公开(公告)号：WO2009078443A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：PCT/JP2008/072998

申请日：2008-12-17

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01D5/12 ,  G01N21/88 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01D5/266 ,  G01N21/94 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70375 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70925

Abstract: 　露光装置は、露光光で物体を露光する。露光装置は、物体を保持して所定面内を移動可能で且つ、格子を含むスケール部材が配置される移動体と、スケール部材を用いて所定面内での移動体の位置情報を計測する計測システムと、スケール部材の表面の異物及びそのサイズに関する情報を検出する検出システムと、スケール部材をクリーニング可能なクリーニング装置とを備えている。検出システムの検出結果に応じて、スケール部材に対するクリーニング動作が実行される。

Abstract translation: 曝光装置使受试者暴露于曝光光。 曝光装置设置有通过保持被摄体在规定的表面内移动并具有包括格子的标尺构件的移动体; 测量系统，其通过使用所述刻度构件来测量所述移动体在所述规定表面内的位置信息; 检测标尺构件表面上的异物信息和标尺构件的尺寸的检测系统; 以及用于清洁刻度件的清洁装置。 根据从检测系统获得的检测结果，对标尺构件执行清洁操作。

公开(公告)号：WO2008007660A1

公开(公告)日：2008-01-17

申请号：PCT/JP2007/063721

申请日：2007-07-10

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

CPC classification number: G03F7/70716 ,  H01L21/682

Abstract: 　剛性、強度、又は平面度等の特性を殆ど低下させることなく、一層の軽量化を達成できるステージ装置である。ウエハ（Ｗ）をウエハホルダ（２５）を介して保持するウエハステージ（ＷＳＴ）をウエハベース（ＢＳ）に沿って駆動するウエハステージ系であって、ウエハホルダ（２５）を、位置計測用の測長ビーム（ＬＷＹ）を反射する反射面（５６Ｙ）を含む部分を高密度部（２５ａ）、それ以外の部分を低密度部（２５ｂ）とした密度分布が一様でない材料から形成し、ウエハステージ（ＷＳＴ）を、気体軸受けを構成する面を含む部分を高密度部（ＷＳＴａ）、それ以外の部分を低密度部（ＷＳＴｂ）とした密度分布が一様でない材料から形成する。

Abstract translation: 本发明提供一种进一步减轻重量的舞台装置，刚性，强度，平面度等几乎没有劣化。 晶片台系统驱动晶片台（WST），晶片台（WST）沿着晶片基座（BS）通过晶片保持器（25）保持晶片（W）。 晶片保持器（25）由不均匀密度的材料形成，并且包括反映用于测量位置的长度测量光束（LWY）的反射表面（56Y）的部分被允许为高密度部分（25a）， 并且除了高密度部分之外的部分被允许为低密度部分（25b）。 晶片台（WST）由具有不均匀密度的材料形成，并且包括构成气体轴承的表面的部分被允许为高密度部分（WSTa），并且其他部分被允许为低密度部分（WSTb）。

公开(公告)号：WO2007136089A1

公开(公告)日：2007-11-29

申请号：PCT/JP2007/060519

申请日：2007-05-23

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一 ,  水谷 剛之 ,  一ノ瀬 剛 ,  渋田 慎

Inventor： 柴崎 祐一 ,  水谷 剛之 ,  一ノ瀬 剛 ,  渋田 慎

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341

Abstract: 　メンテナンス方法は、光学部材２と基板Ｐとの間に液体１を供給して液浸領域を形成する液浸空間形成部材３０と、液浸空間に液体１を供給する液体供給機構１０と、基板Ｐを移動する基板ステージＰＳＴと、基準マークが形成された計測ステージＭＳＴとを備えた露光装置をメンテナンスする。液浸空間形成部材３０を洗浄するために、計測ステージＭＳＴと液浸空間形成部材３０の間に洗浄液を供給する。露光装置は、液浸空間形成部材３０を洗浄する各種の洗浄機構を備える。露光装置のメンテナンスを効率的に行いつつ液浸露光を実行できる。

Abstract translation: 一种维护方法，包括：通过在光学构件（2）和衬底（P）之间的空间中供应液体（1）来限定液浸区域的液浸空间界定构件（30）的维护方法， ，用于将液体（1）供应到液浸空间的液体供给机构（10），用于移动基板（P）的基板台（PST）以及用于移动基板的测量台（MST） 。 为了清洁液浸空间限定部件（30），将清洗液供给到测量台（MST）和液浸空间限定部件（30）之间的空间内。 曝光装置具有用于清洗液浸空间限定构件（30）的各种类型的清洁机构。 在有效地进行曝光装置的维护的同时，可以进行浸液曝光。

