Abstract:
본 발명의 일 실시예는, 150℃에서 30분간 열처리 및 가시광선에서 150시간 노광처리되기 전후의 색변환 지수(dE)가 2.5 이하인 광학 필름 및 상기 광학 필름을 포함하는 표시장치를 제공한다. 여기서, 색변환 지수(dE)는, L*C*h* 색 공간(color space)에서 측정된 색의 밝기(luminance) L*, 색의 선명도(hue angle) h* 값 및 L*u*v* 색 공간에서 측정된 색조의 성질(chroma) u*값에 따라, 다음 식 1에 의하여 계산된다. [식 1] dE = [(ΔL*)2+(Δh*)2+(Δu*)2]1/2
Abstract:
본 발명은 신규 산 이무수물, 이의 제조방법 및 이로부터 제조된 폴리이미드에 관한 것으로, 보다 상세하게는 본 발명에 따른 산 이무수물은 우수한 열적 안정성과 낮은 유전율을 나타내는 무색투명한 폴리이미드의 단위체로서 유용하며, 본 발명의 폴리이미드는 통상의 폴리이미드에 비하여 유기용매에 대한 용해특성이 우수하다.
Abstract:
본 발명은 폴리아마이드-이미드계 전구체, 전구체에 의하에 제조되는 중합체, 중합체를 포함하는 광학 필름 및 광학 필름을 포함하는 표시장치에 대한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 중합체는 균일하게 교대로 배치된 아마이드 반복단위와 이미드 반복단위를 포함하며, 이러한 중합체를 포함하는 광학 필름은 우수한 광투과성 및 낮은 황색도(Y.I)를 가질 수 있으며, 우수한 안정성을 가질 수 있다.
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본 발명은 폴리아믹산 용액 및 표시소자에 관한 것으로, 표시소자의 기재층 또는 보호층으로 사용할 수 있는 폴리아믹산 용액과 이의 이미드화막을 포함하는 표시소자에 관한 것으로, 낮은 열팽창율과 높은 열분해온도로 열적 특성이 우수하여 표시소자의 기재층 또는 보호층으로 적용될 수 있는 폴리아믹산 용액과 이로부터 형성되는 이미드화막을 포함하는 표시소자에 관한 것이다.
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본 발명은 폴리이미드계 필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 폴리이미드계 필름에 관한 것으로서, 특히 항복신율로 대변되는 휨 특성이 우수하여 플렉시블 전자기기의 커버기판으로서 유용한 폴리이미드계 필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 폴리이미드계 필름에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 폴리아믹산, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 영상 표시소자 및 폴리아믹산의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 필름은 물성이 10ppm/℃ 이하의 낮은 선형열팽창계수 및 350℃ 이상의 유리전이온도를 가지면서 황색도가 개선된 효과를 가진다.
Abstract:
본 발명은 투명 폴리아마이드-이미드 수지 및 이를 이용하는 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 무색투명하면서도 우수한 열적 안정성, 기계적 물성을 나타내고, 복굴절 특성이 개선되어 반도체 절연막, TFT-LCD 절연막, 패시베이션막, 액정배향막, 광통신용 재료, 태양전지용 보호막, 플랙시블 디스플레이 기판 등의 다양한 분야에 유용한 폴리아마이드-이미드 수지 및 이를 이용하는 필름을 제공한다.