光照射装置および光照射システム
    1.
    发明申请
    光照射装置および光照射システム 审中-公开
    光照射装置和光照射系统

    公开(公告)号:WO2017073776A1

    公开(公告)日:2017-05-04

    申请号:PCT/JP2016/082187

    申请日:2016-10-28

    Inventor: 田口 明

    CPC classification number: B01J19/12 B29C35/08 B41J2/01 H01L31/12 H01L33/48

    Abstract: 光出力の変化を修正可能な光照射装置および光照射システムを提供する。光照射装置100は、上面に第1凹部および第2凹部を有する基体と、前記第1凹部に位置しており、紫外線を照射する、発光素子と、前記第2凹部に位置しており、紫外線を検出可能な、検出素子と、を備える。

    Abstract translation: 提供了能够校正光输出变化的光照射装置和光照射系统。 光照射装置100包括:基体,在其上表面上具有第一凹部和第二凹部;发光元件,位于第一凹部中并照射紫外线;发光元件,位于第二凹部中, 以及能够检测光的检测元件。

    CLEANING COMPOSITION
    2.
    发明申请
    CLEANING COMPOSITION 审中-公开
    清洁组合物

    公开(公告)号:WO2017029658A1

    公开(公告)日:2017-02-23

    申请号:PCT/IL2016/050887

    申请日:2016-08-14

    Applicant: STRATASYS LTD.

    Inventor: POKRASS, Mariana

    Abstract: Novel cleaning compositions, usable for removing a cured support material from a printed object obtained by additive manufacturing such as 3D inkjet printing are provided. The cleaning compositions are aqueous alkaline compositions containing a combination of two alkaline substances: an alkali metal hydroxide and an alkali metal silicate, each at a concentration of no more than 3 weight percents of the total weight of the composition. The cleaning compositions are characterized by high and constant dissolution rate, and are particularly useful for removing a cured support material that includes cross-linked polymeric chains such as cross-linked polyacrylate chains. Kits comprising the alkaline substances, and methods of fabricating a three-dimensional model object which utilize the cleaning compositions or the kits, and a three- dimensional model object fabricated thereby, are also provided.

    Abstract translation: 提供了可用于从通过诸如3D喷墨印刷的添加剂制造获得的印刷物中除去固化的支撑材料的新型清洁组合物。 清洁组合物是含有两种碱性物质的组合的含水碱性组合物:碱金属氢氧化物和碱金属硅酸盐,其浓度不超过组合物总重量的3重量%。 清洁组合物的特征在于高且恒定的溶解速率,并且特别可用于除去包含交联聚合物链(例如交联聚丙烯酸酯链)的固化载体材料。 还提供了包含碱性物质的试剂盒,以及制造利用清洁组合物或试剂盒的三维模型物体的方法以及由此制造的三维模型物体。

    METHOD AND APPARATUS FOR FORMING THIN LAYERS OF SLURRIES FOR ADDITIVE MANUFACTURING
    3.
    发明申请
    METHOD AND APPARATUS FOR FORMING THIN LAYERS OF SLURRIES FOR ADDITIVE MANUFACTURING 审中-公开
    用于形成用于添加剂制造的薄层的方法和装置

    公开(公告)号:WO2017009426A1

    公开(公告)日:2017-01-19

    申请号:PCT/EP2016/066794

    申请日:2016-07-14

    Abstract: Additive manufacturing apparatus for providing a three dimensional object, and method for additive manufacturing of a three dimensional object (5). An exposure unit (11) is arranged to cure a layer of slurry onto an object (5) being formed, and a substrate (2) is arranged to receive a predetermined amount of slurry (4) and to position the predetermined amount of slurry (4) to an exposure position associated with the exposure unit (11). The substrate (2) comprises a slurry repellant layer (3) on a surface of the substrate (2). An object holder is provided for holding the object (5) being formed, and the object holder is arranged to press the object (5) being formed towards the substrate (2) into the predetermined amount of slurry (4) until a desired thickness of the layer for a next additive manufacturing step is reached.