公开(公告)号：WO2007083758A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：PCT/JP2007/050821

申请日：2007-01-19

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00 ,  G12B5/00 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G01B11/27 ,  G01D5/26 ,  G01D5/266 ,  G01D18/002 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70975 ,  Y10T29/49826

Abstract: 　移動体（ＲＳＴ）のＹ軸方向の位置情報を、干渉計（１６ｙ）と、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ 1 ）、（２４Ｂ，２６Ｂ 1 ））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。

Abstract translation: 通过使用干涉仪（16y）和编码器（（24A，26A），（24B，26B），...）来测量移动体（RST）上的Y方向位置信息， ）与干涉仪相比具有优异的短周期稳定性，根据测量结果，执行预定的校准操作以获取用于校正编码器的测量值的校正信息，从而可以获取用于校正的校正信息 与干涉仪相比，测量值的短周期稳定性优异的编码器的测量值根据编码器的测量值和校正信息，在Y轴方向上被精确地驱动。

公开(公告)号：WO2007018127A1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：PCT/JP2006/315422

申请日：2006-08-03

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F9/7007 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70725 ,  H01L21/682

Abstract: 　ウェハステージ（ＷＳＴ）及び計測ステージ（ＭＳＴ）は、ベース盤（２１）上面に沿って移動可能に構成されており、互いに接近して一体となってＹ方向に移動することで水（Ｌｑ）の受け渡しを行う。アライメント系（４５）はウェハステージ（ＷＳＴ）と計測ステージ（ＭＳＴ）との互いに近接するエッジ部を測定し、フォーカス・レベリング検出系（６４）はウェハステージ（ＷＳＴ）及び計測ステージ（ＭＳＴ）の互いに近接した状態におけるＺ方向の段差を測定する。両ステージを近接させる場合には、これらの測定結果に基づいてウェハステージ（ＷＳＴ）と計測ステージ（ＭＳＴ）との相対位置が調整される。

Abstract translation: 晶片台（WST）和测量台（MST）可沿着基板（21）的上表面移动，并且当阶段在Y方向一起移动时，执行水的输送和接收（Lq） 对彼此。 对准系统（45）测量晶片台（WST）和测量台（MST）彼此靠近的边缘，并且聚焦/调平检测系统（64）在状态下测量Z方向上的台阶 其中晶片台（WST）和测量台（MST）彼此靠近。 当阶段彼此靠近时，根据测量结果调整晶片台（WST）和测量台（MST）的相对位置。

公开(公告)号：WO2005006416A1

公开(公告)日：2005-01-20

申请号：PCT/JP2004/010059

申请日：2004-07-08

Applicant: 株式会社ニコン ,  小野 一也 ,  柴崎 祐一

Inventor： 小野 一也 ,  柴崎 祐一

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70833

Abstract: この露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、前記投影光学系と前記液体とを介して前記基板上にパターン像を投影することによって前記基板を露光する露光装置であって、前記投影光学系は、前記液体と接する光学部材を含む第1群と、その第1群とは異なる第2群とを含み、前記第1群は、第1支持部材に支持され、前記第2群は、前記第1支持部材とは異なる第2支持部材に分離して支持される。

Abstract translation: 公开了一种曝光装置，其中通过用液体填充投影光学系统和基板之间的空间并通过投影光学系统和液体将图案图像投影到基板上来进行基板的曝光。 投影光学系统包括第一组，其包括与液体接触的光学部件，以及与第一组不同的第二组。 第一组由第一支撑构件支撑，而第二组由与第一支撑构件不同的第二支撑构件单独支撑。

公开(公告)号：WO2004090953A1

公开(公告)日：2004-10-21

申请号：PCT/JP2004/004718

申请日：2004-03-31

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70716 ,  H01L21/682

Abstract: 　ステージ（ＷＳＴ１）に接続された複数の可動子（４４Ａ～４４Ｆ）と所定の一軸方向に沿って配設された複数の固定子（４６Ａ～４６Ｆ）とを有する駆動装置（ＤＡ）により、ステージに２次元面に平行な駆動力を作用させて、ステージを２次元面内方向及び該２次元面に対する傾斜方向に駆動する。これにより、従来のように、２次元移動ステージと、該ステージ上で前記傾斜方向に移動可能なテーブルとを有する構成を採用しなくとも、ステージを２次元面内方向及び傾斜方向に移動することができるので、ステージを簡素な一体物で構成することができる。従って、２次元移動ステージとテーブルとの組み合わせに起因するテーブルの位置制御性の低下現象と同様の要因によりステージの位置制御性が低下するおそれがない。

