公开(公告)号：WO2008125647A2

公开(公告)日：2008-10-23

申请号：PCT/EP2008/054465

申请日：2008-04-14

Applicant: BASF SE ,  BRAMNIK, Kirill ,  HIBST, Hartmut ,  PRÖLSS, Julian

Inventor： BRAMNIK, Kirill ,  HIBST, Hartmut ,  PRÖLSS, Julian

IPC: H01M4/131 ,  H01M4/485 ,  H01M10/052

CPC classification number: C01G31/00 ,  C01P2002/72 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/40 ,  H01M4/131 ,  H01M4/485 ,  H01M10/052 ,  H01M2300/0082 ,  H01M2300/0091

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von lithiumreichen Metalloxiden sowie die nach diesem Verfahren erhältlichen lithiumreichen Metalloxide. Weiterhinbetrifft die Erfindung die Verwendung lithiumreicher Metalloxide zur Herstellung einer Kathode für eine Batterie, insbesondere eine Lithiumionenbatterie sowie eine Kathode für eine Lithiumionenbatterie, welche lithiumreiche Metalloxide enthält.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制备富锂的金属氧化物和通过该方法富锂的金属氧化物而得到的方法。 本发明Weiterhinbetrifft使用富锂的金属氧化物的用于制备阴极的用于电池，特别是锂离子电池和锂离子电池的阴极，其含有富锂的金属氧化物。

公开(公告)号：WO2016008896A1

公开(公告)日：2016-01-21

申请号：PCT/EP2015/066086

申请日：2015-07-14

Applicant: BASF SE

Inventor： REICHARDT, Robert ,  SIEBERT, Max ,  LAN, Yongqing ,  LAUTER, Michael ,  GUEVENC, Haci Osman ,  PRÖLSS, Julian ,  USMAN IBRAHIM, Sheik Ansar ,  GOLZARIAN, Reza

IPC: C09G1/00

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09G1/00

Abstract: A chemical mechanical polishing (CMP) composition (Q) comprising (A) Colloidal or fumed inorganic particles (A) or a mixture thereof in a total amount of from 0.0001 to 2.5 wt.-% based on the total weight of the respective CMP composition (B) at least one amino acid in a total amount of from 0,2 to 1 wt.-% based on the total weight of the respective CMP composition (C) at least one corrosion inhibitor in a total amount of from 0,001 to 0,02 wt.-% based on the total weight of the respective CMP composition (D) hydrogen peroxide as oxidizing agent in a total amount of from 0.0001 to 2 wt.-% based on the total amount of the respective CMP composition (E) aqueous medium wherein the CMP composition (Q) has a pH in the range of from 6 to 9.5.

Abstract translation: 化学机械抛光（CMP）组合物（Q），其包含（A）基于相应CMP组合物的总重量的总量为0.0001至2.5重量％的胶体或热解无机颗粒（A）或其混合物 （B）基于相应CMP组合物（C）的总重量，总量为0.2至1重量％的至少一个氨基酸至少一种腐蚀抑制剂，总量为0.001至0 ，相对于相应的CMP组合物（E）的总量，基于相对于CMP组合物（D）的总重量为02重量％，基于过氧化氢作为氧化剂的总重量为0.0001重量％至2重量％ 水性介质，其中CMP组成（Q）的pH在6至9.5的范围内。