Abstract:
The invention relates to a measuring device including a layer of a magnetoelastic alloy formed on a load-carrying member, which layer is intended for measuring stresses induced by a force ap- plied to the load-carrying member, wherein the average grain size of said layer is in the range of 100 nm to 10 000nm, and a method for production thereof.
Abstract:
Nano-actuators having a helical member formed with a ferromagnetic shape memory alloy (FSMA) are disclosed that are elastically deformable between a compressed state and an expanded state by the application of a magnetic field. The nano-actuators may include a ferromagnetic head portion, that may be formed from the FSMA or from another material. A thin biocompatible external layer provides a platform for attaching a ligand that is selected to bind with a target cell type, for example, a target cancer cell. The nano-actuators are magnetically propelled to the target cells, and oscillated and/or rotated to mechanically damage the target cells to induce apoptosis. The nano-actuators may be formed by electro deposition of the FSMA into a nano-helical template.
Abstract:
Die Erfindung umfasst ein Verfahren zur Herstellung eines eine Kristallorientierung entlang einer ersten Kristallachse aufweisenden MSM-Aktorelements aus einem Einkristall-MSM-Körper durch Einbringen eines aufgeschmolzenen Legierungsmaterials in eine Formschale und nachfolgendes Erstarren des Legierungsmaterials, mit den Schritten: Vorsehen einer einen Ankeimbereich (24), einen Selektorbereich (26) sowie einen Kristallbereich (28) aufweisenden, zumindest abschnittsweise entlang einer Längsachse (22) ausgerichteten Formschale, Einbringen des aufgeschmolzenen MSM-Legierungsmaterials, insbesondere NiMnGa-basierten Legierungsmaterials, in die Formschale, ohne dass ein gesonderter Ankeimkristall vorgesehen ist, - Verfestigen des MSM-Legierungsmaterials durch Erzeugen einer sich vom Ankeimbereich über den Selektorbereich in den Kristallbereich entlang eines Erstarrungspfades bewegenden Erstarrungsfront, wobei der Erstarrungspfad im Kristallbereich entlang der Längsachse verläuft, im Selektorbereich einen von der Längsachse ausgelenkten Bereich ausbildet, dessen maximale Auslenkung, bezogen auf die Längsachse, größer als eine maximale Querschnittsweite im Selektorbereich ist, und die Längsachse (22) eine Winkelabweichung von weniger als 10°, bevorzugt weniger als 6°, weiter bevorzugt weniger als 3°, von der ersten Kristallachse aufweist, und Zerteilen des erstarrten MSM-Legierungsmaterials in eine Mehrzahl von MSM-Aktorelementen.
Abstract:
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Materialwissenschaften und betrifft ein Bauelement, welches beispielsweise für Mikrobauteile, Mikrosensoren und Mikroaktoren zur Anwendung kommen kann. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Bauelement anzugeben, bei welchem eine deutlich größere relative Längenänderungen auftritt. Die Aufgabe wird gelöst durch ein Bauelement aus einem ferromagnetischen Formgedächtnis-Material, hergestellt durch ein Verfahren, bei dem auf ein einkristallines oder biaxial texturiertes Substrat mindestens eine Opferschicht aufgebracht wird, auf die eine epitaktische oder texturierte Schicht aus einem ferromagnetischen Formgedächtnismaterial mit einer Schichtdicke von ≤ 50 μm aufgebracht wird, nachfolgend die Opferschicht mindestens teilweise entfernt wird, und während oder nach der Schichtaufbringung eine Strukturierung mindestens des ferromagnetischen Formgedächtnismaterials dahingehend realisiert wird, dass ein Aspektverhältnis erreicht wird, bei dem mindestens eine Länge um mindestens einen Faktor als 3 größer ist als die Dicke der Schicht oder der kürzesten Abmessung des Bauteils.
Abstract:
A method of making beams, clamps and other structures by curing a polymer containing a magnetostrictive material. A magnetostrictive material like TERFENOL-D (TM) is placed in a polymer. This mixture is put onto a slide in a film. The mixture is cured by UV light (or other means) so that it cross-links. A second layer of polymer with no magnetostrictive material can be cured on top of the first layer. This leads to a beam structure which exhibits a bending moment in an applied magnetic field. By aligning the magnetostrictive particles before curing with a magnetic field, a beam or other structure can be produced with aligned particles. A mask can be used to selectively cure regions where the magnetostrictive particles have different alignments on the same layer. It is possible to build up multiple layer structures with layers of magnetostrictive particles aligned in different directions.
Abstract:
An improved method for etching a magnetic tunneling junction (MTJ) structure is achieved. A stack of MTJ layers is provided on a bottom electrode 10. The MTJ stack is patterned to form a MTJ device 12 wherein sidewall damage or sidewall redeposition 14 is formed on sidewalls of the MTJ device. A dielectric layer 16 is deposited on the MTJ device and the bottom electrode. The dielectric layer is etched away using ion beam 20 etching at an angle 22 relative to vertical of greater than 50 degrees wherein the dielectric layer on the sidewalls is etched away and wherein sidewall damage or sidewall redeposition is also removed and wherein some of the dielectric layer remains on horizontal surfaces of the bottom electrode.