Abstract translation: 驱动装置（DA）具有连接到台（WST1）的可移动元件（44A-44F）和沿一个预定轴向布置的固定元件（46A-46F）。 驱动装置（DA）使得工作台产生平行于二维表面的驱动力，并且在二维表面和倾斜于二维表面的方向上驱动工作台。 上述结构使得阶段可以在二维表面和倾斜表面中的方向上移动，而不像传统上那样使用具有二维移动台的结构和在倾斜方向上在台上移动的台 而舞台可以形成一个简单的整体。 因此，二维移动台和台的组合不可能降低台和台的位置控制性。

公开(公告)号：WO2003040785A1

公开(公告)日：2003-05-15

申请号：PCT/JP2002/011478

申请日：2002-11-01

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: G02B5/30

CPC classification number: G03F7/70825 ,  G02B1/02 ,  G02B7/026 ,  G02B7/028 ,  G03F7/70891

Abstract: An optical element capable of eliminating the effect of rotationally symmetrical double refraction remaining in an optical system using a double refractive crystal material such as fluorine, comprising a light transmitting member 1 and an annular member 2 having a thermal expansion coefficient different from that of the light transmitting member and disposed on the outer peripheral side of the light transmitting member, the annular member 2 further comprising an inner ring 2a fixed to the light transmitting member 2 and an outer ring 2b connected to the inner ring through connection members 2c having a flexibility in the radial direction thereof, wherein the light transmitting member is fixed to the annular member in the environment of a specified temperature different from the actual use temperature of the light transmitting member.

Abstract translation: 一种光学元件，其能够消除使用诸如氟的双折射晶体材料保留在光学系统中的旋转对称双折射的影响，包括透光构件1和具有与光的热膨胀系数不同的热膨胀系数的环形构件2 所述环状构件2还包括固定在所述透光构件2上的内圈2a和通过连接构件2c连接到所述内圈的外圈2b，所述连接构件2c具有柔性 其径向方向，其中透光构件在与透光构件的实际使用温度不同的规定温度的环境中固定到环形构件。

公开(公告)号：WO2008029884A1

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：PCT/JP2007/067426

申请日：2007-09-06

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6875 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68735 ,  Y10T29/49

Abstract: 　クリーニング用部材は、露光光が照射される露光用基板よりも小さく、露光用基板の裏面を保持する基板保持部材の少なくとも一部をクリーニングするために基板保持部材に保持される。

Abstract translation: 清洁部件小于要被曝光的照射的曝光基板，并且由基板保持部件保持以清洁保持曝光基板的后表面的基板保持部件的至少一部分。

公开(公告)号：WO2008026739A1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：PCT/JP2007/067063

申请日：2007-08-31

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01B11/30 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70975 ,  Y10T29/49002 ,  Y10T29/49105 ,  Y10T29/49826

Abstract: 　駆動装置により、ウエハステージ（ＷＳＴ）のＹ軸方向の位置情報を計測するエンコーダ（６２Ａ）の計測値とそのエンコーダによって計測されるスケール（３９Ｙ 1 ）の平面度に関する情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。この場合、駆動装置は、そのエンコーダの計測値に含まれるスケールの平面度に起因する計測誤差をスケールの平面度に関する情報に基づいて補正した補正後の計測値に基づいて、ウエハステージを所定方向に駆動することが可能である。従って、スケールの凹凸に影響を受けることなく、エンコーダを用いてウエハステージを精度良く所定方向に駆動することが可能となる。

Abstract translation: 驱动装置根据测量在Y轴方向上的晶片载台（WST）上的位置信息的编码器（62A）的测量值在Y轴方向上驱动晶片台（WST），并且关于Y轴方向的平坦度的信息 由编码器测量的刻度（39Y <1/2）。 在这种情况下，驱动装置可以根据在校正由编码器的测量值中包含的刻度的平坦度引起的测量误差所获得的测量值，在预定方向上驱动晶片台。 因此，可以通过使用编码器在规定方向上精确地驱动晶片载台而不受刻度的凸起/凹陷的影响。