公开(公告)号：WO2017103121A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081446

申请日：2016-12-16

申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

发明人： OTTER, Matthias ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WESSELY, Frank ,  SCHREIBER, Andreas ,  ROOS, Björn ,  SCHEICH, Gerrit

IPC分类号： C03B19/06 ,  C03C3/06 ,  C03B20/00

CPC分类号： C03B19/066 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C1/022 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/10 ,  C03C2204/04

摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, iv.) Zerkleinern des Quarzglaskörpers unter Erhalt einer Quarzglaskörnung, v.) Verarbeiten des Quarzglaskörpers zu einer Vorform und vi.) Bilden eines opaken Quarzglaskörpers aus der Vorform. Die Erfindung betrifft weiterhin einen opaken Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Reaktor und eine Anordnung, die jeweils durch Weiterverarbeiten des opaken Quarzglaskörpers erhältlich sind.

公开(公告)号：WO2014204927A1

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：PCT/US2014/042680

申请日：2014-06-17

申请人： CORNING INCORPORATED

发明人： HRDINA, Kenneth Edward ,  LAI, Changyi ,  MOORE, Lisa Anne ,  NEUKIRCH, Ulrich Wilhelm Heinz ,  ROSCH, William Rogers

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03C21/00

CPC分类号： C03C23/0095 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/22 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C21/007 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54

摘要： A fused silica glass article having greater resistance to damage induced by exposure to laser radiation such as laser induced wavefront distortion at deep ultraviolet (DUV) wavelengths, and behaviors such as fluence dependent transmission, which are related to intrinsic defects in the glass. The improved resistance to laser damage may be achieved in some embodiments by loading the glass article with molecular hydrogen (H2) at temperatures of about 400°C or less, or 350°C or less. The combined OH and deuteroxyl (OD) concentration may be less than 10 ppm by weight. In other embodiments, the improved resistance may be achieved by providing the glass with 10 to 60 ppm deuteroxyl (OD) species by weight. In still other embodiments, improved resistance to such laser damage may be achieved by both loading the glass article with molecular hydrogen at temperatures of about 350°C or less and providing the glass with less than 10 ppm combined OH and OD, or 10 to 60 ppm OD by weight.

摘要翻译： 一种熔融石英玻璃制品，其具有较强的耐受暴露于激光辐射（例如在深紫外（DUV）波长处的激光诱发波前失真）以及与玻璃中的固有缺陷有关的诸如通量依赖透射的行为的损伤。 在一些实施方案中，可以通过在约400℃或更低或350℃或更低的温度下加载具有分子氢（H 2）的玻璃制品来改善对激光损伤的抵抗性。 组合的OH和氘氧化（OD）浓度可以小于10ppm重量。 在其它实施方案中，可以通过为玻璃提供10至60ppm的重量的氘氧化（OD）种类来实现改进的电阻。 在另外的其它实施例中，可以通过在大约350℃或更低的温度下将玻璃制品装载到分子氢中，并且提供少于10ppm的组合的OH和OD的玻璃或10至60 ppm OD（重量）。

公开(公告)号：WO2014128148A2

公开(公告)日：2014-08-28

申请号：PCT/EP2014/053199

申请日：2014-02-19

申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

发明人： KUEHN, Bodo

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

摘要： Die Erfindung geht von einem optischen Bauteil aus synthetischem Quarzglas zur Verwendung in der ArF-Excimerlaser-Lithographie mit einer Einsatzwellenlänge von 193 nm aus, mit einer Glasstruktur im Wesentlichen ohne Sauerstoffdefektstellen, einem Wasserstoffgehalt im Bereich von 0,1 x 10 16 Molekülen/cm 3 bis 1,0 x 10 18 Molekülen/cm 3 und einem Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 2 x 10 17 Molekülen/cm 3 und mit einem Gehalt an Hydroxylgruppen im Bereich zwischen 0,1 und 100 Gew.-ppm, wobei die Glasstruktur eine fiktive Temperatur von weniger 1070 °C aufweist. Um ausgehend von einer Messung des Kompaktierungsverhaltens bei einer Messwellenlänge von 633 nm eine verlässliche Prädiktion zum Kompaktierungsverhalten beim Einsatz mit UV-Laserstrahlung der Einsatzwellenlänge ermöglicht, wird eine Ausgestaltung des optischen Bauteil vorgeschlagen, bei der es auf Bestrahlung mit Strahlung einer Wellenlänge von 193 nm mit 5x10 9 Pulsen mit einer Pulsbreite von 125 ns und einer Energiedichte von jeweils 500µJ/cm 2 sowie einer Pulswiederholfrequenz von 2000 Hz mit einer laserinduzierten Brechzahländerung reagiert, deren Betrag bei Vermessung mit der Einsatzwellenlänge von 193 nm einen ersten Messwert M 193nm und bei Vermessung mit einer Messwellenlänge von 633 nm einen zweiten Messwert M 633nm ergibt, wobei gilt: M 193nm /M 633nm

