公开(公告)号：WO2017040913A1

公开(公告)日：2017-03-09

申请号：PCT/US2016/050085

申请日：2016-09-02

申请人： ENTEGRIS, INC.

发明人： GLAVAN, Kyle ,  KING, Jeffery J. ,  FULLER, Matthew

IPC分类号： H01L21/673 ,  H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  B65D51/16

CPC分类号： H01L21/67393

摘要： A purge tower assembly for a substrate container. The assembly may include a purge interface body, including a base portion and a top portion, for mounting to a bottom plate of a substrate container. The base portion may include a substantially tubular base sidewall and the top portion may have a top sidewall positioned on the top edge of the base portion. The top portion may include an inlet nozzle for mounting through a rearward inlet in the bottom plate. The inlet nozzle may have a substantially tubular sidewall extending upwardly from the top sidewall and defining an interior of the inlet nozzle. The base portion and the top sidewall may define an offset conduit portion disposed connected to the base portion and the inlet nozzle, the base portion and the inlet nozzle in fluid communication via the offset conduit portion.

摘要翻译： 用于衬底容器的吹扫塔组件。 组件可以包括用于安装到基板容器的底板的吹扫接口体，包括基部和顶部。 基部可以包括基本上管状的基部侧壁，并且顶部可以具有位于基部的顶部边缘上的顶侧壁。 顶部可以包括用于通过底板中的后部入口安装的入口喷嘴。 入口喷嘴可以具有从顶部侧壁向上延伸并且限定入口喷嘴的内部的基本上管状的侧壁。 底座部分和顶侧壁可以限定一个偏置导管部分，该偏移导管部分设置成连接到基部部分，并且入口喷嘴，基部部分和入口喷嘴经由偏移导管部分流体连通。

公开(公告)号：WO2016153291A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：PCT/KR2016/003000

申请日：2016-03-24

申请人： PICO & TERA CO., LTD. ,  WOO, Bum Je

发明人： WOO, Bum Je ,  YOON, Seok Mun ,  HAN, Myoung Sok ,  KIM, Hyun Sin

IPC分类号： H01L21/673 ,  H01L21/54 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/67393

摘要： The present invention relates to a wafer storage container, more particularly, relates to a wafer storage container wherein the space of the wafer storage container is divided into the spaces, namely a storage room, a gas injection room, and a gas exhausting room, which are independent and separate from each other, so when the wafer storage container is transported to the load port and being coupled therewith, the purge gas is injected/exhausted through the separating walls inside the storage room, thereby efficiently removing the remaining fumes on the surface of the wafer.

摘要翻译： 本发明涉及一种晶片储存容器，更具体地涉及一种晶片储存容器，其中晶片储存容器的空间被分为空间，即储藏室，注气室和排气室，其中 彼此独立且分离，因此当晶片储存容器被输送到负载端口并与其结合时，净化气体通过储藏室内的分隔壁被注入/排出，从而有效地除去表面上剩余的烟雾 的晶片。

公开(公告)号：WO2016145338A1

公开(公告)日：2016-09-15

申请号：PCT/US2016/022059

申请日：2016-03-11

申请人： ENTEGRIS, INC.

发明人： FULLER, Matthew, A. ,  BORES, Gregory

IPC分类号： H01L21/673 ,  H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67393

摘要： A semiconductor wafer carrier assembly includes a carrier, the carrier defining a wafer storage area adapted to support one or more semiconductor wafers. The carrier has a door for access to the wafer storage area, the door defining an interior. The assembly also includes a getter module, the getter module including a housing, getter material disposed within the housing, the getter material adapted to decrease concentration of contaminants within the wafer storage area of the carrier, and at least one connection feature adapted to readily removably secure the getter module to the interior of the door.

摘要翻译： 半导体晶片载体组件包括载体，载体限定适于支撑一个或多个半导体晶片的晶片存储区域。 载体具有用于进入晶片存储区域的门，门限定内部。 组件还包括吸气剂模块，吸气剂模块包括壳体，设置在壳体内的吸气剂材料，吸气剂材料适于减少载体晶片存储区域内的污染物的浓度，以及至少一个适于容易地可移除的连接特征 将吸气剂模块固定到门的内部。

公开(公告)号：WO2016089912A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：PCT/US2015/063260

申请日：2015-12-01

申请人： ENTEGRIS, INC.

