高周波用セラミックス基板および高周波用半導体素子収納パッケージ
    2.
    发明申请
    高周波用セラミックス基板および高周波用半導体素子収納パッケージ 审中-公开
    高频陶瓷基板和高频半导体元件收纳用包装

    公开(公告)号:WO2018003332A1

    公开(公告)日:2018-01-04

    申请号:PCT/JP2017/018389

    申请日:2017-05-16

    摘要: 50GHzまでの高周波信号を好適に伝送することができ、かつ、高い信頼性を有する高周波用セラミックス基板を提供する。 平板状のセラミックス基板2と、このセラミックス基板2の裏面側の縁端近傍に接合される一対のグランド線(G)3と、一対のグランド線(G)3を接合するための第1のリードパッド電極5と、一対のグランド線(G)3の間に接合される少なくとも一対の信号線(S)4と、それぞれの信号線(S)の接合位置に被着される第2のリードパッド電極6と、第2のリードパッド電極6間に形成される溝状の座刳り部7aとを有し、一対の信号線(S)4は1の差動信号線18をなし、第1のリードパッド電極5の第1の側縁5aと第2のリードパッド電極6の第2の側縁6aとの間隔をL GS と、第2の側縁6a間の間隔をL SS がL SS <2L GS を満たすことを特徴とする高周波用セラミックス基板1Aによる。

    摘要翻译:

    可以适当地传输高频信号高达50 GHz,并提供具有高可靠性的高频陶瓷基板。 一种平面陶瓷基片2,在边缘的背表面侧的一对接地线这是在(G)的附近加入3,用于接合一对接地线(G)的第一引线3的陶瓷基片2 焊盘电极5,第2引线焊盘沉积在至少一对的信号线是3和(S)4之间加入了对接地线(G)的键合位置,各信号线的(S) 电极6和第二引线焊盘电极6之间形成的槽状座埋头孔部7a,一对信号线(S)4所形成的第一差分信号线18,第一 第一侧边缘5a的第二侧边缘6a和引线焊盘电极5和L <子> GS 时,第二侧缘6a之间的间隔的第二引线焊盘电极6之间的距离 将L <子> SS 为L <子> SS <高频陶瓷基板,并且满足2L <子> GS 按照A.

    接続基板
    3.
    发明申请
    接続基板 审中-公开
    连接板

    公开(公告)号:WO2017154422A1

    公开(公告)日:2017-09-14

    申请号:PCT/JP2017/003554

    申请日:2017-02-01

    IPC分类号: H05K1/11 H01L23/13

    摘要: 接続基板は、貫通孔が設けられているセラミック基板、および貫通孔中に設けられた貫通導体11であって、第一の主面11aと第二の主面11bとを有する貫通導体を備える。貫通導体11が、第一の主面11aに連通する第一の開気孔16A、16Dおよび第二の主面11bに連通する第二の開気孔16Bが設けられた金属多孔体20、第一の開気孔16A、16D内に形成された第一のガラス相17、19、第二の開気孔16B内に形成された第二のガラス相17B、第一の開気孔内に設けられた第一の空隙30、および第二の開気孔16B内に設けられた第二の空隙32を有する。第一の空隙30が第一の主面に連通しない閉空隙である。第二の空隙32が第二の主面11bに連通する開空隙である。

    摘要翻译: 连接基板是设置有通孔和设置在该通孔中的贯通导体11的陶瓷基板,并且第一主表面11a和第二主表面11b 还有一个穿透性导体。 贯通导体11包括金属多孔体20,该金属多孔体20设置有与第一主表面11a连通的第一开放孔16A和16D以及与第二主表面11b连通的第二开放孔16B, 形成在开孔16A,16D中的第一玻璃相17,19,形成在第二开孔16B中的第二玻璃相17B,形成在第一开孔中的第一玻璃相17B, 间隙30和设置在第二开放孔16B中的第二间隙32。 第一气隙30是不与第一主表面连通的闭合气隙。 并且第二间隙32是与第二主表面11b连通的开放空间。

    セラミックス積層体、セラミックス絶縁基板、及びセラミックス積層体の製造方法
    5.
    发明申请
    セラミックス積層体、セラミックス絶縁基板、及びセラミックス積層体の製造方法 审中-公开
    陶瓷层压板,陶瓷隔热基板和生产陶瓷层压板的方法

