公开(公告)号：WO2017051922A1

公开(公告)日：2017-03-30

申请号：PCT/JP2016/078242

申请日：2016-09-26

申请人： 三菱レイヨン株式会社

发明人： 谷口　佳奈 ,  勝間田　匠 ,  中村　淳一 ,  浦　正敏 ,  加門　良啓 ,  浅井　学文

IPC分类号： C08F265/00 ,  C08F220/28 ,  C08F230/08 ,  C08L33/04 ,  C08L43/00 ,  C08L51/00 ,  C09D5/16 ,  C09D7/12 ,  C09D133/14 ,  C09D151/06

CPC分类号： C09D5/1681 ,  C08F2/20 ,  C08F20/18 ,  C08F220/38 ,  C08F230/08 ,  C08F265/06 ,  C08F285/00 ,  C08F2500/02 ,  C08K3/22 ,  C08K5/315 ,  C08K5/3415 ,  C08K2003/2248 ,  C09D5/1625 ,  C09D5/1668 ,  C09D133/08 ,  C09D133/10 ,  C09D143/04 ,  C09D151/003 ,  C08F2220/382 ,  C08F220/14 ,  C08F220/06 ,  C08F2220/281 ,  C08F2230/085

摘要： 本発明の第一の態様の（メタ）アクリル系共重合体は、下記式（１）、下記式（２）又は下記式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造（Ｉ）を有する構成単位、及びトリオルガノシリルオキシカルボニル基を有する構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位と、マクロモノマー（ｂ）由来の構成単位と、を有する。（式中、Ｘは－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ １４ －を示し、Ｒ １４ は水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ １ 及びＲ ２ はそれぞれ、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基を示し、Ｒ ３ 及びＲ ５ はそれぞれ、炭素数１～２０のアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示し、Ｒ ４ 及びＲ ６ はそれぞれ、炭素数１～１０のアルキレン基を示す。）

摘要翻译： 本发明第一实施方案的（甲基）丙烯酸共聚物具有至少一种结构单元，其选自包含结构单元的结构单元，所述结构单元具有至少一种选自式（1），式（2） ）和式（3）和具有三有机甲硅烷氧基羰基的结构单元和衍生自大分子单体（b）的结构单元。 （式中，X表示-O - ， - S-或-NR 14 - ，R 14表示氢原子或烷基，R 1和R 2表示氢原子或C 1-10烷基，R 3和R 5各自表示 C 1-20烷基，环烷基或芳基; R 4和R 6各自表示C 1-10亚烷基。

公开(公告)号：WO2016153592A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：PCT/US2016/014662

申请日：2016-01-25

申请人： HENKEL IP & HOLDING GMBH ,  SRIDHAR, Laxmisha

发明人： SRIDHAR, Laxmisha ,  SILVERBERG, Eric N. ,  BURDZY, Sean M. ,  MESSANA, Andrew D. ,  WOODS, John G. ,  STEVENS, Bruce

IPC分类号： C07C69/54 ,  C08G65/26 ,  C08G65/28 ,  C08G65/40 ,  C08G63/16 ,  C08G63/08 ,  C08G63/68 ,  C08G63/12 ,  C08G64/04 ,  C08G64/16 ,  C08G64/02 ,  C08G67/00 ,  C08F220/06 ,  C08F220/30 ,  C08F220/38 ,  C09D4/04 ,  C09D4/06 ,  C09D133/08 ,  C09D133/10 ,  C09J133/08 ,  C08F2/48 ,  C08F2/50

CPC分类号： C08F2/46 ,  B32B2037/1215 ,  C07C69/54 ,  C07C323/12 ,  C08F2/48 ,  C08F2/50 ,  C08F220/18 ,  C08F283/02 ,  C08F283/065 ,  C08K5/0025 ,  C09J4/06 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J133/14 ,  C08F2220/1825 ,  C08F220/14 ,  C08F2220/1858 ,  C08F220/06 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382

摘要： Disclosed are photoinitiators that are ultra violet (UV) reactive. The photoinitiators can be polymerized into polymeric backbones for use in UV curable hot melt pressure sensitive adhesives. The preferred polymeric backbones are acrylic-based polymers. The photoinitiators are very UVC sensitive and have excellent hot melt viscosity stability that is many fold higher than existing photoinitiators. The subject photoinitiators feature aryl ketones linked through an ether linkage to a variety of connector sequences that allow for polymerization of the photoinitiators.

