公开(公告)号：WO2011003117A3

公开(公告)日：2011-04-28

申请号：PCT/US2010042933

申请日：2010-07-22

申请人： LAM RES CORP ,  HUANG CHUNG HO ,  VENUGOPAL VIJAYAKUMAR C ,  LAM CONNIE ,  PODLESNIK DRAGAN

发明人： HUANG CHUNG HO ,  VENUGOPAL VIJAYAKUMAR C ,  LAM CONNIE ,  PODLESNIK DRAGAN

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： G06F9/5027 ,  G05B19/4184 ,  G05B2219/31202 ,  G05B2219/31293 ,  G05B2219/31318 ,  G05B2219/31481 ,  G05B2219/32209 ,  G05B2219/45031 ,  G06F11/2035 ,  G06F11/2043 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/18

摘要： A process-level troubleshooting architecture (PLTA) configured to facilitate substrate processing in a plasma processing system is provided. The architecture includes a process module controller. The architecture also includes a plurality of sensors, wherein each sensor of the plurality of sensors communicates with the process module controller to collect sensed data about one or more process parameters. The architecture further includes a process-module-level analysis server, wherein the process-module-level analysis server communicates directly with the plurality of sensors and the process module controller. The process-module-level analysis server is configured for receiving data, wherein the data include at least one of the sensed data from the plurality of sensors and process module and chamber data from the process module controller. The process-module-level analysis server is also configured for analyzing the data and sending interdiction data directly to the process module controller when a problem is identified during the substrate processing.

摘要翻译： 提供了配置为促进等离子体处理系统中的衬底处理的处理级故障排除体系结构（PLTA）。 该架构包括一个过程模块控制器。 该架构还包括多个传感器，其中多个传感器中的每个传感器与处理模块控制器通信以收集关于一个或多个处理参数的感测数据。 该体系结构还包括过程模块级分析服务器，其中过程模块级分析服务器直接与多个传感器和过程模块控制器通信。 处理模块级分析服务器被配置用于接收数据，其中该数据包括来自多个传感器和处理模块的感测数据和来自处理模块控制器的腔室数据中的至少一个。 过程模块级分析服务器还被配置用于在衬底处理期间识别问题时分析数据并将阻断数据直接发送到过程模块控制器。

公开(公告)号：WO1991017677A1

公开(公告)日：1991-11-28

申请号：PCT/US1990002888

申请日：1990-05-14

申请人： FOOT IMAGE TECHNOLOGY, INC.

发明人： FOOT IMAGE TECHNOLOGY, INC. ,  WHITE, Jay, P. ,  SWEASY, William, J., Jr. ,  GOGGIN, Joseph, P. ,  THIES, Wesley, A.

IPC分类号： A43D01/02

CPC分类号： A43D3/02 ,  A43D1/025 ,  A43D119/00 ,  G05B19/41865 ,  G05B2219/31293 ,  G05B2219/31319 ,  G05B2219/32024 ,  G05B2219/32036 ,  G05B2219/35038 ,  G05B2219/45243 ,  G06Q10/087

摘要： A system is provided for integrated foot measurement and last manufacture which comprises a foot sizing device (134) for determining foot sizing data by empirically measuring a foot to determine proper fit of a predetermined footwear style, a data processing device (120) for receiving the foot sizing data from the foot sizing device (134) and for transmitting the foot sizing and footwear style data, and a computer automated design mechanism (110) for receiving the data from the data processing device (120) and deriving machine readable data in a form suitable for transmission to footwear last production machinery (112) for manufacture of a footwear last. In addition, a system is provided for reducing and managing the inventory of lasts needed for footwear production which comprises a foot sizing device (134) for determining foot sizing data by empirically measuring a plurality of feet at a footwear sales location (102), a data processing device (120) logically coupled to the foot sizing device (134) for receiving the foot sizing data from the foot sizing device (134), and a statistical trend analysis mechanism (132) logically coupled to the data processing device (120) for analysing the foot sizing data received by the data processing device (120) and for identifying foot sizing data groups whereby efficient manufacture of footwear lasts according to empirical foot sizing needs may be achieved. The system may include an inventory control feedback mechanism (116) logically coupled to the data processing device (120) which provides last inventory status information on demand.

摘要翻译： 一种用于集成式脚踏测量和最终制造的系统，其包括用于通过经验地测量脚以确定预定鞋类样式的适当配合来确定脚尺寸数据的脚尺寸装置（134），用于接收 来自脚尺寸设备（134）的脚尺寸数据和用于传送脚尺寸和鞋类样式数据的计算机自动化设计机构（110），用于从数据处理设备（120）接收数据并导出机器可读数据 形式适合传送到鞋类最后生产机械（112），用于制造最后的鞋类。 另外，提供了一种用于减少和管理鞋类生产所需的持续时间的库存的系统，其包括用于通过经验地测量鞋类销售位置（102）上的多个脚来确定脚尺寸数据的脚尺寸设备（134）， 数据处理设备（120），其逻辑上耦合到足尺寸设备（134），用于从脚尺寸设备（134）接收脚尺寸数据;以及统计趋势分析机构（132），逻辑上耦合到数据处理设备（120） 用于分析由数据处理设备（120）接收的脚尺寸数据并用于识别脚尺寸数据组，从而可以实现根据经验尺寸尺寸需求的鞋类的有效制造。 该系统可以包括逻辑上耦合到数据处理设备（120）的库存控制反馈机制（116），其根据需要提供最后的库存状态信息。

公开(公告)号：WO2011003117A2

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：PCT/US2010/042933

申请日：2010-07-22

申请人： LAM RESEARCH CORPORATION ,  HUANG, Chung Ho ,  VENUGOPAL, Vijayakumar C. ,  LAM, Connie ,  PODLESNIK, Dragan

发明人： HUANG, Chung Ho ,  VENUGOPAL, Vijayakumar C. ,  LAM, Connie ,  PODLESNIK, Dragan

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： G06F9/5027 ,  G05B19/4184 ,  G05B2219/31202 ,  G05B2219/31293 ,  G05B2219/31318 ,  G05B2219/31481 ,  G05B2219/32209 ,  G05B2219/45031 ,  G06F11/2035 ,  G06F11/2043 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/18

摘要： A process-level troubleshooting architecture (PLTA) configured to facilitate substrate processing in a plasma processing system is provided. The architecture includes a process module controller. The architecture also includes a plurality of sensors, wherein each sensor of the plurality of sensors communicates with the process module controller to collect sensed data about one or more process parameters. The architecture further includes a process-module-level analysis server, wherein the process-module-level analysis server communicates directly with the plurality of sensors and the process module controller. The process-module-level analysis server is configured for receiving data, wherein the data include at least one of the sensed data from the plurality of sensors and process module and chamber data from the process module controller. The process-module-level analysis server is also configured for analyzing the data and sending interdiction data directly to the process module controller when a problem is identified during the substrate processing.

摘要翻译： 提供了一种配置为促进等离子体处理系统中的基板处理的过程级故障排除架构（PLTA）。 该架构包括一个进程模块控制器。 该架构还包括多个传感器，其中多个传感器中的每个传感器与过程模块控制器通信以收集关于一个或多个过程参数的感测数据。 该架构还包括一个过程模块级分析服务器，其中该过程模块级分析服务器与多个传感器和该处理模块控制器直接通信。 过程模块级分析服务器被配置为用于接收数据，其中数据包括来自多个传感器的感测数据中的至少一个以及来自处理模块控制器的处理模块和室数据。 过程模块级分析服务器还被配置为当在衬底处理期间识别出问题时，分析数据并将拦截数据直接发送到过程模块控制器。