PROCESS FOR REDUCING THE STRUCTURING TIME OF ORDERED FILMS OF BLOCK COPOLYMER
    6.
    发明申请
    PROCESS FOR REDUCING THE STRUCTURING TIME OF ORDERED FILMS OF BLOCK COPOLYMER 审中-公开
    降低嵌段共聚物有序膜结构化时间的方法

    公开(公告)号:WO2017103062A1

    公开(公告)日:2017-06-22

    申请号:PCT/EP2016/081373

    申请日:2016-12-16

    Applicant: ARKEMA FRANCE

    CPC classification number: G03F7/0002

    Abstract: The present invention relates to a process for reducing the structuring time of ordered films of a composition of block copolymers on a surface without increasing the level of defects, this being whatever the orientation (perpendicular to the substrate, parallel to the substrate, etc.); this composition having a product χ effective*N (with χ effective = chi effective Flory-Huggins parameter, and N the total degree of polymerization) of between 10.5 and 40.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于减少表面上嵌段共聚物组合物的有序膜的结构化时间而不增加缺陷水平的方法,该方法无论取向如何(垂直于基底, 平行于基板等); 该组合物具有10.5和40之间的乘积x有效* N(其中x有效= chi有效Flory-Huggins参数,N为总聚合度)。

    PROCÉDÉ DE CONTRÔLE DE LA SYNTHÈSE D'UN COPOLYMERE A BLOCS CONTENANT AU MOINS UN BLOC APOLAIRE ET AU MOINS UN BLOC POLAIRE ET UTILISATION D'UN TEL COPOLYMERE A BLOCS DANS DES APPLICATIONS DE NANO-LITHOGRAPHIE PAR AUTO-ASSEMBLAGE DIRECT
    8.
    发明申请
    PROCÉDÉ DE CONTRÔLE DE LA SYNTHÈSE D'UN COPOLYMERE A BLOCS CONTENANT AU MOINS UN BLOC APOLAIRE ET AU MOINS UN BLOC POLAIRE ET UTILISATION D'UN TEL COPOLYMERE A BLOCS DANS DES APPLICATIONS DE NANO-LITHOGRAPHIE PAR AUTO-ASSEMBLAGE DIRECT 审中-公开
    用于控制包含至少一个APOLAR块和至少一个极性块的嵌段共聚物的合成方法和通过直接自组装在嵌段共聚物应用中的用途

    公开(公告)号:WO2016097574A1

    公开(公告)日:2016-06-23

    申请号:PCT/FR2015/053501

    申请日:2015-12-15

    Applicant: ARKEMA FRANCE

    Abstract: Procédé de contrôle de la synthèse d'un copolymère à blocs contenant au moins deux blocs, dont au moins un bloc apolaire et au moins un bloc polaire, ledit procédé permettant en particulier de contrôler le ratio entre les blocs et de la masse moléculaire de chacun des blocs, ledit copolymère étant un copolymère à blocs destiné à être utilisé en tant que masque dans un procédé de nano-lithographie par auto-assemblage direct (DSA), ledit contrôle se faisant par polymérisation anionique semi-continue en milieu apolaire aprotique et comprenant les étapes suivantes : - synthétiser un premier bloc apolaire sous forme d'un macro-amorceur, - préparer une solution dudit macro-amorceur préalablement synthétisé en le mélangeant avec un alcoolate de métal alcalin dans un solvant apolaire aprotique, - préparer une solution de monomère polaire dans un solvant apolaire aprotique, - injecter les deux solutions préalablement préparées de macro-amorceur et de monomère polaire dans un micro-mélangeur, relié à un réacteur de polymérisation, avec un rapport de flux constant, - récupérer le copolymère obtenu.

    Abstract translation: 用于控制包含至少两个嵌段(包括至少一个非极性嵌段和至少一个极性嵌段)的嵌段共聚物的合成的方法,所述方法使得可以特别地控制嵌段之间的比例和每个嵌段的分子量 所述共聚物是通过直接自组装(DSA)在纳米光刻方法中用作掩模的嵌段共聚物,所述控制通过非质子非极性介质中的半连续阴离子聚合实现,并且包括以下步骤: - 合成大分子引发剂形式的第一非极性嵌段, - 通过在非质子非极性溶剂中与碱金属醇化物混合来制备所述先前合成的大分子引发剂的溶液, - 制备极性单体在非质子非极性溶剂中的溶液, 将两个先前制备的大分子引发剂和极性单体的溶液注入连接到聚合反应器的微混合器中,其具有恒定的 流动比, - 回收所获得的共聚物。

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