Abstract:
Es wird ein Lumineszenzkonversionselement (6) für die Wellenlängenkonversion von elektromagnetischer Primärstrahlung (41) zu elektromagnetischer Sekundärstrahlung (52) sowie ein optoelektronisches Bauelement angegeben wobei Leuchtstoffpartikel von drei Arten (1, 2, 3), welche bei Anregung durch die elektromagnetische Primärstrahlung (41) eine elektromagnetische Strahlung (11) emittieren, deren Peak-Wellenlängen (lp, 2p, 3p) im grünen, im orange-roten beziehungsweise im roten Bereichdes elektromagnetischen Spektrums liegen, wobei die Leuchstoffpartikel mit einer Primärstrahlung (41) die im blauen Bereich des elektromagnetischen Spektrums liegt, angeregt werden können. Die korrelierte Farbtemperatur einer Mischstrahlung (51), welche aus Teilen der Primärstrahlung (41) und der Sekundärstrahlung (52) besteht, entspricht der Farbtemperatur von weißem Licht.
Abstract:
Es ist das Verfahren zum Betreiben einer Halbleiterlichtquelle (1) eingerichtet. Die Halbleiterlichtquelle (1) weist eine erste Lichtquelle (21) zur Erzeugung von blauem Licht, eine zweite Lichtquelle (22) zur Erzeugung vom bläulich-weißem Licht, eine dritte Lichtquelle (23) zur Erzeugung von grünlich-weißem Licht und eine vierte Lichtquelle (24) zur Erzeugung von rotem Licht sowie optional eine Ansteuereinheit (3) auf. Die Lichtquellen (21, 22, 23, 24) sind unabhängig voneinander ansteuerbar und die Halbleiterlichtquelle (1) wird so betrieben, sodass insgesamt weißes Mischlicht mit einer abstimmbaren korrelierten Farbtemperatur erzeugt wird und jede der Lichtquellen (21, 22, 23, 24) im eingeschalteten Zustand der Halbleiterlichtquelle mit mindestens 5 %, besonders bevorzugt mitmindestens 10 %, eines bestimmungsgemäßen zugehörigen Maximalstroms betrieben wird.
Abstract:
Es wird ein Strahlung emittierender Halbleiterchip (1) mit einer auf einem Nitrid-Verbindungshalbleitermaterial basierenden Halbleiterschichtenfolge (2) mit einem pn-Übergang angegeben umfassend - eine erste Schutzschicht (3), die gezielt eingebrachte Kristalldefekte (4) aufweist, wobei die erste Schutzschicht (3) zum Schutz des Halbleiterchips (1) vor elektrostatischen Entladungspulsen vorgesehen ist, - eine aktive Zone (7) zur Strahlungserzeugung, die der ersten Schutzschicht (3, 5) in Wachstumsrichtung (W) nachgeordnet ist, wobei sich im Betrieb des Halbleiterchips (1) ein Durchbruchverhalten der Halbleiterschichtenfolge (2) in Sperrrichtung in Bereichen mit Kristalldefekten (4) von Bereichen ohne Kristalldefekte unterscheidet, und wobei bei elektrostatischen Entladungspulsen elektrische Ladung homogen verteilt über die Bereiche mit Kristalldefekten (4) abgeleitet wird.
Abstract:
Es wird ein Halbleiterchip (1) angegeben, der einen Halbleiterkörper (2) mit einer Halbleiterschichtenfolge aufweist, wobei ein zur Erzeugung von Strahlung vorgesehener aktiver Bereich (20) zwischen einer n-leitenden Mehrschichtstruktur (21) und einer p-leitenden Halbleiterschicht (22) angeordnet ist. In der n-leitenden Mehrschichtstruktur ist ein Dotierprofil ausgebildet, das zumindest eine Dotierspitze (4) aufweist.
Abstract:
Es wird optoelektronischer Halbleiterchip (100) angegeben, mit - einer ersten Halbleiterschichtenfolge (1), die eine Vielzahl von Mikrodioden (11) umfasst, und - einer zweiten Halbleiterschichtenfolge (2), die einen aktiven Bereich (12) umfasst, wobei - die erste Halbleiterschichtenfolge (1) und die zweite Halbleiterschichtenfolge (2) auf einem Nitrid- Verbindungshalbleitermaterial basieren, - die erste Halbleiterschichtenfolge (1) der zweiten Halbleiterschichtenfolge (2) in Wachstumsrichtung vorgelagert ist, und - die Mikrodioden (11) einen ESD-Schutz für den aktiven Bereich (12) bilden.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement umfassend einen Halbleiterchip mit einem aktiven Bereich, der in einem eingeschalteten Zustand elektromagnetische Strahlung mit einem ersten Spektrum emittiert und ein Wellenlängenkonversionselement, das dem Halbleiterchip im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung mit dem ersten Spektrum nachgeordnet ist und zumindest teilweise elektromagnetische Strahlung mit dem ersten Spektrum in elektromagnetische Strahlung mit einem zweiten Spektrum konvertiert. Weiter umfasst das optoelektronische Halbleiterbauelement eine Farbanpassungsschicht, die dem Wellenlängenkonversionselement im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung mit dem ersten Spektrum nachgeordnet ist und die zumindest einen Teil einer von außen auf das Wellenlängenkonversionselement einfallenden elektromagnetischen Strahlung reflektiert. Wobei von außen auf das Wellenlängenkonversionselement einfallende und von dem Wellenlängenkonversionselement reflektierte elektromagnetische Strahlung einen ersten Farbort aufweist, und wobei eine Mischstrahlung, enthaltend die von außen auf das Wellenlängenkonversionselement einfallende und von dem Wellenlängenkonversionselement reflektierte elektromagnetische Strahlung und die von außen auf die Farbanpassungsschicht einfallende und von der Farbanpassungsschicht reflektierte elektromagnetische Strahlung, einen zweiten Farbort aufweist, wobei der zweite Farbort näher an einem Weißpunkt liegt als der erste Farbort.
