Abstract:
Für eine Trägerplatte wird vorgeschlagen, eine erste keramische Funktionsschichtüber eine Verbindungsschicht (VS) mit einer keramischen Spannschicht (SPS) zu verspannen, um den lateralen Sinterschwund zu reduzieren. Die Funktionsschicht (FS) und die Spannschicht (SPS) sind glasfrei oder weisen einen nur geringen Glasanteil von weniger als 5 Gew. % auf, während die Verbindungsschicht (VS) eine Glaskomponente umfasst oder eine Glasschicht ist.
Abstract:
Es wird ein Chip mit Varistorfunktion vorgeschlagen, der eine Varistorschicht (VS) aus Zinkoxid und darin eine mehrschichtige Elektrodenstruktur aufweist. Galvanisch oder stromlos verstärkte löt- oder bondbaren Außenkontakte (AK) sind auf einer ersten Hauptoberfläche der Varistorschicht (VS) vorgesehen. Eine Glasschicht bedeckt die nicht mit Metallisierung versehenen Bereiche der ersten Hauptoberfläche. Die Glasschicht weist als Hauptbestandteil Oxide von Si und/oder Ge, B und K auf, die in Summe zumindest 70 Gew.% der Bestandteile der Glasschicht umfassen und im Wesentlichen frei von Al, Ga, Cr und Ti ist. Die Glasschicht schützt die Varistorschicht bei einer Galvanik und erlaubt einen dünnen Chip mit unbeschädigter Varistorfunktion. Der Chip kann als Substrat für elektrische Bauelemente mit integrierter Schutzfunktion eingesetzt werden.