发明人： FULLER, Matthew, A. ,  SMITH, Mark, V. ,  KING, Jeffery, J. ,  BURNS, John

IPC分类号： B65D81/20 ,  F16K15/00 ,  F16K15/14 ,  B65D85/30 ,  B65D85/38 ,  B65D85/86 ,  B65D85/90 ,  H01L21/673

CPC分类号： H01L21/67393 ,  F16K15/148 ,  F16K27/0209 ,  H01L21/6732 ,  H01L21/67379

摘要： A substrate container includes a container portion having an open side or bottom, and a door to sealingly close the open side or bottom, one of the door and the container portion defining access structure. The substrate container additionally includes a check-valve assembly, the check-valve assembly being retained with respect to the access structure to provide fluid communication with an interior of the substrate container. The check-valve assembly includes a grommet, the grommet being formed of an elastomeric material. A valve seat is disposed within the grommet, the valve seat being integrally formed with the grommet according to one aspect, and being formed of a separate piece according to another aspect. An elastomeric valve member, specifically an elastomeric umbrella valve member according to one aspect, is disposed within the grommet and held to engage the valve seat, thereby restricting fluid flow through the check-valve assembly with respect to the interior of the substrate container.

摘要翻译： 衬底容器包括具有开口侧或底部的容器部分和用于密封地封闭敞开侧或底部的门，门和容器部分中的一个限定了接近结构。 衬底容器还包括止回阀组件，止回阀组件相对于进入结构保持，以提供与衬底容器的内部的流体连通。 止回阀组件包括索环，索环由弹性体材料形成。 阀座设置在索环内，阀座与根据一个方面的索环一体地形成，并且根据另一方面由独立的部件形成。 根据一个方面的弹性阀构件，特别是弹性伞阀构件设置在护环内并保持以接合阀座，从而限制流体通过止回阀组件相对于基底容器内部的流动。

公开(公告)号：WO2016036039A1

公开(公告)日：2016-03-10

申请号：PCT/KR2015/008796

申请日：2015-08-24

申请人： 로체 시스템즈(주)

发明人： 오승배 ,  엄태영 ,  우치야마마사히코

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/67393 ,  H01L21/02 ,  H01L21/302 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775

摘要： 기존의 로드포트에 퍼지 기능을 부여할 수 있으며 또한 다양한 종류의 웨이퍼 캐리어에 대응가능한 퍼지 모듈 및 이러한 퍼지 모듈이 부착된 로드포트가 제공된다. 이러한 퍼지 모듈은 지그(JIG), 가스 제어 박스 및 파이프들을 포함한다. 상기 지그는 로드포트(LOADPORT)의 스테이지 상부에 탈착가능하도록 장착되고, 웨이퍼 캐리어 내부에 가스를 주입하는 가스 주입구 및 웨이퍼 캐리어 내부의 가스를 배출하기 위한 가스 배출구를 포함한다. 상기 가스 제어 박스는 상기 로드포트에 장착되어, 주입되는 가스 및 배출되는 가스를 제어한다. 상기 파이프들은 상기 지그 및 상기 가스 제어 박스를 연결한다.

摘要翻译： 提供了一种吹扫模块，其可以赋予现有负载端口具有吹扫功能，并且可以处理各种晶片载体以及配备有吹扫模块的负载端口。 吹扫模块包括夹具，气体控制箱和管道。 夹具可拆卸地安装在负载端口的台的上部，并且包括气体注入到晶片载体中的气体注入开口和气体排出开口，气体从晶片载体的内部排出 。 气体控制箱安装在负载端口上，以控制注入的气体和排出的气体。 管道连接夹具和气体控制箱。

公开(公告)号：WO2015141246A1

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：PCT/JP2015/050498

申请日：2015-01-09

申请人： 村田機械株式会社

发明人： 村田　正直 ,  山路　孝

IPC分类号： H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67393 ,  H01L21/67379 ,  H01L21/67775

摘要： 　アクチュエータを用いずに、ノズルが容器の位置決めを妨げないようにする。位置決め部材よりも先にノズルが容器に接触した際に、ノズルのガイド面により容器をガイドすると共に、容器からの荷重によりノズルを下降させて、位置決め部材と容器を接触させ、位置決め部材により容器を位置決めし、ノズルから容器にパージガスを注入する。