摘要翻译：

本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用与Einsatzwellenl＆AUML光学合成石英玻璃构件; 193纳米的长度，具有玻璃结构基本没有氧缺陷，在的范围内的氢含量 0.1×10 ^{16 分子导航用途LEN /厘米 3 至1.0×10 18 分子导航用途LEN /厘米 3 < / SUP>和小于2×10 17 分子导航用途的SiH基团的含量LEN /厘米 3 和与羟基基团的0.1°范围内的内容和 100重量ppm，玻璃结构的概念温度低于1070℃ 为了从Kompaktierungsverhaltens的测量在一个Messwellenl＆AUML开始; 633nm的长度的VERL＆AUML; ssliche镨＆AUML;用语与Einsatzwellenl BEAR长度ERM＆ouml的紫外激光辐射使用时压实行为; glicht，该光学装置的结构，提出了，这是对 照射具有波长＆AUML辐射;焦耳/厘米 2 ，和脉冲重复的2000频率; 193nm下用5×10 9 脉冲与125毫微秒的脉冲宽度和500微的能量密度的长度 用激光诱导的折射率＆AUML赫兹反应的变化，与所述Einsatzwellenl＆AUML测量时的量; 193nm的第一测量值M长度<子> 193nm的和测量与Messwellenl＆AUML; 633nm的第二测量值M长度<子 > 633nm，其中：M193nm / M633nm}

公开(公告)号：WO2009022456A1

公开(公告)日：2009-02-19

申请号：PCT/JP2008/002145

申请日：2008-08-07

申请人： 信越石英株式会社 ,  山形茂 ,  笛吹友美

发明人： 山形茂 ,  笛吹友美

IPC分类号： C03C3/06 ,  B01J35/02 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00

CPC分类号： C03B19/1453 ,  B01J21/08 ,  B01J35/002 ,  B01J35/004 ,  B01J37/08 ,  C03B19/01 ,  C03B19/09 ,  C03B29/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2203/44

摘要： 　本発明は、シリカガラスにおいて、少なくとも、前記シリカガラスは、ＯＨ基含有量が１～５００ｗｔ．ｐｐｍであり、酸素欠陥構造が実質的に存在しないものであり、金属不純物濃度が、表層部から内部にわたって、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎについてそれぞれ２００ｗｔ．ｐｐｂ以下であり、光触媒反応ユニットに使用されるものである光触媒用シリカガラス、及び、このような光触媒用シリカガラスを製造するための光触媒用シリカガラスの製造方法である。これにより光触媒反応ユニットに使用されるシリカガラスであって、長時間紫外線を照射しても性能が低下しにくい、耐紫外線性等に優れた光触媒用シリカガラス、及びその製造方法が提供される。

摘要翻译： 一种光催化剂用石英玻璃，用于光催化反应单元，羟基含量为1〜500重量ppm，基本上不含缺氧结构，其中金属杂质，Li，Na，K，Mg，Ca ，Cr，Fe，Ni，Cu和Zn在表面到芯的区域分别为200wt .ppb或更低; 以及生产石英玻璃的方法。 本发明提供一种用于光催化反应单元的光催化剂用石英玻璃，其耐紫外线性优异，即使长时间照射紫外线也不会导致性能劣化， 石英玻璃。

公开(公告)号：WO2008140676A3

公开(公告)日：2009-01-08

申请号：PCT/US2008005487

申请日：2008-04-28

申请人： CORNING INC ,  BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  HRDINA KENNETH

发明人： BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  HRDINA KENNETH

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/14

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/31 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54

摘要： A fused silica glass and a fused silica article having a combined concentration of at least one of OH and OD of up to about 50 ppm. The fused silica glass is formed by drying a fused silica soot blank or preform in an inert atmosphere containing a drying agent, followed by removal of residual drying agent from the dried soot blank by heating the dried soot blank in an atmosphere comprising an inert gas and of oxygen.

