公开(公告)号：WO2011003117A3

公开(公告)日：2011-04-28

申请号：PCT/US2010042933

申请日：2010-07-22

Applicant: LAM RES CORP ,  HUANG CHUNG HO ,  VENUGOPAL VIJAYAKUMAR C ,  LAM CONNIE ,  PODLESNIK DRAGAN

Inventor： HUANG CHUNG HO ,  VENUGOPAL VIJAYAKUMAR C ,  LAM CONNIE ,  PODLESNIK DRAGAN

IPC: H01L21/00

CPC classification number: G06F9/5027 ,  G05B19/4184 ,  G05B2219/31202 ,  G05B2219/31293 ,  G05B2219/31318 ,  G05B2219/31481 ,  G05B2219/32209 ,  G05B2219/45031 ,  G06F11/2035 ,  G06F11/2043 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/18

Abstract: A process-level troubleshooting architecture (PLTA) configured to facilitate substrate processing in a plasma processing system is provided. The architecture includes a process module controller. The architecture also includes a plurality of sensors, wherein each sensor of the plurality of sensors communicates with the process module controller to collect sensed data about one or more process parameters. The architecture further includes a process-module-level analysis server, wherein the process-module-level analysis server communicates directly with the plurality of sensors and the process module controller. The process-module-level analysis server is configured for receiving data, wherein the data include at least one of the sensed data from the plurality of sensors and process module and chamber data from the process module controller. The process-module-level analysis server is also configured for analyzing the data and sending interdiction data directly to the process module controller when a problem is identified during the substrate processing.

Abstract translation: 提供了配置为促进等离子体处理系统中的衬底处理的处理级故障排除体系结构（PLTA）。 该架构包括一个过程模块控制器。 该架构还包括多个传感器，其中多个传感器中的每个传感器与处理模块控制器通信以收集关于一个或多个处理参数的感测数据。 该体系结构还包括过程模块级分析服务器，其中过程模块级分析服务器直接与多个传感器和过程模块控制器通信。 处理模块级分析服务器被配置用于接收数据，其中该数据包括来自多个传感器和处理模块的感测数据和来自处理模块控制器的腔室数据中的至少一个。 过程模块级分析服务器还被配置用于在衬底处理期间识别问题时分析数据并将阻断数据直接发送到过程模块控制器。

公开(公告)号：WO2011006850A1

公开(公告)日：2011-01-20

申请号：PCT/EP2010/059936

申请日：2010-07-09

Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT ,  KARL, Harald ,  POOK, Friedrich

Inventor： KARL, Harald ,  POOK, Friedrich

IPC: G06F11/20 ,  G05B9/03

CPC classification number: G06F11/20 ,  G05B19/409 ,  G05B19/4184 ,  G05B2219/31481 ,  Y02P90/14

Abstract: Die Erfindung betrifft ein hochverfügbares Bediengerät. Um die Nachteile der bekannten Lösungen zu reduzieren, wird ein Bediengerät vorgeschlagen mit zumindest zwei Displays zur Anzeige von Informationen, wobei jedem Display zumindest eine Eingabeeinheit, eine Bilderzeugungseinheit und eine Infra-Struktureinheit zugeordnet ist, mit zumindest einer Kommunikationsschnittstelle und mit zumindest einer Stromversorgung, wobei bei Ausfall eines Displays und/oder einer diesem zugeordneten Einheit die Informationen auf dem zumindest einen verbleibenden Display anzeigbar sind.

Abstract translation: 本发明涉及高度可用的操作单元。 为了减少与已知解决方案的缺点，操作装置设置有至少两个显示器，用于显示信息，其中，每个显示与至少一个输入单元，图像形成单元和红外线的结构单元相关联的至少一个通信接口和与至少一个电源， 在显示和/或与其的信息的剩余的至少可显示在显示器上相关联的单元的故障的情况下。

公开(公告)号：WO2011003117A2

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：PCT/US2010/042933

申请日：2010-07-22

Applicant: LAM RESEARCH CORPORATION ,  HUANG, Chung Ho ,  VENUGOPAL, Vijayakumar C. ,  LAM, Connie ,  PODLESNIK, Dragan

Inventor： HUANG, Chung Ho ,  VENUGOPAL, Vijayakumar C. ,  LAM, Connie ,  PODLESNIK, Dragan

IPC: H01L21/00

CPC classification number: G06F9/5027 ,  G05B19/4184 ,  G05B2219/31202 ,  G05B2219/31293 ,  G05B2219/31318 ,  G05B2219/31481 ,  G05B2219/32209 ,  G05B2219/45031 ,  G06F11/2035 ,  G06F11/2043 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/18

Abstract: A process-level troubleshooting architecture (PLTA) configured to facilitate substrate processing in a plasma processing system is provided. The architecture includes a process module controller. The architecture also includes a plurality of sensors, wherein each sensor of the plurality of sensors communicates with the process module controller to collect sensed data about one or more process parameters. The architecture further includes a process-module-level analysis server, wherein the process-module-level analysis server communicates directly with the plurality of sensors and the process module controller. The process-module-level analysis server is configured for receiving data, wherein the data include at least one of the sensed data from the plurality of sensors and process module and chamber data from the process module controller. The process-module-level analysis server is also configured for analyzing the data and sending interdiction data directly to the process module controller when a problem is identified during the substrate processing.

Abstract translation: 提供了一种配置为促进等离子体处理系统中的基板处理的过程级故障排除架构（PLTA）。 该架构包括一个进程模块控制器。 该架构还包括多个传感器，其中多个传感器中的每个传感器与过程模块控制器通信以收集关于一个或多个过程参数的感测数据。 该架构还包括一个过程模块级分析服务器，其中该过程模块级分析服务器与多个传感器和该处理模块控制器直接通信。 过程模块级分析服务器被配置为用于接收数据，其中数据包括来自多个传感器的感测数据中的至少一个以及来自处理模块控制器的处理模块和室数据。 过程模块级分析服务器还被配置为当在衬底处理期间识别出问题时，分析数据并将拦截数据直接发送到过程模块控制器。