摘要翻译： 公开了紫外（UV）反应性的光引发剂。 光引发剂可以聚合成聚合物主链，用于可UV固化的热熔压敏粘合剂。 优选的聚合物主链是基于丙烯酸的聚合物。 光引发剂对UVC敏感，具有优异的热熔粘度稳定性，比现有光引发剂高出多倍。 本发明的光引发剂具有通过醚键连接到允许光引发剂聚合的各种连接体序列的芳基酮。

公开(公告)号：WO2016038476A1

公开(公告)日：2016-03-17

申请号：PCT/IB2015/055621

申请日：2015-07-24

申请人： INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION ,  SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD ,  IBM UNITED KINGDOM LIMITED ,  IBM JAPAN LIMITED

发明人： SOORIYAKUMARAN, Ratnam ,  SUNDBERG, Linda, Karin ,  SANCHEZ, Martha, Inez ,  BOZANO, Luisa, Dominica ,  SANDERS, Daniel, Paul ,  WATANABE, Satoshi ,  MASUNAGA, Keiichi ,  DOMON, Daisuke ,  KAWAI, Yoshio

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/322 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/382

摘要： A negative-tone resist composition is provided that contains a free photoacid generator and a multifunctional polymer covalently bound to a photoacid-generating moiety, where the composition is substantially free of cross-linking agents. Multifunctional polymers useful in conjunction with the resist composition are also provided, as is a process for generating a resist image on a substrate using the present compositions and polymers.

摘要翻译： 提供了一种负色调抗蚀剂组合物，其包含游离的光致酸产生剂和共价结合于产生光致酸的部分的多官能聚合物，其中组合物基本上不含交联剂。 还提供了与抗蚀剂组合物结合使用的多官能聚合物，以及使用本发明组合物和聚合物在基材上产生抗蚀剂图像的方法。

公开(公告)号：WO2015125597A1

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：PCT/JP2015/052887

申请日：2015-02-02

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 猪股　壮太郎 ,  小玉　啓祐 ,  井上　和臣

IPC分类号： C08F12/34 ,  B01D61/00 ,  B01D61/02 ,  B01D71/28 ,  B01D71/82 ,  B01J20/26 ,  C08F2/00 ,  H01B1/06 ,  H01M8/02

CPC分类号： B01J39/20 ,  B01D61/002 ,  B01D61/02 ,  B01D61/44 ,  B01D61/48 ,  B01D61/485 ,  B01D71/44 ,  B01D71/82 ,  B01D2323/385 ,  B01D2325/14 ,  B01D2325/42 ,  B01J20/043 ,  B01J39/05 ,  B01J47/12 ,  C08F2/38 ,  C08F2/44 ,  C08F12/30 ,  C08F12/34 ,  C08F212/34 ,  C08F220/58 ,  C08F228/00 ,  C08F228/02 ,  C08F292/00 ,  C08F2220/382 ,  C08F2220/585 ,  C08J5/2243 ,  C08J2325/18 ,  C08J2333/24 ,  C08J2341/00 ,  C08J2351/10 ,  H01M8/1023

摘要： 　下記一般式（１）で表される化合物、重合開始剤及び連鎖移動剤を含む硬化性組成物及び高分子硬化物。　一般式（１）中、ｍは１～４の整数、ｎは１～４の整数を表す。ただし、ｍとｎの総和が５を超えることはない。Ｍ Ａ は水素イオン、無機もしくは有機のイオンを表す。ここで、無機イオン及び有機イオンは２価以上のイオンであってもよい。Ｒ １ 及びＲ ２ は各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。

摘要翻译： 提供含有由通式（1）表示的化合物，聚合引发剂和链转移剂的可固化组合物; 和固化的聚合物产物。 通式（1）中，m为1〜4的整数，n为1〜4的整数，m与n的和不超过5.MA表示质子或无机或有机离子。 这里，无机离子和有机离子可以是二价以上的离子。 R 1和R 2各自独立地表示氢原子或烷基。