摘要翻译： 熔融石英玻璃和熔融二氧化硅制品，其具有高达约50ppm的OH和OD中的至少一种的组合浓度。 熔融二氧化硅玻璃通过在含有干燥剂的惰性气氛中干燥熔融二氧化硅烟灰坯料或预型体而形成，然后通过在包含惰性气体的气氛中加热干燥的烟灰坯料从干燥的烟灰坯中除去残留的干燥剂， 的氧气。

公开(公告)号：WO2007053733A1

公开(公告)日：2007-05-10

申请号：PCT/US2006/042768

申请日：2006-11-01

申请人： CORNING INCORPORATED ,  BOOKBINDER, Dana, C. ,  FIACCO, Richard, M. ,  NEUKIRCH, Ulrich

发明人： BOOKBINDER, Dana, C. ,  FIACCO, Richard, M. ,  NEUKIRCH, Ulrich

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/06 ,  C03B19/14

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/12 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23

摘要： What is disclosed includes OD-doped synthetic silica glass capable of being used in optical elements for use in lithography below about 300 nm. OD-doped synthetic silica glass was found to have significantly lower polarization-induced birefringence value than non-OD-doped silica glass with comparable concentration of OH. Also disclosed are processes for making OD-dopes synthetic silica glasses, optical member comprising such glasses, and lithographic systems comprising such optical member. The glass is particularly suitable for immersion lithographic systems due to the exceptionally low polarization-induced birefringence values at about 193 nm.

摘要翻译： 公开的内容包括能够用于低于约300nm的光刻中的光学元件的OD掺杂合成石英玻璃。 发现OD掺杂的合成二氧化硅玻璃具有比具有相当浓度的OH的非OD掺杂的石英玻璃具有显着更低的偏振诱导双折射值。 还公开了制备OD-掺杂合成二氧化硅玻璃，包括这种玻璃的光学部件以及包括这种光学部件的光刻系统的方法。 由于在约193nm处极度低的偏振诱发双折射值，该玻璃特别适用于浸没式光刻系统。

公开(公告)号：WO2006068941A2

公开(公告)日：2006-06-29

申请号：PCT/US2005045619

申请日：2005-12-14

申请人： CORNING INC ,  ELLISON ADAM J ,  SCHIEFELBEIN SUSAN L ,  ANDERSON JAMES G

发明人： ELLISON ADAM J ,  SCHIEFELBEIN SUSAN L ,  ANDERSON JAMES G

IPC分类号： C03B37/018

CPC分类号： C03B37/01807 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2207/85 ,  C03B2207/90

摘要： A method of making an optical fiber precursor includes generating vapors from an alkali metal source comprising compound containing oxygen and one or more alkali metals and applying the vapors to a surface of a glass article comprising silica at a temperature that promotes diffusion of the alkali metal into the surface of the glass article. An optical fiber has a core comprising silica and an alkali metal oxide of the form X 2 O, where X is selected from the group consisting of K, Na, Li, Cs, and Rb, wherein a concentration of the alkali metal oxide along a length of the core is uniform.