Abstract:
Es wird eine Leuchtstoffkombination (10) angegeben, die einen ersten Leuchtstoff (1) und einen zweiten Leuchtstoff (2) umfasst, wobei es sich bei dem zweiten Leuchtstoff um einen rot emittierenden Quantenpunkt-Leuchtstoff handelt. Außerdem wird ein Konversionselement (20) und eine optoelektronische Vorrichtung (30) angegeben, die jeweils die Leuchtstoffkombination (10) umfassen.
Abstract:
Es umfasst die Lichtquelle (1) einen ersten Halbleiterchip (21) zur Erzeugung von erstem Licht und einen zweiten Halbleiterchip (22) zur Erzeugung von zweitem Licht, das eine andere Farbe aufweist als das erste Licht. In einem Lichtmischkörper (3) werden das erste und das zweite Licht durchmischt, sodass ein Mischlicht entsteht. Ein Detektor (4) befindet sich an dem Lichtmischkörper (3) und ist zur Bestimmung eines Farborts des Mischlichts eingerichtet. Die Lichtquelle (1) umfasst ferner einen Lichtabstrahlkörper (5) zur Abstrahlung des ersten und des zweiten Lichts. Der Lichtmischkörper (3) ist aus einem ersten Material mit einem ersten Brechungsindex und der Lichtabstrahlkörper (5) aus einem zweiten Material mit einem zweiten, niedrigeren Brechungsindex erzeugt. Die Halbleiterchips (21, 22) sind entlang einer Linie (6) angeordnet und weisen unterschiedliche Abstände zu dem Detektor (4) auf. Der Lichtmischkörper (3) bedeckt die Halbleiterchips (21, 22) zumindest teilweise, sodass der Detektor (4) von jedem der Halbleiterchips (21, 22) durch den Lichtmischkörper (3) Licht empfängt.
Abstract:
Bei einem strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement mit einer Schichtstruktur, die eine n-dotierte Confinementschicht (14), eine p-dotierte Confinementschicht (22), und eine zwischen der n-dotierten Confinementschicht (14) und der p-dotierten Confinementschicht (22) angeordnete aktive, Photonen emittierende Schicht (18) enthält, ist erfindungsgemäß vorgesehen, daß die n-dotierte Confinementschicht (14) mit einem ersten n-Dotierstoff (oder zwei voneinander verschiedenen n-Dotierstoffen) zur Erzeugung einer hohen aktiven Dotierung und eines scharfen Dotierprofils dotiert ist, und die aktive Schicht (18) mit nur einem von dem ersten Dotierstoff verschiedenen zweiten n-Dotierstoff zur Verbesserung der Schichtqualität der aktiven Schicht (18) dotiert ist.
Abstract:
Es wird ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauteil (1) angegeben mit - einem strahlungsemittierenden Halbleiterchip (2), der dazu ausgebildet ist, elektromagnetische Strahlung mit einer ersten Peakwellenlänge (P1) auszusenden, - einem Konversionselement (3), das dazu ausgebildet ist, elektromagnetische Strahlung mit einer zweiten Peakwellenlänge (P2) auszusenden, und - einem dielektrischen Schichtenstapel (4), der auf dem strahlungsemittierenden Halbleiterchip (2) und dem Konversionselement (3) angeordnet ist, wobei - ein Transmissionsgrad des dielektrischen Schichtenstapels (4) für Strahlung mit der ersten Peakwellenlänge (P1) und für Strahlung mit der zweiten Peakwellenlänge (P2) in einem ersten Winkelbereich größer als ein Schwellenwert (TS) ist, - der Transmissionsgrad des dielektrischen Schichtenstapels (4) für Strahlung mit der ersten Peakwellenlänge (P1) und für Strahlung mit der zweiten Peakwellenlänge (P2) in einem zweiten Winkelbereich kleiner als der Schwellenwert (TS) ist. Des Weiteren werden ein Verfahren zur Auswahl eines dielektrischen Schichtenstapels und ein Verfahren zur Auswahl eines Konversionsmaterials eines Konversionselements für ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauteil angegeben.