公开(公告)号：WO2014017665A1

公开(公告)日：2014-01-30

申请号：PCT/JP2013/070831

申请日：2013-07-25

申请人： FUJIFILM CORPORATION

发明人： YOKOKAWA, Natsumi ,  HIRANO, Shuji ,  NIHASHI, Wataru ,  TAKIZAWA, Hiroo

IPC分类号： G03F7/038 ,  C08F20/26 ,  C08F212/14 ,  C08F220/26 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/382 ,  C08F220/12

摘要： There is provided a pattern forming method comprising (1) a step of forming a film by using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing (P) a resin having a repeating unit represented by the specific formula, (2) a step of exposing the film by using an actinic ray or radiation, and (3) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern, wherein the content of the repeating unit represented by the specific formula is 25 mol% or more based on all repeating units in the resin (P).

摘要翻译： 提供一种图案形成方法，其包括（1）通过使用含有（P）具有由所述具体式表示的重复单元的树脂的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜的步骤，（2）a 通过使用光化射线或辐射使膜曝光的步骤，以及（3）通过使用含有机溶剂的显影剂显影曝光的薄膜以形成负图案的步骤，其中由特定式表示的重复单元的含量 基于树脂（P）中的所有重复单元为25摩尔％以上。

公开(公告)号：WO2013051205A1

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：PCT/JP2012/005946

申请日：2012-09-19

申请人： 第一工業製薬株式会社

发明人： 小笠原　亜沙子 ,  橋本　賀之

IPC分类号： C08F2/24 ,  C08F212/08

CPC分类号： C08K3/20 ,  C08F2/24 ,  C08F220/14 ,  C08F220/20 ,  C08F222/1006 ,  C08F236/02 ,  C08F236/04 ,  C08F2220/382 ,  C08F2220/1825 ,  C08F220/06 ,  C08F212/08

摘要： 　水媒体中で重合開始剤の存在下、反応性乳化剤を用いてモノマーの乳化重合を行う乳化重合方法であって、反応性乳化剤のモノマーとの共重合率向上、泡トラブルの解消、塗膜の耐水性の更なる改善、等の課題を解決しうる乳化重合方法を提供する。炭素－炭素二重結合を分子内に少なくとも１個有する重合性不飽和モノマーＸの１種又は２種以上と、分子内に少なくとも１個有する反応性乳化剤Ｙの１種又は２種以上と、重合性不飽和基を分子内に２個以上有し、１官能基当たりの分子量が１５０未満である多官能性モノマーＺ１の１種若しくは２種以上、又は重合性不飽和基を分子内に１個有し、かつ親水性基を分子内に有し、平均分子量が２５０未満である親水性モノマーＺ２の１種若しくは２種以上とを使用して乳化重合を行い、反応性乳化剤Ｙの総使用量に対する多官能性モノマーＺ１又は親水性モノマーＺ２の総使用量の割合が、質量比で、Ｚ１／Ｙ＝１／３～１／３０又はＺ２／Ｙ＝１／１～１／３０の範囲内とする。

摘要翻译： 提供一种乳液聚合方法，其中在聚合引发剂存在下，使用反应性乳化剂在水性介质中进行单体的乳液聚合，所述乳液聚合方法能够解决诸如提高反应性乳化剂的共聚比的问题 代理与单体，消除泡沫故障，进一步提高涂膜的耐水性。 乳液聚合使用：在各分子中具有至少一个碳 - 碳双键的一种或多种可聚合不饱和单体（X）; 一种或多种在每个分子中具有至少一个可聚合基团的反应性乳化剂（Y）; 以及分子中具有2个以上聚合性不饱和基团的单官能团单体（Z1），每一官能团分子量小于150个的亲水单体（Z2），或具有 一个可聚合不饱和基团和一个亲水基团，同时具有小于250的平均分子量。多官能单体（Z1）或其中使用的亲水单体（Z2）的总量的质量比相对于总量 其中使用的反应性乳化剂（Y）的量在Z1 / Y = 1 / 3-1 / 30或Z2 / Y = 1 / 1-1 / 30的范围内。

