公开(公告)号：WO2013176986A2

公开(公告)日：2013-11-28

申请号：PCT/US2013041587

申请日：2013-05-17

申请人： APPLIED MICROSTRUCTURES INC

发明人： KHOSLA MUKUL ,  GRIMES MIKE ,  KROTOV PETER ,  EPSHTEYN GENNY

IPC分类号： F17D3/00 ,  C23C16/52

CPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/4485 ,  C23C16/45561 ,  F17D3/00 ,  Y10T137/0379 ,  Y10T137/6416

摘要： A vapor delivery apparatus for providing a precursor vapor for a vapor deposition process includes a precursor container for holding a liquid or solid precursor. A first temperature control assembly maintains the precursor container at a first temperature to generate a vapor precursor from the liquid or solid precursor. An isolation valve is coupled to the precursor container, and a specific quantity of the vapor precursor is accumulated in an expansion volume. A fill valve, which is coupled to each of the isolation valve and the expansion volume, controls the flow of the vapor precursor from the precursor container into the expansion volume. A second temperature control assembly maintains the isolation valve at a second temperature greater than the first temperature.

摘要翻译： 用于提供用于气相沉积工艺的前体蒸气的蒸气输送装置包括用于保持液体或固体前体的前体容器。 第一温度控制组件将前体容器保持在第一温度以从液体或固体前体产生蒸气前体。 隔离阀联接到前体容器，并且特定量的蒸气前体在膨胀体积中积聚。 连接到每个隔离阀和膨胀体积的填充阀控制蒸气前体从前体容器进入膨胀体积的流动。 第二温度控制组件将隔离阀保持在大于第一温度的第二温度。