    Abstract translation: 用于提供三维物体的添加剂制造装置,以及三维物体(5)的附加制造方法。 曝光单元(11)被布置成将一层浆料固化到形成的物体(5)上,并且将基板(2)布置成接收预定量的浆料(4)并将预定量的浆料 4)到与曝光单元(11)相关联的曝光位置。 衬底(2)包括在衬底(2)的表面上的浆料驱避剂层(3)。 设置有用于保持形成物体(5)的物体保持器,并且物体保持器布置成将朝向基板(2)形成的物体(5)按压到预定量的浆料(4)中,直到期望的厚度 达到下一个添加剂制造步骤的层。

    硬化膜の製造方法、および、硬化膜
    5.
    发明申请
    硬化膜の製造方法、および、硬化膜 审中-公开
    生产固化膜的方法和固化膜

    公开(公告)号:WO2016208479A1

    公开(公告)日:2016-12-29

    申请号:PCT/JP2016/067877

    申请日:2016-06-16

    Inventor: 吉林 光司

    CPC classification number: B29C35/08 G02B5/20 H01L51/50 H05B33/12

    Abstract: 低温プロセスで信頼性に優れた硬化膜を製造できる、硬化膜の製造方法、および、硬化膜を提供する。基材上に有する活性エネルギー線硬化性組成物の層に、10kV以上100kV未満の加速電圧の電子線を照射する工程を含む、硬化膜の製造方法であって、全工程を通じて100℃以下の温度で行う。

    Abstract translation: 提供:一种固化膜的制造方法,由此可以通过低温处理制造具有优异的可靠性的固化膜; 和固化膜。 一种固化膜的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:对具有加速电压为10kV以上且小于100的电子束的活性能量射线固化性组合物照射设置在基材上的层 kV,其中整个过程中的操作在100℃或更低的温度下进行。

    光照射装置とそれを備える樹脂硬化装置、紫外線殺菌装置および光治療装置
    6.
    发明申请
    光照射装置とそれを備える樹脂硬化装置、紫外線殺菌装置および光治療装置 审中-公开
    光照射装置,与其相同的树脂固化装置,超紫外线灭菌装置和照相装置

    公开(公告)号:WO2016203728A1

    公开(公告)日:2016-12-22

    申请号:PCT/JP2016/002715

    申请日:2016-06-06

    Abstract: 光照射装置(5)は、発光制御部(19)が比較部(17)に設定する閾値を測光部(16)の出力結果が超えたときを発光停止信号タイミングとする。つまり、発光制御部(19)は、所定電圧でメインコンデンサ(13)を充電する場合、閃光放電管(10)の発光量が適正光量となるタイミングで発光停止信号が出力されるように測光部(16)の個体差に合わせて閾値を調整した調整閾値を記憶する。さらに、所定電圧と異なる動作電圧でメインコンデンサ(13)を充電する場合、動作電圧および調整閾値に応じた閾値補正値を算出する。そして、算出した閾値補正値を比較部に閾値として設定する。これにより、多様な電源電圧に対応して、閃光放電管(10)の発光停止タイミングを制御できる。

    Abstract translation: 在光照射装置(5)中,发光控制单元(19)将光测量单元(16)的输出结果超过通过比较设定的阈值的时间设定为发光停止信号定时 单位(17)。 换句话说,当主电容器(13)以规定的电压进行充电时,发光控制单元(19)存储调整后的阈值,其中阈值被调整为符合光测量单元 (16),使得在由闪光放电管(10)发射的光量是适当的光量的时刻输出发光停止信号。 此外,当主电容器(13)以与规定电压不同的工作电压进行充电时,计算根据工作电压和调整阈值的阈值校正值。 计算的阈值校正值在比较单元中被设置为阈值。 由此,可以根据各种电源电压来控制闪光放电管(10)的发光停止时刻。

    RAPID FABRICATION OF A MICROELECTRONIC TEMPORARY SUPPORT FOR INORGANIC SUBSTRATES
    8.
    发明申请
    RAPID FABRICATION OF A MICROELECTRONIC TEMPORARY SUPPORT FOR INORGANIC SUBSTRATES 审中-公开
    无机衬底的微电子临时支持的快速制造

    公开(公告)号:WO2010107851A2

    公开(公告)日:2010-09-23

    申请号:PCT/US2010/027560

    申请日:2010-03-17

    Abstract: A method for fabricating a rigid temporary support used for supporting inorganic substrates during processing includes providing an inorganic substrate comprising a first surface to be processed and a second surface opposite to the first surface. Next, applying a liquid layer to the second surface of the inorganic substrate and then curing the applied liquid layer and thereby forming a rigid temporary support attached to the second surface of the inorganic substrate. Next, processing the first surface of the inorganic substrate while supporting the inorganic substrate upon the rigid temporary support. The curing includes first exposing the applied liquid layer to ultraviolet (UV) radiation and then performing a post exposure bake (PEB) at a temperature sufficient to complete the curing of the applied liquid layer and to promote outgassing of substances.