公开(公告)号：WO2013014733A1

公开(公告)日：2013-01-31

申请号：PCT/JP2011/066794

申请日：2011-07-25

申请人： 三井化学株式会社 ,  岡崎 光樹

发明人： 岡崎　光樹

IPC分类号： C08F220/38 ,  B05D5/00 ,  C08F220/26 ,  C08F230/02 ,  C09D4/00 ,  C09K3/18

CPC分类号： C09K3/18 ,  B05D1/185 ,  C08F220/38 ,  C09D4/00 ,  C09D5/00 ,  C09D5/1668 ,  C09D133/06 ,  C09D133/14 ,  C09K8/16 ,  Y10T428/1462 ,  Y10T428/263 ,  Y10T428/2848 ,  Y10T428/31938 ,  C08F2220/382 ,  C08F222/1006

摘要： 　親水性を有し、防曇性、防汚性、帯電防止性、結露防止性などに優れるだけでなく、膜厚が大きくなっても透明性に優れ、しかも耐擦傷性にも優れる傾向にある単層膜及び該単層膜を有する積層体を提供する。　特定の単量体と２以上の（メタ）アクリロイル基を有し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない多価単量体とを、特定のモル比の範囲で含む単量体組成物、及び溶解度パラメーターσが特定の範囲である溶剤を含む混合物を作製し、その混合物を基材に塗布した後少なくとも一部の溶剤を除去し、該単量体組成物を重合することにより、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも１つのアニオン性親水基を有し、外表面のアニオン濃度（Ｓａ）と基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度（Ｄａ）とのアニオン濃度比（Ｓａ／Ｄａ）が特定の範囲である単層膜を作製する。

摘要翻译： 本发明提供一种亲水性且不仅在防雾，防污，防静电，抗冷凝等性能方面优异的单层膜，而且即使具有更大的膜厚度也具有优异的透明性 也具有优异的耐刮擦性，以及具有单层膜的层压体。 具有选自磺酸基，羧基和磷酸基中的至少一个阴离子亲水基团的单层膜，其中外层的阴离子浓度（Sa）之间的阴离子浓度比（Sa / Da） 表面和与基材接触的外表面和内表面之间的中点的阴离子浓度（Da）在特定范围内通过制备含有溶解度参数s在特定范围内的溶剂的混合物来制备 ，以及在特定摩尔比范围含有特定单体以及具有至少两个（甲基）丙烯酰基且不具有磺酸基，羧基或磷酸基的多价单体的单体组合物，以及 用混合物涂覆基材，然后除去至少一些溶剂并使单体组合物聚合。

公开(公告)号：WO2012119746A1

公开(公告)日：2012-09-13

申请号：PCT/EP2012/000968

申请日：2012-03-03

申请人： CLARIANT INTERNATIONAL LTD ,  KLUG, Peter ,  FISCHER, Dirk ,  LINDNER, Thomas ,  MÜCKENHEIM, Wiebke ,  BRASCH, Bianca ,  HORNUNG, Michael

发明人： KLUG, Peter ,  FISCHER, Dirk ,  LINDNER, Thomas ,  MÜCKENHEIM, Wiebke ,  BRASCH, Bianca ,  HORNUNG, Michael

IPC分类号： C08F220/58

CPC分类号： A61K8/8188 ,  A61K8/8158 ,  A61K8/8194 ,  A61K9/0014 ,  A61K31/19 ,  A61K31/192 ,  A61K31/375 ,  A61K31/60 ,  A61K47/32 ,  A61K2800/28 ,  A61K2800/48 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/14 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/04 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/08 ,  A61Q5/10 ,  A61Q15/00 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  A61Q19/02 ,  A61Q19/04 ,  A61Q19/08 ,  A61Q19/10 ,  C08F220/38 ,  C08F220/54 ,  C08F220/56 ,  C08F220/58 ,  C08F222/385 ,  C08F226/06 ,  C08F226/08 ,  C08F226/10 ,  C08F2220/382 ,  C08F2220/387 ,  C08F2220/585 ,  C08F2222/1026