摘要翻译： 制造光纤前体的方法包括从包含氧和一种或多种碱金属的化合物的碱金属源生成蒸气，并在促进碱金属扩散的温度下将蒸气施加到包含二氧化硅的玻璃制品的表面 玻璃制品的表面。 光纤具有包含二氧化硅和X 2 O 2形式的碱金属氧化物的核，其中X选自K，Na，Li，Cs和Rb，其中浓度 的碱金属氧化物沿芯的长度是均匀的。

公开(公告)号：WO2004020357A3

公开(公告)日：2004-06-10

申请号：PCT/US0324477

申请日：2003-08-05

申请人： CORNING INC

发明人： MOORE LISA A ,  BOOKBINDER DANA C ,  HOUSE KEITH L ,  SCHIEFELBEIN SUSAN L ,  BALL LAURA J ,  BANEY BRUNO PAUL MARC ,  KHRAPKO ROSTISLAV R

IPC分类号： C03B37/00 ,  C03B37/012 ,  C03B37/014 ,  C03B37/018 ,  C03C3/06 ,  C03C13/04 ,  C03C15/00 ,  C03C21/00 ,  C03C25/60 ,  C03C25/68 ,  C03C17/245 ,  C03C17/28 ,  C03C17/30 ,  G02B6/00

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/01426 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01861 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2203/26 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/90 ,  C03C25/602 ,  C03C25/607 ,  C03C25/68 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/50 ,  G02B6/02

摘要： A method of forming an alkali metal oxide-doped optical fiber by diffusing an alkali metal into a surface of a glass article is disclosed. The silica glass article may be in the form of a tube or a rod, or a collection of tubes or rods. The silica glass article containing the alkali metal, and impurities that may have been unintentionally diffused into the glass article, is etched to a depth sufficient to remove the impurities. The silica glass article may be further processed to form a complete optical fiber preform. The preform, when drawn into an optical fiber, exhibits a low attenuation.

摘要翻译： 公开了一种通过将碱金属扩散到玻璃制品的表面中形成掺杂碱金属氧化物的光纤的方法。 石英玻璃制品可以是管或棒的形式，或者是管或棒的集合。 含有碱金属的二氧化硅玻璃制品和可能已经无意地扩散到玻璃制品中的杂质被蚀刻到足以除去杂质的深度。 石英玻璃制品可以进一步加工以形成完整的光纤预型件。 当预成型件被拉入光纤时，表现出低的衰减。

公开(公告)号：WO02055445A9

公开(公告)日：2002-12-27

申请号：PCT/US0200872

申请日：2002-01-09

申请人： CORNING INC

发明人： ANTOS A JOSEPH ,  BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  SPARKS KEVIN B

IPC分类号： C03B37/014 ,  C03B37/018 ,  C03C13/04 ,  G02B6/02 ,  G02B6/036 ,  G02B6/28 ,  G02B6/34

CPC分类号： G02B6/03694 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01853 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03C13/045 ,  C03C13/047 ,  C03C2201/22 ,  G02B6/02 ,  G02B6/03622 ,  G02B6/2835 ,  Y02P40/57

摘要： An optical waveguide fiber or body having a doped outer region which can be utilized in an optical coupler, a preform which can serve as the precursor for the fiber, an optical coupler, and methods of making same. Water, for example in the form of H2O and/or D2O, may be added to the cladding of the optical waveguide fiber or body.

摘要翻译： 一种具有掺杂的外部区域的光波导纤维或体，其可用于光耦合器，可用作纤维前体的预制件，光耦合器及其制造方法。 例如以H 2 O和/或D 2 O形式的水可以被添加到光波导纤维或主体的包层中。

公开(公告)号：WO00048046A1

公开(公告)日：2000-08-17

申请号：PCT/US2000/003170

申请日：2000-02-07

IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F9/00 ,  C03C15/00

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  G03F1/60 ,  Y02P40/57

摘要： High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed. The inventive silicon oxyfluoride glass is transmissive at wavelengths around 157 nm, making it particularly useful as a photomask substrate at the 157 nm wavelength region. The inventive photomask substrate is a "dry", silicon oxyfluoride glass which exhibits very high transmittance in the vacuum ultraviolet (VUV) wavelength region while maintaining the excellent thermal and physical properties generally associated with high purity fused silica. In addition to containing fluorine and having little or no OH content, the inventive silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrate at 157 nm is also characterized by having less than 1x19 molecules/cm of molecular hydrogen and low chlorine levels.

摘要翻译： 公开了适用于在190nm以下的VUV波长区域中用于光刻应用的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模衬底是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中显示出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融二氧化硅相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且几乎没有或没有OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于分子氢的1×19 17分子/ cm 3和低 氯水平。