    公开(公告)号:WO2017142090A1

    公开(公告)日:2017-08-24

    申请号:PCT/JP2017/006004

    申请日:2017-02-17

    IPC分类号: C23C24/04 H01L23/15

    CPC分类号: C23C24/04 H01L23/15

    摘要: 優れた耐熱疲労性や、熱伝導性、絶縁性を有する複合セラミックス層の機械的特性を高め、優れた耐久性及び放熱性、絶縁性を有したセラミックス積層体、セラミックス絶縁基板、及び、セラミック積層体の製造方法を提供する。 接合面と直交する断面において、第2相粒子3の平均径が、0.02μm以上、0.3μm以下であり、かつ第2相粒子3を楕円と見立てたときの相当楕円の長径、短径の比の平均値が2以上、10以下とする。更には60%以上の数の第2相粒子3が、30°以下の配向角を有し、平均配向角が5°以上35°以下であることを特徴とする。

    摘要翻译: 具有优异的耐热疲劳性,具有导热性和绝缘性的复合陶瓷层的机械性能的陶瓷层压体具有优异的耐久性,散热性和绝缘性, 陶瓷绝缘基板和陶瓷层叠体的制造方法。 在垂直于结平面,第二相颗粒3,或0.02微米的平均直径的横截面,并且是0.3微米或更小,并且等效椭圆的长轴视为第二相粒子3和椭圆形,短轴时 设定为2以上10以下。 另外,60%以上的第二相粒子3的取向角为30°以下,平均取向角为5°以上且35°以下。

    窒化珪素回路基板およびそれを用いた半導体モジュール
    8.
    发明申请
    窒化珪素回路基板およびそれを用いた半導体モジュール 审中-公开
    硅氮化硅电路板和使用相同的半导体模块

    公开(公告)号:WO2017056666A1

    公开(公告)日:2017-04-06

    申请号:PCT/JP2016/072026

    申请日:2016-07-27

    摘要: 3点曲げ強度が500MPa以上である窒化珪素基板の両面に金属板を接合した窒化珪素回路基板において、表面側の金属板の厚さをt1、裏面側の金属板の厚さをt2としたとき、厚さt1またはt2の少なくとも一方は0.6mm以上、0.10≦|t1-t2|≦0.30mmを満たし、窒化珪素基板は長辺方向および短辺方向共に反り量が0.1~0.5mmの範囲内であることを特徴とする窒化珪素回路基板である。上記構成によれば、表裏の金属板の厚さが大きい窒化珪素回路基板において、TCT特性を向上させることができる。

    摘要翻译: 该氮化硅电路板,其特征在于,金属板与具有等于或高于500MPa的三点弯曲强度的氮化硅衬底的两个表面结合,其特征在于:厚度t1和/或t2等于 或大于0.6mm,并且公式0.10≤| t1-t2 |≤0.30mm,其中t1表示前表面侧的金属板的厚度,t2表示金属板的背面侧的厚度 ; 并且氮化硅衬底的长边方向和短边方向上的翘曲量都在0.1-0.5mm的范围内。 利用上述结构,能够提高前后金属板的厚度大的氮化硅电路基板的TCT特性。

    セラミックス金属回路基板およびそれを用いた半導体装置
    10.
    发明申请
    セラミックス金属回路基板およびそれを用いた半導体装置 审中-公开
    陶瓷金属电路板和使用相同的半导体器件

    公开(公告)号:WO2017006661A1

    公开(公告)日:2017-01-12

    申请号:PCT/JP2016/066280

    申请日:2016-06-01

    摘要: セラミックス基板と、このセラミックス基板の両面にそれぞれ接合層を介して接合された金属板とを備えるセラミックス金属回路基板において、上記セラミックス基板の一方の面に設けられた金属板の表面に金属被膜が設けられる一方、他方の面に設けられた金属板の表面には金属被膜が設けられていない箇所があることを特徴とするセラミックス金属回路基板である。また、接合層が金属板の側面からはみ出たはみ出し部が形成されていることが好ましい。上記構成によれば、接合する部品に合わせた使い勝手が良く、耐熱サイクル特性が優れたセラミックス回路基板を提供できる。

    摘要翻译: 公开了一种陶瓷金属电路板,其具有陶瓷基板和分别通过在陶瓷基板的两表面之间具有接合层而分别结合的金属板。 陶瓷金属电路板的特征在于,在设置在陶瓷基板的一个表面上的金属板的表面上设置金属膜,在设置在另一面的金属板的表面上, 不提供金属膜。 此外,优选地,形成接合层的突出部分,所述突出部分别从金属板的侧表面突出。 通过上述结构,提供了具有适合于待接合部件的优异的可用性和优异的耐热循环特性的陶瓷电路板。