公开(公告)号：WO2016183889A1

公开(公告)日：2016-11-24

申请号：PCT/CN2015/081334

申请日：2015-06-12

Applicant: 深圳市鑫富达电器有限公司

Inventor： 张兵

IPC: H05B3/20 ,  H01H37/00 ,  H05B1/02

CPC classification number: H05B3/68 ,  H01H37/48 ,  H05B2213/04

Abstract: 一种温控隔热发热盘，包括一发热盘及一双触点温控器。所述双触点温控器包括一底座（1），底座（1）一侧设有第一端子（2）和第二端子（3），另一侧设有第三端子（4）和第四端子（5），第一端子（2）和第三端子（4）上分别设有第一弹片（6）和第三弹片（7）；一陶瓷顶针（12）穿过第一弹片（6）和第三弹片（7），陶瓷顶针（12）一端抵接金属管（13），另一端抵接活动件（14）；活动件（14）上套设有弹簧（15），底部设有挡片（16）；金属管（13）从底座（1）内伸出，金属管（13）内设有依次抵接的陶瓷棒（18）和金属棒（19），金属棒（19）底端抵接陶瓷顶针（12）。通过上述结构可以使得发热盘安装方便，加热快速，安全可靠，使用寿命长。

公开(公告)号：WO2016126118A1

公开(公告)日：2016-08-11

申请号：PCT/KR2016/001219

申请日：2016-02-04

Applicant: 주식회사 이코원

Inventor： 윤정섭 ,  조은자

IPC: H05B3/14 ,  A47J37/12 ,  H05B3/68

CPC classification number: A47J37/12 ,  H05B3/14 ,  H05B3/68

Abstract: 본 발명은 탄소 발열 모듈 및 이를 이용한 탄소 발열 튀김기를 제시한다. 본 발명에 따른 탄소 발열 모듈은, 본체; 본체에 마련되어 본체의 내부를 격리된 복수의 공간부로 구획하는 구획 도전부; 복수의 공간부에 각각 마련되어 본체의 내부에 수용되며 구획 도전부를 통해 공급되는 전원에 의해 발열되는 탄소 발열 블록을 포함하여 구성된다.

Abstract translation: 本发明提供一种碳热发生模块和使用其的碳热发生油炸锅。 根据本发明的碳热发生组件包括：主体; 分隔导体部分布置在本体中，以将本体的内部分隔成多个隔离的空间部分; 以及碳热发生块，其布置在所述多个空间部分中的每一个上以容纳在所述主体中，并且通过通过所述分隔导电部分供应的电力产生热量。

公开(公告)号：WO2015151151A1

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：PCT/JP2014/059435

申请日：2014-03-31

Applicant: SPPテクノロジーズ株式会社

Inventor： 速水　利泰 ,  藤井　竜介

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H05B3/68

CPC classification number: C23C16/56 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68742 ,  H05B3/68

Abstract: 　小さな発熱体で、しかも効率良く加熱することができる加熱装置、及びこれを備えたプラズマ処理装置を提供する。プラズマ処理装置１は、上部のプラズマ生成空間３ａ及び下部の処理空間４ａを有する処理チャンバ２と、処理空間４ａ内に配設され、基板Ｋが載置される基台９と、プラズマ生成空間３ａに処理ガスを供給する処理ガス供給部７と、プラズマ生成空間３ａに供給された処理ガスを、高周波電力によってプラズマ化するプラズマ生成部５と、プラズマ生成部５に高周波電力を供給するプラズマ生成用高周波電源６と、加熱装置１３とを備える。加熱装置１３は、電気抵抗率ρ［Ω・ｍ］と透磁率μ［Ｈ／ｍ］との積であるρ・μ［Ω・Ｈ］が、８．０×１０ －１３ 以上の値を有する導体を含む発熱体１４と、発熱体１４に高周波電力を供給する加熱用高周波電源１６とから構成され、発熱体１４は、絶縁体１５中に埋設された状態で、基台９に付設される。