    Abstract translation: 制造用于在加工过程中支撑无机基材的刚性临时载体的方法包括提供包括第一待加工表面和与第一表面相对的第二表面的无机基材。 接下来,将液体层施加到无机基板的第二表面,然后固化所施加的液体层,从而形成附着到无机基板的第二表面的刚性临时支撑。 接下来,在刚性临时支撑件上支撑无机基板的同时处理无机基板的第一表面。 固化包括首先将施加的液体层暴露于紫外线(UV)辐射,然后在足以完成施加的液体层的固化并促进物质的除气的温度下进行后曝光烘烤(PEB)。

    A METHOD AND SYSTEM FOR LASER-BASED, WAVELENGTH SPECIFIC INFRARED IRRADIATION TREATMENT
    9.
    发明申请
    A METHOD AND SYSTEM FOR LASER-BASED, WAVELENGTH SPECIFIC INFRARED IRRADIATION TREATMENT 审中-公开
    基于激光的波长特定红外辐射处理的方法和系统

    公开(公告)号:WO2007149221A3

    公开(公告)日:2008-09-12

    申请号:PCT/US2007013306

    申请日:2007-06-06

    Abstract: A laser diode based system for direct injection of selected thermal-infrared (IR) wavelength radiation or energy into articles for a wide range of processing purposes is provided. These purposes may include heating, raising or maintaining the temperature of articles, or stimulating a target item in a wide range of different industrial, medical, consumer, or commercial applications. The system is especially applicable to operations that require or benefit from the ability to irradiate at specifically selected wavelengths or to pulse or inject the radiation. The system is particularly advantageous when functioning at higher speeds and in a non-contact environment with the target.

    Abstract translation: 提供了一种基于激光二极管的系统,用于将选定的热 - 红外(IR)波长辐射或能量直接注入到用于广泛加工目的的制品中。 这些目的可以包括加热,升高或维持物品的温度,或刺激在不同工业,医疗,消费者或商业应用的广泛范围内的目标物品。 该系统特别适用于需要或受益于以特定选定波长照射或脉冲或注射辐射的能力的操作。 当以更高的速度和与目标的非接触环境运行时,该系统是特别有利的。

    IMPRINT APPARATUS, IMPRINT METHOD, AND MOLD FOR IMPRINT
    10.
    发明申请
    IMPRINT APPARATUS, IMPRINT METHOD, AND MOLD FOR IMPRINT 审中-公开
    印刷设备,印记方法和模具用于印记

    公开(公告)号:WO2007046528A2

    公开(公告)日:2007-04-26

    申请号:PCT/JP2006/321187

    申请日:2006-10-18

    Abstract: An imprint apparatus for imprinting a pattern provided to a mold onto a substrate or a member on the substrate includes a light source for irradiating a surface of the mold disposed opposite to the substrate and a surface of the substrate with light; an optical system for guiding the light from the light source to the surface of the mold and the surface of the substrate and guiding reflected lights from these surfaces to a spectroscope; a spectroscope for dispersing the reflected lights guided by the optical system into a spectrum; and an analyzer for analyzing a distance between the surface of the mold and the surface of the substrate. The analyzer calculates the distance between the surface of the mold and the surface of the substrate by measuring a distance between the surface of the mold and a surface formed at a position away from the surface of the mold.

    Abstract translation: 用于将提供给模具的图案压印到衬底或衬底上的构件上的压印设备包括:光源,用于照射与衬底相对设置的模具的表面以及衬底的表面 带灯; 光学系统,用于将来自光源的光引导至模具的表面和基板的表面,并将来自这些表面的反射光引导至分光器; 分光镜,用于将由光学系统引导的反射光分散为光谱; 以及分析器,用于分析模具表面和基板表面之间的距离。 分析器通过测量模具表面和形成在远离模具表面的位置处的表面之间的距离来计算模具表面与基板表面之间的距离。

Patent Agency Ranking