摘要翻译： 本发明防止喷嘴妨碍容器的对准而不使用致动器。 在对准构件与容器接触之前喷嘴与容器接触的情况下，容器通过喷嘴的引导表面被引导，同时对准构件和容器是 通过借助于来自容器的负载使喷嘴下降而使容器彼此接触，并且通过对准构件对齐容器，然后将吹扫气体从喷嘴喷射到容器中。

公开(公告)号：WO2015057739A1

公开(公告)日：2015-04-23

申请号：PCT/US2014/060533

申请日：2014-10-14

申请人： ENTEGRIS, INC.

发明人： SMITH, Mark, V. ,  BEATTY, Christopher ,  BANDREDDI, Murali

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/67393

摘要： A diffuser tower assembly having a diffuser with a flared end and a fitting with an offset portion and nipple sized for the flared end. The assembly may be configured for providing low coverage purging. Diffuser tower assemblies may be in the form of a kit for retrofitting existing front opening wafer containers. The inlet fitting may include structure that enhances purge characteristics near the base of the porous media diffuser for enhanced sweeping of the floor of the substrate container. Embodiments of the disclosure generate an uneven flow distribution that provides a non-uniform flow distribution at the opening. In an embodiment, where the opening is in a substantially vertical orientation, the non- uniform flow distribution is tailored to deliver a greater flow rate to the bottom half of the opening than to the top of the opening.

摘要翻译： 扩散塔组件，其具有带扩口端的扩散器和具有偏置部分和接头的配件，其尺寸适于扩口端。 组件可以被配置为提供低覆盖率清洗。 扩散塔组件可以是用于改进现有的前开口晶片容器的套件的形式。 入口配件可以包括在多孔介质扩散器的基部附近增强吹扫特性的结构，以增强基底容器的地板的扫掠。 本公开的实施例产生不均匀的流动分布，其在开口处提供不均匀的流动分布。 在一个实施例中，当开口处于基本垂直的方向时，不均匀的流动分布被调整为向开口的下半部分提供比开口顶部更大的流速。

公开(公告)号：WO2015035240A1

公开(公告)日：2015-03-12

申请号：PCT/US2014/054399

申请日：2014-09-05

申请人： ENTEGRIS,INC.

发明人： BORES, Gregory

IPC分类号： H01L21/673 ,  B65D85/38

CPC分类号： H01L21/67393 ,  H01L21/67366 ,  H01L21/67389

摘要： A containment for one or more substrates has an enclosure that defines a contained volumetric area and included therein is a block or plate getter unit that has an enhanced performance provided by increased surface area formed on the plate or block by a series of grooves or other repeating surface structure pattern. Such patterning provides increased surface area on the block or plate and thus increased exposure of active elements to the contained volumetric region. In an embodiment, structure on one side of the block or plate has mirror image surface or a complementary surface on the opposing side. With such a structure, rigidity of the block or plate is preserved, weight is minimized, and exposed surface area is maximized. The enclosure may have specific pockets or may utilize a conventional substrate slot for the block or plate getter. The plate or block getter may be configured to fit within a conventional slot or a dedicated pocket in a wafer container or other substrate container.

摘要翻译： 用于一个或多个基底的容纳物具有限定所包含的体积面积的外壳，并且其中包括的块或板吸气剂单元具有增强的性能，其通过一系列凹槽或其它重复形成的板或块上形成的增加的表面积而提供 表面结构图案。 这种图案化提供了块或板上的增加的表面积，从而增加了活性元素暴露于包含的体积区域。 在一个实施例中，块或板的一侧上的结构具有镜像表面或相对侧上的互补表面。 通过这样的结构，可以保持块体或板的刚度，减轻重量，使露出面积最大化。 外壳可以具有特定的口袋，或者可以利用用于块或板吸气剂的常规衬底槽。 板或块吸气剂可以被配置成装配在晶片容器或其他衬底容器中的常规槽或专用袋中。

公开(公告)号：WO2014009386A1

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：PCT/EP2013/064516

申请日：2013-07-09

申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE

发明人： PALM, Jörg ,  FÜRFANGER, Martin ,  JOST, Stefan

IPC分类号： H01L21/673

CPC分类号： B05D1/60 ,  B05C5/001 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67393

