FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, IMAGING ASSEMBLY AND USE

    公开(公告)号:WO2022015410A1

    公开(公告)日:2022-01-20

    申请号:PCT/US2021/032847

    申请日:2021-05-18

    Abstract: A relief-forming precursor includes a substrate and a relief-forming layer having: a polymer; at least one photopolymerizable monomer; a photopolymerization initiator; and a low surface energy monomer. A relief-forming assembly includes a relief-forming precursor having a low surface energy monomer and a mask element that is in complete optical contact with the relief-forming surface. A method of making a relief image includes: exposing the relief-forming layer to curing UV radiation through the mask element to form an imaged relief-forming layer with polymerized regions and non-polymerized regions; removing the mask element from the imaged relief-forming layer; and developing the imaged relief-forming layer by removing the non-polymerized regions, thereby forming a relief image. A relief image layer has an elastomer and copolymer that includes at least one photopolymerized monomer and a low surface energy monomer that has a silicone moiety with a relief surface having the silicone moiety.

    ネガ型感光性樹脂組成物、パターン構造、及びパターン硬化膜の製造方法

    公开(公告)号:WO2021187324A1

    公开(公告)日:2021-09-23

    申请号:PCT/JP2021/009868

    申请日:2021-03-11

    Abstract: ポリシロキサンに基づく、新たな感光性樹脂組成物、即ち、ネガ型感光性樹脂組成物を提供する。ネガ型感光性樹脂組成物は、(A)一般式(1)で表される第一構成単位を含むポリシロキサン化合物、(B)光誘起性硬化促進剤、(C)溶剤、を含む。 [(Rx)bR1mSiOn/2] (1) (一般式(1)中、Rxは、一般式(1a)で表される一価基であり、 R1は水素原子、炭素数1以上3以下のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシ基、炭素数1以上3以下のアルコキシ基および炭素数1以上3以下のフルオロアルキル基からなる群から選択される置換基であり、 bは1以上3以下の数、mは0以上3未満の数、nは0超3以下の数であり、b+m+n=4であり、 Rx、R1が複数個ある時はそれぞれ独立して置換基のいずれかが選択され、 一般式(1a)中、Xは水素原子であり、aは1以上5以下の数であり、破線は結合手を表す。)

Patent Agency Ranking