Abstract translation: 提供：能够使用小型加热元件有效地加热的加热装置; 以及设置有加热装置的等离子体处理装置。 等离子体处理装置（1）设置有：包括上等离子体产生空间（3a）和下处理空间（4a）的处理室（2）。 布置在处理空间（4a）内并具有放置在其上的基板（K）的基部（9） 向所述等离子体产生空间（3a）供给处理气体的处理气体供给部（7）; 使用高频电力将供给到等离子体产生空间（3a）的处理气体转换为等离子体的等离子体产生部（5） 用于等离子体产生的高频电源（6），其向等离子体产生部分（5）提供高频电力; 和加热装置（13）。 加热装置（13）由以下部分构成：加热元件（14），其包括导体，其中电阻率ρ[Ω·m]和磁导率μ[H / m]的乘积由ρ·μ[ Ω·H]的值为8.0×10-13以上; 和用于向加热元件（14）提供高频电力的用于加热的高频电源（16）。 加热元件（14）嵌入在绝缘体（15）内，并连接到基座（9）上。

公开(公告)号：WO2015015360A1

公开(公告)日：2015-02-05

申请号：PCT/IB2014/063204

申请日：2014-07-18

Applicant: BSH BOSCH UND SIEMENS HAUSGERÄTE GMBH

Inventor： GARDE ARANDA, Ignacio ,  GELLA LOPEZ, Estefania ,  GRACIA CAMPOS, Oscar ,  HERRERA RODRIGUEZ, Javier ,  PEINADO ADIEGO, Ramon ,  SIN USE, Alberto Ignacio ,  TORRUBIA MARCO, Demetrio

IPC: H05B6/06 ,  H05B6/12 ,  H05B3/68

CPC classification number: H05B6/062 ,  H05B3/68 ,  H05B2203/037 ,  H05B2213/03

Abstract: Die Erfindung geht aus von einer Kochfeldvorrichtung (10), insbesondere einer Induktionskochfeldvorrichtung, mit zumindest einer Heizanordnung (26), die zumindest zwei Heizelemente (12) aufweist, die nebeneinander angeordnet und zumindest zu einem Erhitzen von aufgestelltem Gargeschirr (14) vorgesehen sind, und mit zumindest einer Steuereinheit (16). Um eine gattungsgemäße Vorrichtung mit verbesserten Eigenschaften hinsichtlich eines hohen Komforts für einen Bediener bereitzustellen, wird vorgeschlagen, dass die Steuereinheit (16) dazu vorgesehen ist, zumindest in einem Betriebsmodus in Abhängigkeit von einer Größe zumindest eines aufgestellten Gargeschirrs (14) eine Anzahl an virtuellen Heizzonen (18) mit unterschiedlicher Heizleistungsdichte festzulegen, wobei die virtuellen Heizzonen (18) von nebeneinander angeordneten Heizelementen (12) gebildet sind, die von ihrer Anzahl und/oder Größe zu einem Betreiben des Gargeschirrs (14) geeignet sind.

Abstract translation: 本发明是基于一个炉灶装置（10）上，在具有与至少一个加热器组件（26）特别是电磁炉的装置中的至少两个加热元件（12）并排布置，并在加热竖立的烹饪容器（14）至少提供，并 与至少一个控制单元（16）。 为了提供一个通用的设备具有改进的特性相对于一高舒适用于操作者建议，所述控制单元（16）被提供，至少在一个操作模式下响应于一个尺寸至少一个已建立Gargeschirrs（14）多个虚拟的加热区的 组（18）具有不同的加热功率密度，形成并置的加热元件（12）的虚拟的加热区（18），其适合通过它们的数量和/或尺寸给Gargeschirrs（14）的操作。

公开(公告)号：WO2013149792A1

公开(公告)日：2013-10-10

申请号：PCT/EP2013/054923

申请日：2013-03-12

Applicant: ELECTROLUX HOME PRODUCTS CORPORATION N. V.