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Prozessbox zum Prozessieren eines beschichteten Substrats, mit den folgenden Merkmalen: ein gasdicht verschließbares Gehäuse, das einen Hohlraum formt; das Gehäuse umfasst wenigstens einen Gehäuseabschnitt, der so ausgebildet ist, dass das Substrat durch auf den Gehäuseabschnitt auftreffende elektromagnetische Heizstrahlung wärmebehandelbar ist; das Gehäuse weist wenigstens einen mit einer Kühleinrichtung zu dessen Kühlung koppelbaren Gehäuseabschnitt und wenigstens einen nicht kühlbaren Gehäuseabschnitt auf; der Hohlraum ist durch wenigstens eine Trennwand in einen Prozessraum zum Aufnehmen des Substrats und einen Zwischenraum unterteilt, wobei die Trennwand über eine oder mehrere Öffnungen verfügt und zwischen dem Substrat und dem temperierbaren Gehäuseabschnitt angeordnet ist; das Gehäuse ist mit wenigstens einer in den Hohlraum mündenden, verschließbaren Gasdurchführung zum Evakuieren und Einleiten von Prozessgas in den Hohlraum versehen. Des Weiteren betrifft sie Anordnungen und ein Verfahren zum Prozessieren eines beschichteten Substrats, bei dem wenigstens ein Gehäuseabschnitt der Prozessbox während und/oder nach der Wärmebehandlung gekühlt und eine Diffusion eines während der Wärmebehandlung erzeugten gasförmigen Stoffs zum temperierten Gehäuseabschnitt durch eine mit einer oder mehreren Öffnungen versehene Trennwand, welche zwischen dem beschichteten Substrat und dem temperierten Gehäuseabschnitt angeordnet ist, gehemmt wird.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于处理涂覆的基材，其具有以下特征的处理盒：形成空腔气密密封的外壳; 壳体包括被形成为使得所述基底是可热处理的由撞击在外壳部分的电磁热辐射的至少一个外壳部分; 所述壳体具有至少一个用于冷却其可配合壳体部分和至少一个非可冷却的壳体部分的冷却装置; 所述空腔由至少一个分区在处理室中分开用于容纳衬底和中间空间，其中，所述分隔壁具有一个或多个开口和设置在所述基板与所述可加热的壳体部分之间; 具有至少一个开口到腔中的壳体，用于排空和将工艺气体引入所述空腔中提供可封闭气体通道。 此外，本发明涉及装置和用于处理涂覆的基材，其特征在于，期间和/或热处理和扩散后的冷却处理盒的至少一个外壳部分的方法的热处理中，通过设置有一个或多个开口，用于温度控制的外壳部分气态物质过程中产生的 其设置在涂覆的基材和温度受控外壳部分之间分隔壁被抑制。

公开(公告)号：WO2013134942A1

公开(公告)日：2013-09-19

申请号：PCT/CN2012/072388

申请日：2012-03-15

申请人： 深圳市华星光电技术有限公司 ,  齐明虎 ,  吴俊豪 ,  林昆贤 ,  汪永强 ,  陈增宏 ,  杨卫兵 ,  朱二庆 ,  郭振华

发明人： 齐明虎 ,  吴俊豪 ,  林昆贤 ,  汪永强 ,  陈增宏 ,  杨卫兵 ,  朱二庆 ,  郭振华

IPC分类号： B65G49/07 ,  H01L21/677 ,  H05F1/00

CPC分类号： H01L21/67396 ,  B65G49/00 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67393 ,  H01L21/6776

摘要： 一种液晶面板基材的运输控制方法及系统，所述方法包括：提供运输设备（21）及加湿设备（22）；将液晶面板基材放置于所述运输设备（21）内；通过所述加湿设备对放置液晶面板基材的运输设备进行加湿处理，以在所述运输设备内形成水雾；通过经加湿处理后的运输设备运输所述液晶面板基材。所述系统包括用于放置及运输液晶面板基材的运输设备（21）及用于对所述运输设备进行加湿处理、以在所述运输设备内形成水雾的加湿设备（22）。本发明防止了静电击伤所述液晶面板基材，保证了产品合格率。