印花工艺
    2.
    发明申请
    印花工艺 审中-公开

    公开(公告)号:WO2018205078A1

    公开(公告)日:2018-11-15

    申请号:PCT/CN2017/083409

    申请日:2017-05-08

    Applicant: 沈亚阳

    Inventor: 沈亚阳

    CPC classification number: D06P1/16 D06P1/41 D06P1/651 D06P1/673

    Abstract: 一种印花工艺,所述印花工艺包括调浆、地色浸染、烘干、高温常压汽蒸、冷水洗、还原水洗、热水洗、烘干定型,其特征在于:所述调浆包括原糊制备、印花浆制备、固色剂制备;所述固色剂中添加硫酸钾-硫代硫酸钾及苯乙烯;所述着色染料为碱剂染料,所述增稠剂包括丙烯酸、顺丁烯二酸酐等和二乙烯苯,三者依次按40∶30∶1的配比进行混合;所述地色浸染液包含不耐碱分散染料、柠檬酸、海藻酸钠。优点在于:操作简单、性能稳定、过程控制容易,花纹轮清洗度好,能得到地色丰满的印花效果。

    化合物又はその互変異性体、着色組成物、染色物、並びに、染色布及びその製造方法

    公开(公告)号:WO2023042484A1

    公开(公告)日:2023-03-23

    申请号:PCT/JP2022/020557

    申请日:2022-05-17

    Abstract: 式(1)で表される化合物又はその互変異性体、着色組成物、染色物、並びに、染色布及びその製造方法〔式(1)中、Ar1及びAr2:式(A-1)~式(A-8)で表される基、R:水素原子等、M:二価以上の金属原子、L:Mの価数、X-:塩化物イオン等、m:0以上の整数、n:1以上の整数、nとmとの合計:L、式(A-1)~式(A-4)中、R1~R14:水素原子等、式(A-5)中、X1:-N(-W1)-等、W1:アルキル基等、Y1及びY2:=C(-W2)-等、W2:水素原子等、Z:水素原子等、式(A-6)~式(A-8)中、R15~R33:水素原子等、R15~R19の1つ以上、R20~R26の1つ以上、及びR27~R33の1つ以上:スルホ基等、*:結合位置。〕。

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