ClO 3 F的廉价的去除方法。 作为杂质的气体中含有的ClO 3F可以通过使气体与还原剂反应而以低成本从气体中除去。 当在水溶液中制备还原剂时，水溶液的标准电极电位为-0.092V以下。 还原剂可以以水溶液的形式用于反应中。

公开(公告)号：WO2009113362A1

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：PCT/JP2009/052553

申请日：2009-02-16

Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  毛利 勇 ,  菊池 亜紀応

Inventor： 毛利 勇 ,  菊池 亜紀応

IPC: C01B11/24

CPC classification number: C01B11/24 ,  C01B7/24

Abstract: 含酸素ハロゲン化フッ化物の製造において気液反応を用いる製造方法が開示されている。この方法は、フッ化ハロゲンとフッ素とを含有する混合ガスと、Ｈ 2 Ｏ源とを反応させる、一般式：ＸＯ m Ｆ（但し、Ｘは前記フッ化ハロゲンを構成するハロゲン元素（Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ）を、ｍは３または４をそれぞれ表す。）で表される含酸素ハロゲン化フッ化物の製造方法である。

Abstract translation: 公开了一种使用气液反应的含氧卤代氟化物的制造方法。 具体公开的是由以下通式表示的含氧卤代氟化物的制造方法：XOmF（其中，X表示构成卤素氟化物的卤素原子（Cl，Br或I），m表示3或4），其中， 含有卤素氟和氟的混合气体与H 2 O源反应。