Inventor： HOLZINGER, Jochen ,  MEIDER, Claus ,  HOFFMANN, Harald

IPC: H05B6/12

CPC classification number: F21V33/0044 ,  F21W2131/30 ,  F24C7/083 ,  F24C15/102 ,  G02B5/02 ,  G09F23/0058 ,  H05B3/68 ,  H05B3/742 ,  H05B6/1209

Abstract: The present invention relates to an illumination device (20) for a cooking zone element (10) provided for a cooking hob covered by a transparent panel. The illumination device (20) is provided for a cooking zone element (10) with a central cutout (40) in a central portion of said cooking zone element (10). The illumination device (20) includes at least one diffuser screen (14) arranged or arrangeable in an upper portion of the central cutout (40) of the cooking zone element (10) and parallel to the transparent panel of the cooking hob. The illumination device (20) includes at least one light source element (30) arranged or arrangeable below the central cutout (40) of the cooking zone element (10). The illumination device (20) includes an optical lens (28) enclosing an upper portion of the light source element (30). Further, the present invention relates to a corresponding cooking zone element and cooking hob.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于烹饪区元件（10）的照明装置（20），该烹饪区域元件（10）设置用于由透明面板覆盖的烹饪灶台。 为烹饪区域元件（10）提供照明装置（20），其中央切口（40）位于所述烹饪区域元件（10）的中心部分。 照明装置（20）包括布置或布置在烹饪区域元件（10）的中央切口（40）的上部并平行于烹饪灶台的透明面板的至少一个扩散器筛（14）。 照明装置（20）包括布置或布置在烹饪区域元件（10）的中心切口（40）下方的至少一个光源元件（30）。 照明装置（20）包括封闭光源元件（30）的上部的光学透镜（28）。 此外，本发明涉及相应的烹饪区域元件和烹饪灶台。

公开(公告)号：WO2013078066A1

公开(公告)日：2013-05-30

申请号：PCT/US2012/065347

申请日：2012-11-15

Applicant: ASM IP HOLDING B.V. ,  SHERO, Eric ,  HALPIN, Michael ,  WINKLER, Jerry

Inventor： SHERO, Eric ,  HALPIN, Michael ,  WINKLER, Jerry

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H05B1/0233 ,  H01L21/67115 ,  H05B3/68

Abstract: A reaction chamber including a substrate supporting member positioned within the reaction chamber, the reaction chamber having a first region and a second region, a shield positioned within the second chamber and movable with the substrate supporting member, and wherein the shield is adjacent at least a bottom surface of the substrate supporting member.

Abstract translation: 一种反应室，包括位于所述反应室内的基板支撑构件，所述反应室具有第一区域和第二区域，所述反应室设置在所述第二室内并且可与所述基板支撑构件一起移动，并且其中所述屏蔽件至少与 衬底支撑构件的底表面。

公开(公告)号：WO2012064543A1

公开(公告)日：2012-05-18

申请号：PCT/US2011/058590

申请日：2011-10-31

Applicant: LAM RESEARCH CORPORATION ,  SINGH, Harmeet

Inventor： SINGH, Harmeet

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/3065 ,  B29D7/01 ,  H01C17/28 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6831 ,  H05B3/68 ,  H05B2203/037

Abstract: Abstract A heating plate for a substrate support assembly in a semiconductor plasma processing apparatus, comprises multiple independently controllable planar heater zones arranged in a scalable multiplexing layout, and electronics to independently control and power the planar heater zones. Each planar heater zone includes one or more heater elements made of an insulator-conductor composite. A substrate support assembly in which the heating plate is incorporated includes an electrostatic clamping electrode and a temperature controlled base plate. Methods for manufacturing the heating plate include bonding together ceramic sheets having planar heater zones, power supply lines, power return lines and vias.