摘要： Es werden wasserlösliche oder wasserquellbare Polymere beschrieben enthaltend a) 20,0 bis 98,97 mol-% an einer oder mehreren wiederkehrenden Struktureinheiten hervorgegangen aus speziellen Monomeren mit Sulfonsäuregruppen oder deren Salzen wie z. B. 2-Acrylamido-2-methyl- propansulfonsäure oder ihren Salzen, b) 1,0 bis 60,0 mol-%, an einer oder mehreren wiederkehrenden Struktureinheiten enthaltend eine Amidgruppe und d) 0,01 bis 8,0 mol-% an einer oder mehreren wiederkehrenden Struktureinheiten hervorgegangen aus speziellen Vernetzern mit mindestens 3 polymerisierbaren Doppelbindungen. Die Polymere liefern beispielsweise ein vorteilhaftes sensorisches Eigenschaftsprofil und sind hervorragend als Verdicker auch in salzhaltigen Zusammensetzungen geeignet. Sie sind zudem in vorteilhafter Weise zur Herstellung von kosmetischen, dermatologischen oder pharmazeutischen Zusammensetzungen geeignet.

摘要翻译： 有水溶性或水溶胀性聚合物描述包括：a）20.0至98.97摩尔％的来自具有磺酸基或其盐的这样的特定单体始发的一个或多个重复结构单元。 B. 2-丙烯酰氨基-2-甲基丙磺酸或其盐，b）中为1.0〜60.0摩尔％，含有从0.01酰胺基和d）一种或多种重复结构单元至8.0％（摩尔） 在从特定交联剂始发的一个或多个重复结构单元具有至少3个可聚合的双键。 例如聚合物，提供了有利的感官性能分布，并且特别适合作为在含有盐的组合物的增粘剂。 它们也适合于有利地制备化妆品，皮肤病学或药物组合物。

公开(公告)号：WO2011158817A1

公开(公告)日：2011-12-22

申请号：PCT/JP2011/063560

申请日：2011-06-14

申请人： 東京応化工業株式会社 ,  川上 晃也 ,  道谷 和茂 ,  内海 義之 ,  岩下 淳 ,  昆野 健理 ,  塩野 大寿 ,  高木 大地

发明人： 川上　晃也 ,  道谷　和茂 ,  内海　義之 ,  岩下　淳 ,  昆野　健理 ,  塩野　大寿 ,  高木　大地

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/027 ,  C07C69/54 ,  C07C309/04 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C311/48 ,  C07C311/51 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C08F20/38 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/121

摘要： 　微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物が提供される。上記レジスト組成物は、下記一般式（ａ０）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ）を含有する。式（ａ０）中、Ａは下記一般式（１）または（２）で表されるアニオンである。

摘要翻译： 公开了一种抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法，其能够形成具有良好平版印刷性能的精细抗蚀剂图案; 用于抗蚀剂组合物的新型聚合物; 以及可用作聚合物的单体的化合物。 抗蚀剂组合物含有具有由通式（a0）表示的构成单元（a0）的高分子化合物（A）。 在式（a0）中，A表示由通式（1）或（2）表示的阴离子。

公开(公告)号：WO2017030950A1

公开(公告)日：2017-02-23

申请号：PCT/US2016/046750

申请日：2016-08-12

申请人： ARROW INTERNATIONAL, INC.

发明人： ZHANG, Zheng ,  TOROK, Fanni ,  LI, Jun ,  BOUCHARD, Michael ,  VICTOR, John

IPC分类号： C08F2/38 ,  C08J7/04 ,  C07C323/12

CPC分类号： C08F2/48 ,  C08F2/38 ,  C08F2/50 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382 ,  C08J7/047 ,  C08J7/123 ,  C08J2375/04 ,  C08J2433/14 ,  C08F2220/385 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/387

摘要： A photoactivatable fouling-resistant copolymer composed of a photoactivatable monomer and a hydrophilic monomer is disclosed. The photoactivatable monomer includes an aryl ketone derivative having one or more polar groups or alkyl groups.

摘要翻译： 公开了由可光活化的单体和亲水性单体组成的可光活化的防污聚合物。 可光活化的单体包括具有一个或多个极性基团或烷基的芳基酮衍生物。