Abstract translation: 摘要：一种用于半导体等离子体处理装置中的基板支撑组件的加热板，包括以可伸缩复用布局布置的多个可独立控制的平面加热器区域，以及用于独立地控制和供电平面加热器区域的电子装置 每个平面加热器区域包括由绝缘体 - 导体复合材料制成的一个或多个加热器元件。 其中结合加热板的基板支撑组件包括静电夹持电极和温度控制的基板。 制造加热板的方法包括将具有平面加热区，电源线，电源返回线和通孔的陶瓷片接合在一起。

公开(公告)号：WO2010139276A1

公开(公告)日：2010-12-09

申请号：PCT/CN2010/073497

申请日：2010-06-03

Applicant: 漳州灿坤实业有限公司 ,  潘钟和 ,  卢仁勇

Inventor： 潘钟和 ,  卢仁勇

IPC: A47J37/04 ,  F24C7/06 ,  H05B3/68

CPC classification number: A47J37/0676 ,  A47J37/0611 ,  H05B3/68

公开(公告)号：WO2006099277A3

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：PCT/US2006008871

申请日：2006-03-14

Applicant: HICKORY IND INC ,  MAROTI STEVEN

Inventor： MAROTI STEVEN

IPC: H05B3/68 ,  A47J37/04 ,  A47J37/06 ,  A47J37/08

CPC classification number: F24C15/102 ,  A21B1/44 ,  H05B3/0076 ,  H05B3/68 ,  H05B2203/032

Abstract: An open-air cooking apparatus for cooking pizza and the like, includes a horizontal, rotatable, circular turntable cooking surface (4), sized to support and cook several items simultaneously. The turntable (4) should preferably structured to provide constant, even heat throughout its surface. As the oven is open-air, the cooking of the items will be primarily conduction of heat from the surface of the turntable through the bottom of the item. As the items rotate, they will pass under a static radiant heat source (28) located above the turntable. The radiant heat source will thus direct heat towards the top of the item only periodically, i.e. at one point per rotation. This allows the item, such as a pizza, to cook thoroughly from below by way of the cooking surface, while cooking and/or browning the top portion at a different, desired degree.

Abstract translation: 一种用于烹饪比萨饼等的露天烹饪设备，包括水平的，可旋转的圆形转盘烹饪表面（4），其大小可以同时支撑和烹调多个物品。 转盘（4）应优选地构造成在整个表面上提供恒定均匀的热量。 当烤箱是露天的时候，物品的烹饪将主要是从转台的表面通过物品的底部传导热量。 当物品旋转时，它们将通过位于转台上方的静态辐射热源（28）。 因此，辐射热源将周期性地将热量引向物品的顶部，即每旋转一点。 这允许诸如比萨饼的物品通过烹饪表面从下方彻底烹饪，同时以不同的期望程度烹饪和/或使顶部部分变褐。

公开(公告)号：WO2008106520A3

公开(公告)日：2008-10-23

申请号：PCT/US2008055145

申请日：2008-02-27

Applicant: SEMITOOL INC ,  WIRTH PAUL Z

Inventor： WIRTH PAUL Z

IPC: H01L21/318 ,  C23C16/34

CPC classification number: H05B3/68 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719

Abstract: A thermal processor is adapted for annealing substrates. The processor has a sealed process chamber. Air is excluded from the process chamber during processing to avoid oxidation of substrate surfaces, such as copper surfaces. The substrate temperature is controlled by selectively positioning the substrate between a hot plate and a cold plate operating at steady state conditions. During loading and/or unloading, the air flow is induced over the substrate. This keeps the substrate at a temperature low enough to avoid oxidation, even though the heater may remain on.

Abstract translation: 热处理器适用于退火衬底。 处理器具有密封的处理室。 在加工过程中，处理室中排除空气，以避免衬底表面如铜表面的氧化。 通过将基板选择性地定位在在稳态条件下操作的热板和冷板之间来控制衬底温度。 在装载和/或卸载期间，空气流在衬底上被感应。 这样使得衬底处于足够低的温度以避免氧化，即使加热器可能保持开启。